(01/07/2020). Solicitante/s: Gerber, Thomas. Inventor/es: GERBER, THOMAS.

Procedimiento de producción de estructuras de ácido silícico de baja reticulación en una matriz polimérica, caracterizado porque a) es generado un sol de SiO2 en un disolvente, por lo que las partículas del sol tienen preferentemente un tamaño de 0,5 nm a 20 nm, b) es preparada una solución de un polímero en un disolvente, c) son mezclados de forma homogénea la solución y el sol, en el que el disolvente es agua o alcohol o una mezcla de agua y alcohol, y el polímero es polivinilpirrolidona (PVP), y en el que el SiO2 y el polímero en la etapa c) están presentes en una relación de masa (SiO2/polímero) de 0,5/99,5 a 50/50.

PDF original: ES-2821395_T3.pdf

(08/01/2020). Solicitante/s: Nouryon Chemicals International B.V. Inventor/es: GREENWOOD, PETER, HARRY, JOHAN, LAGNEMO, HANS.

Un método de producción de una dispersión que comprende a) mezclar una dispersión acuosa de partículas de sílice coloidal silanizada que tienen una relación en peso de silano respecto a sílice que varía de aproximadamente 0,1 a aproximadamente 1,5 con al menos un compuesto orgánico que contiene al menos dos grupos hidroxilo para proporcionar una dispersión acuosa de partículas de sílice coloidal silanizada y dicho al menos un compuesto orgánico, en donde el contenido de alcohol monofuncional en la dispersión es inferior al 10 % en peso, y en donde menos del 10 % en peso de dichas partículas de sílice coloidal silanizada se modifican mediante un alcohol monofuncional; b) retirar agua de la dispersión acuosa formada hasta que el agua restante en la dispersión esté por debajo de aproximadamente el 10 % en peso.

PDF original: ES-2774187_T3.pdf

(07/08/2019). Solicitante/s: Gerber, Thomas. Inventor/es: GERBER, THOMAS.

Un procedimiento para la producción de estructuras de ácido silícico de baja reticulación, en el que: a) se produce un sol, b) se reemplaza el agua contenida en el sol con un disolvente orgánico soluble en agua, c) después de la eliminación del agua por un disolvente orgánico, se esterifican los grupos SisurfaceOH presentes en el sol en la superficie interna de los clústeres de ácido silícico a SisurfaceOR, en donde R es un radical orgánico, en donde R es un grupo alquilo o arilo seleccionado del grupo que consiste en metilo, etilo, propilo, butilo, pentilo, hexilo y fenilo, y en donde el grado de esterificación de los clústeres de ácido silícico es superior al 50 %.

PDF original: ES-2754053_T3.pdf

(19/02/2019). Solicitante/s: AKZO NOBEL CHEMICALS INTERNATIONAL B.V. Inventor/es: SANNE,ERIK, HANSSON,FREDDIE.

Un sol de sílice que tiene un pH superior a 10, una relación molar de SiO2:M2O, en la que M es metal alcalino, de 6:1 a 16:1, una concentración de sílice soluble superior a 3000 mg de SiO2/l, y un valor de S de 18 a 40%.

PDF original: ES-2700776_T3.pdf

(16/03/2005). Solicitante/s: HANSE CHEMIE AG. Inventor/es: ADAM, JOHANNES, ADEBAHR, THORSTEN, PYRLIK, MANFRED, ROSCHER, CHRISTOF, WIECZORRECK, ROBERT, EGER, CHRISTIAN.

Dispersión de dióxido de silicio, que comprende: a) una fase fluida externa, que comprende: a1) monómeros, oligómeros y/o prepolímeros polimerizables, que son transformables en polímeros mediante reacciones no radicalarias; y/o a2) polímeros, b) una fase dispersa, que comprende dióxido de silicio amorfo; caracterizada porque el tamaño de partícula medio dmax medido mediante dispersión de neutrones a pequeño ángulo (SANS) del dióxido de silicio se encuentra entre 3 y 50 nm en una semianchura máxima de la curva de distribución de 1,5 dmax, y porque la dispersión comprende silano.

(16/12/2000). Solicitante/s: BAYER AG. Inventor/es: BLOCK, HANS-DIETER, DR., BREKAU, UWE, DR., ROSENOW, BERND.

LA PRESENTE INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPERSIONES DE SILICASOL POBRES EN SAL EN ALCOHOLES DE BAJO PUNTO DE EBULLICION, Y DEL EMPLEO DE LOS ORGANOSOLES, OBTENIDOS SEGUN ESTE PROCEDIMIENTO, PARA LA FABRICACION DE REVESTIMIENTOS SOBRE SUSTRATOS METALICOS Y NO METALICOS.

(16/02/1994). Solicitante/s: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Inventor/es: WATANABE, YOSHITANE, ANDO, MIKIO, TANIMOTO, KENJI, KAGAMIMIYA, TSUTOMU, KAWASHIMA, MAKOTO.

Sol de sílice estable que tiene una concentración de SiO2 de 0,5 a 30% en peso comprendiendo un medio líquido y una serie de partículas coloidales de óxido silícico amorfo, poseyendo cada una de dichas partículas coloidales forma alargada, dicha forma se caracteriza por un tamaño (D1) de las partículas de 40 a 500 nm medido por el método de dispersión dinámica de la luz y alargamiento solamente en un plano y un grosor uniforme comprendido entre 5 y 40 nm según la longitud, observado por el microscopio electrónico, con un grado de alargamiento de 5 a 30 en términos de la proporción de dimensiones D1/D2 en el que D2 representa un diámetro calculado por la ecuación D2 = 2720/S y en la que S representa un área de supercie especíca en m 2 /g de dichas partículas coloidales de sílice amorfo.

(01/02/1988). Solicitante/s: THE SHERWIN-WILLIAMS COMPANY. Inventor/es: GUPTA, GOUTAM.

UN PROCEDIMIENTO PARA TRATAR LA SILICE DE UN ORGANOSOL DE SILICE, CONSISTENTE EN SILICE DISPERSA EN UN DISOLVENTE ORGANICO MISCIBLE CON AGUA, CON UN TRIALCOXISILANO A FIN DE HACER LA SILICE MAS ORGANOFILA MIENTRAS SE MINIMIZA LA AUTOCONDENSACION DEL TRIALCOXISILANO, CUYO PROCEDIMIENTO COMPRENDE: A) MEZCLAR AGUA Y UNA CANTIDAD CATALITICA DE ACIDO CON EL ORGANOSOL DE SILICE; B) AÑADIR GRADUALMENTE A LA MEZCLA EN CONDICIONES REACTIVAS UN TRIALCOXISILANO; Y C) ELIMINAR SUSTANCIALMENTE LA TOTALIDAD DEL AGUA; EN DONDE EL TRIALCOXISILANO ESTA PRESENTE EN UN NIVEL DE HASTA APROXIMADAMENTE EL 30% EN PESO, EN BASE AL PESO DE LA SILICE, Y EL AGUA SE AÑADE EN UNA CANTIDAD DE HASTA APROXIMADAMENTE EL 3% EN PESO, EN BASE AL PESO DEL DISOLVENTE ORGANICO MISCIBLE CON AGUA.