(25/09/2018) Aparato de chapar cilindros, que comprende: un baño de chapar configurado para almacenar una solución de chapar; medios de sujeción para sostener un cilindro a tratar por ambos extremos en una dirección longitudinal del mismo de manera que sea hecho girar y sea activado, y que colocan el cilindro a tratar dentro del baño de chapar; y un par de electrodos insolubles opuestos, que están instalados verticalmente de manera que se enfrentan a ambas superficies laterales del cilindro a tratar dentro del baño, y que están configurados para ser alimentados con una corriente predeterminada, siendo el par de electrodos insolubles opuestos llevados a la proximidad de ambas superficies laterales del cilindro a tratar con intervalos predeterminados para chapar una superficie…

(12/09/2012) Un método para formar un componente de una estructura conductora sobre un sustrato, que comprende: en unprimer paso, aplicar un tratamiento superficial a dicho sustrato para formar una zona de patrón que tiene al menos ciertaconductividad eléctrica; en un segundo paso, galvanizar la zona de patrón por medio de una herramienta quecomprende un primer electrodo y una fuente de electrolito para el suministro in situ de electrolito, proporcionando unacorriente de ánodo al primer electrodo, haciendo que la zona de patrón funcione como un cátodo al menos en lasproximidades de la herramienta, y haciendo pasar el electrolito entre dicha zona de patrón y dicho primer electrodo,depositando con ello material conductor sobre dicha zona de patrón, caracterizado porque los pasos…

(09/08/2011) Procedimiento para la deposición galvánica de una capa de cromo duro sobre una superficie de sustrato que presenta las siguientes etapas: • poner en contacto la superficie del sustrato a revestir con un electrólito apropiado para deposición galvánica que contiene cromo;• aplicar una tensión entre la superficie del sustrato a revestir y un contraelectrodo para la deposición galvánica de una capa de cromo duro sobre la superficie del sustrato, en el que se realiza la deposición en un recipiente esencialmente estanco frente a gases del entorno, en el que se ajusta una depresión en el recipiente estanco frente a gases del entorno, al menos durante la aplicación de la tensión, y en el que se mueve la superficie del sustrato y el electrólito que contiene cromo entre sí…

(17/01/2011) Sistema robótico de orientación y soporte catódico en máquina de electroconformado.La presente invención proporciona un sistema computerizado útil para la orientación, de manera controlada, del mandril modelo o cátodo a tratar en un proceso de electroconformado que mejore la uniformidad de espesor del material electrodepositado o cáscara electroconformada; combinando un procedimiento y un dispositivo mecánico , adaptado a una máquina de electroconformado , que permiten dirigir el movimiento, previamente obtenido mediante una aplicación informática instalada en un ordenador , de un mandril, modelo o cátodo durante un proceso de electroconformado, mientras la electrodeposición está en curso sin que ésta deba ser interrumpida, de tal forma que las posiciones dirigidas del mandril, modelo o cátodo permitan obtener una distribución…

(16/02/2004) Método para depositar por galvanoplastia un revestimiento metálico en por lo menos una parte de la superficie de un objeto , que incluye las siguientes etapas: colocar el objeto en un recipiente , provisto de unos medios para permitir el acceso de fluido a un volumen interior, en el que dicho objeto está contenido, y unos medios para permitir la salida de dicho fluido; proveer dicho recipiente de unos medios anódico y catódico para que dicho objeto se vuelva catódico con respecto a un ánodo que se extiende hacia el interior de dicho volumen; disponer unos medios para que hacer que, por lo menos dos fluidos diferentes, inclusive por lo menos una solución galvanoplástica…