(20/03/2019). Solicitante/s: GOO CHEMICAL CO., LTD.. Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA, SUZUKI,FUMITO, MARUSAWA,HISASHI.

Una composición de resina para máscaras, que comprende: una primera resina que se puede obtener mediante una reacción de adición de un anhídrido de ácido polibásico con un aducto de un compuesto etilénicamente insaturado que tiene un grupo carboxilo y una resina epoxi bifuncional; y una segunda resina que tiene un grupo que se puede obtener por una reacción de adición de un grupo epoxi con un ácido monocarboxílico y un grupo que se puede obtener por una reacción de un grupo epoxi con un ácido polibásico, en la que el compuesto etilénicamente insaturado contiene un monoacrilato de w-carboxi-policaprolactona representado por la siguiente fórmula general : H2C-CHCOO(C5H10COO)nH en la que n es un número entero de 1 o más.

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(01/03/2007). Solicitante/s: SMS DEMAG AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: DENKER, WOLFGANG.

Dispositivo para flexionar los cilindros en una caja de laminación de varios cilindros, con bloques de flexión (5, 5a; 5’, 5a’) fijados por el lado de entrada y de salida entre las piezas de montaje de cilindro y las ventanas de bastidor que pueden tratarse mediante medios de ajuste, caracterizado porque a los bloques de flexión (5, 5a) del primer bastidor de cilindros se asigna un cilindro de émbolo , y a los bloques de flexión (5’, 5a’) del bastidor de cilindros (6’) opuesto un dispositivo de posicionamiento vertical.

(01/03/2005). Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Inventor/es: LAWTON, JOHN, ALAN, CHAWLA, CHANDER, PRAKASH.

Una composición fotosensible que comprende: (a) 30-70% en peso de un material que contiene epóxido; (b) 5-35% en peso de un material acrílico; (c) al menos un fotoiniciador catiónico; y (d) al menos un fotoiniciador por radicales libres, caracterizada porque dicha composición comprende además un componente seleccionado del grupo que consiste en un material que contiene epóxido que tiene una cadena principal de poli(óxido de tetrametileno) o un politetrahidrofurano-poliéter-poliol o un policarbonato-poliol alifático, y en la que la composición, tras el curado completo, tiene (i) un módulo de tracción en el intervalo de 1000 hasta 2000 N/mm2; (ii) un alargamiento a rotura promedio de al menos 10%; y (iii) un esfuerzo a fluencia de 24 hasta 40 N/mm 2.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

(16/04/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., WOLF, JEAN-PIERRE, STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA, SOBRE LA BASE AL MENOS DE UN COMPUESTO, QUE MUESTRA GRUPOS POLIMERIZABLES RADICALMENTE, Y AL MENOS UN FOTOINICIADOR APROPIADO PARA ESTA POLIMERIZACION, QUE ESTA CARACTERIZADO PORQUE CONTIENEN ADICIONALMENTE UN COPOLIMERO DE BLOQUE POLIOXIALQUILENO LAS FORMULAS QUIMICAS: DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 FENIL; [T] ES UN GRUPO [PS] POLISILOXANO DETERMINADO, ESPECIFICADOR EN EL TEXTO SEGUN FORMA DESCRITA; [PS] REPRESENTA GRUPOS DE LA FORMULA Y [ALQ] REPRESENTA UN GRUPO ALQUILENO CON 3 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO NUEVO COPOLIMERO DE BLOQUE DE LAS FORMULAS (I) Y (II). LAS COMPOSICIONES ENDURECIDAS MUESTRAN POR EJEMPLO UNA ALTA TENACIDAD DE IMPACTO.

(01/03/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: EMMELIUS, MICHAEL, DR., HERWIG, WALTER, DR., ERBES, KURT, DECKER, RUDOLF.

SE DESCRIBE UNA MEZCLA POLIMERIZABLE POR RADIACION, QUE CONTIENE UNA COMBINACION POLIMERIZABLE; UN AGLUTINANTE POLIMERO CON UNIDADES DE ACIDO METACRIL, UN ESTER DE ACIDO METALCRIL Y UN ESTIROL EN UN CONTENIDO DEL 40 AL 65% DE PESO, UN PIGMENTO MINERAL FINO EN ACIDO DE SILICE O BASE DE SILICATO, UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION, UNA COMBINACION CON AL MENOS DOS GRUPOS DE EPOXI EN LA MOLECULA Y UN ENDURECEDOR TERMICO PARA GRUPOS EPOXI. LA MEZCLA ES ADECUADA ESPECIALMENTE PARA MASCARA DE SOLDADURA Y PUEDE ENDURECERSE TRAS LA ILUMINACION Y DESARROLLARSE POR CALENTAMIENTO A 80 HASTA 150 C PARA UN PATRON RESISTENTE A LAS CONDICIONES DE LA SOLDADURA.

(16/09/1997). Solicitante/s: AGFA-GEVAERT AG. Inventor/es: MOHR, DIETER, ZERTANI, RUDOLF, DR., RODE, KLAUS, DR.

SE DESCRIBE UNA MEZCLA FOTOPOLIMERIZADA, LA CUAL TIENE UN AGLOMERANTE POLIMERO, UNA COMPOSICION POLIMERIZADA RADICAL CON AL MENOS UN GRUPO POLIMERIZADO Y CON AL MENOS UN GRUPO FOTOOXIDABLE EN UNA MOLECULA. TAMBIEN TIENE UNA COMPOSICION DE METALOCEN A MODO DE FOTOINICIADOR. LA MEZCLA SIRVE PARA LA ELABORACION DE PLACAS DE IMPRESION Y FOTORESITS Y SE CARACTERIZA POR UNA GRAN SENSIBILIDAD A LA LUZ, ESPECIALMENTE EN EL CAMPO ESPECTRAL VISIBLE Y POR UNA GRAN ESTABILIDAD TERMICA. SE PUEDE ILUSTRAR EN CAMPOS VISIBLES CON RAYOS LASER.

(16/03/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: SCHULTHESS, ADRIAN, DR., STEINMANN, BETTINA, HUNZIKER, MAX, DR..

COMPUESTOS FOTOSENSIBLES QUE CONTIENEN A) 5-95% EN PESO DE UN POLIESTER DE LAS FORMULAS I, II O III EN DONDE R1 EQUIVALE A UN RESTO DE ANHIDRIDO CICLICO DE UN ACIDO DICARBOXILICO DESPUES DE ELIMINAR EL GRUPO TUIDO POR C1 ALQUENILO, C6 PUEDE ESTAR INTERRUMPIDO POR O, C1 C5 O UN RESTO QUIVALE A C1 LOS ATOMOS DE CARBONO, A LOS QUE VAN UNIDOS, EQUIVALEN A UN RESTO DE CICLOPENTILENO O CICLOHEXILENO, R4 UN RESTO CON 4 A 12 ATOMOS DE CARBONO QUE CONTIENE UN GRUPO FINAL NO SATURADO Y GRUPOS CARBOXILO O ETER, A REPRESENTA UN CARBOXILATO O ALCOHOLATO MONO O MULTIFUNCIONAL DE BAJO O ALTO PESO MOLECULAR, X UN NUMERO ENTRE 0 Y 100, N UN NUMERO ENTRE 2 Y 150 Y Z UN NUMERO ENTRE 1 Y 4. B) 10-90% EN PESO DE UN (MET)ACRILATO LIQUIDO, POLIFUNCIONAL ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO, C) 0-70% EN PESO DE UN MONO MOLECULAR DE 500 COMO MAXIMO, D) 0,1-10% EN PESO DE UN FOTOINICIADOR Y, DADO EL CASO, E) 0-10% EN PESO DE ADITIVOS CORRIENTES.

(01/11/1983). Solicitante/s: RHONE-POULENC SYSTEMES.

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR PLANCHAS LITOGRAFICAS REVELADAS.UNA PLANCHA CONSTITUIDA POR UN SOPORTE METALICO, TAL COMO ALUMINIO EVENTUALMENTE ANODIZADO Y DESPUES CROMADO, SE IMPREGNA CON SILICATO SODICO, QUE PUEDE SER FLUOSILICATO, Y POSTERIORMENTE SE LE APLICA UNA CAPA DE POLIMERO HIDROSOLUBLE, TAL COMO POLIACRILAMIDA. EL SOPORTE ASI TRATADO SE REVISTE SEGUIDAMENTE CON UNA COMPOSICION QUE COMPRENDE UNA RESINA DE EPOXI-ACRILATO LIQUIDA O VISCOSA, UN MONOMERO TOMADO DEL GRUPO DE LOS ACRILATOS Y METACRILATOS DE ALCOHOLES POLIHIDROXILADOS O DE OLIGOMEROS POLIHIDROXILADOS Y ALMENOS UN FOTOSENSIBILIZADOR, EN UN ESPESOR DE 0,5 A 2 MICROMETROS. FINALMENTE SE SECA A TEMPERATURAS DE 60-80JC Y DESPUES SE IMPREGNA CON UNA CAPA DE PRODUCTO QUE FORMA BARRERA FRENTE AL OXIGENO, TAL COMO POLI(ALCOHOL VINILICO).

(16/12/1977). Solicitante/s: HERCULES INCORPORATED.

Resumen no disponible.