CIP-2021 : G03C 1/72 : Composiciones fotosensibles no cubiertas por los grupos G03C 1/005 - G03C 1/705.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B).
G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00).
G03C 1/72 · Composiciones fotosensibles no cubiertas por los grupos G03C 1/005 - G03C 1/705.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
PRODUCCION POR ENCARGO DE PELICULAS DE FORMACION DE IMAGENES POR TRANSFERENCIA DE ABLACION POR LASER.
(01/10/2002). Solicitante/s: POLAROID CORPORATION. Inventor/es: ELLIS, ERNEST, W.
PELICULAS FORMADORAS DE IMAGENES MEDIANTE TRANSFERENCIA A TRAVES DE ABLACION LASERICA ("LAT") QUE SE PRODUCEN, BAJO DEMANDA, UN SUSTRATO APROPIADO PARA FORMAR SOBRE EL MISMO UN REVESTIMIENTO DE PELICULA DISCONTINUA ABLATIVA QUE CONTENGA UNA CIERTA CANTIDAD DE PARTICULAS DE TONER, CONVENCIONALES O MODIFICADAS, FORMADORAS DE IMAGENES DE CONTRASTE. ESTAS PELICULAS OFRECEN UNA SERIE DE OPCIONES DE FLEXIBILIDAD Y VERSATILIDAD HASTA AHORA DESCONOCIDAS.
HETEROCICLOCROMENOS FOTOCROMICOS.
(01/03/2001) UN COMPUESTO DE HETEROBENZOPIRANO DE FORMULA GENERAL (I), EN DONDE R{SUB,1} REPRESENTA UN GRUPO HETEROCICLICO DE CINCO ELEMENTOS QUE CONTIENE UNO O MAS ATOMOS DE HETERO Y FUSIONADO O A LA CARA F O A LA CARA G DE LA MITAD DE BENZO DEL ESQUELETO DEL BENZOPIRANO, DICHO GRUPO HETEROCICLICO SIENDO FUSIONADO DE TAL MANERA QUE EL ATOMO DE HETERO EN EL GRUPO HETEROCICLICO ES UNIDO DIRECTAMENTE A UN ATOMO DE CARBONO EN DICHA MITAD DE BENZO, Y, OPCIONALMENTE, DICHO GRUPO HETEROCICLICO HA FUSIONADO EN EL MISMO ADEMAS UN GRUPO CARBOCICLICO O HETEROCICLICO O ES SUSTITUIDO CON UN GRUPO DE FORMULA R{SUB,4} COMO SE DEFINE MAS ABAJO;…
SILICIONAFTALOCIANINA ASI COMO PELICULAS DE CUBIERTAS DELGADAS SENSIBLES A RADIACION, Y LOS COMPUESTOS QUE LOS CONTIENEN.
(16/03/1995). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: NEUMANN, PETER, ALBERT, BERNHARD, BROSIUS, SIBYLLE, DR..
SILICIONAFTALOCIANINA DE LA FORMULA I, DONDE: NC ES UN RESTO DE UN SISTEMA NAFTALOCIANINA, QUE EN SU CASO ESTA SUSTITUIDO POR ALQUILO C1 - C10 O C1 - C10 ALCOXI, Y R EXP1 Y R (AL CUADRADO) QUE INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI SON UN RESTO DE LA FORMULA II: R EXP3 PARA UN ALQUILO C6 C20 RAMIFICADO DE LA FORMULA III: DONDE N ES DE 1 A 5, R EXP6 Y R EXP7 INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI SON ALQUILO C1 - C16, Y R EXP4 Y R EXP5 INDEPENDIENTES ENTRE SI SON ALQUILO C1 - C10 O EL RESTO OR EXP3, EN EL QUE R EXP3 TIENE EL SIGNIFICADO DADO ARRIBA, O EL RESTO R EXP1 TAMBIEN PUEDE SER ALQUILO C1 - C10, ASI COMO PELICULAS DE CUBIERTAS DELGADAS SENSIBLES A RADIACION QUE CONTIENEN ESTAS SILICIONAFTALOCIANINAS.
FOTOINICIADORES CORREACTIVOS.
(01/12/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: DORSCH, DIETER, KOHLER, MANFRED, POETSCH, EIKE, OHNGEMACH, JORG, DR., EIDENSCHINK, RUDOLF, DR., GREBER, GERHARD, PROF. DR., GEHLHAUS, JURGEN, DR.DORFNER, KONRAD, DR., HIRSCH, HANS-LUDWIG, DR.
LOS COMPUESTOS DE FORMULA (I), EN LA QUE IN REPRESENTA UNA ESTRUCTURA DE FOTOINICIADOR, A ES UN GRUPO ESPACIADOR Y RG ESUN GRUPO FUNCINAL REACTIVO Y LOS SIGNIFICADOS QUE SE INDICAN EN LA REIVINDICACION PRINCIPAL, PUEDEN APLICARSE COMO FOTOINICIADORES CORREACTIVOS PARA LA FOTOPOLIMERIZACION DE SISTEMAS QUE CONTIENEN COMPUESTOS CON INSATURACION ETILENICA.
COMPOSICION FOTOCROMATICA Y OBJETOS FOTOCROMATICOS QUE LA CONTIENEN.
(16/10/1994). Solicitante/s: ENICHEM SYNTHESIS S.P.A.. Inventor/es: RIVETTI, FRANCO, CRISCI, LUCIANA, RENZI, FIORENZO, CASILLI, NICOLA.
UNA COMPOSICION FOTOCROMATICA CONTIENE POR LO MENOS DOS COMPUESTOS FOTOCROMATICOS, DEFINIDOS POR LA FORMULA GENERAL: (FIG. A), DONDE LOS DISTINTOS SUSTITUYENTES DE R1-R7 Y X SON COMO SE DEFINEN EN LA ESPECIFICACION. EN TAL MEZCLA, POR LO MENOS UN COMPUESTO FOTOCROMATICO SE DEFINE POR LA FORMULA GENERAL, DONDE R7 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO Y POR LO MENOS OTRO COMPUESTO TAMBIEN SE DEFINE POR LA FORMULA GENERAL, DONDE R7 REPRESENTA UN GRUPO -NR8R9, DONDE R8 Y R9 TIENEN EL SIGNIFICADO DEFINIDO EN EL TEXTO.
FABRICACION DE ARTICULOS FOTOCROMICOS.
(16/08/1994). Solicitante/s: PILKINGTON PLC. Inventor/es: ORMSBY, MARY ELIZABETH, MALTMAN, WILLIAM RAMSEY.
UN PROCEDIMIENTO PARA OBTENER UN PLASTICO DE POLIURETANO, QUE TIENE PROPIEDADES FOTOCROMICAS, CARACTERIZADO PORQUE EL PROCEDIMIENTO COMPRENDE, EN UNA PRIMERA ETAPA, LA INCORPORACION DE UN COMPUESTO FOTOCROMICO DE EXCISION REVERSIBLE A POR LO MENOS UN COMPUESTO DE DIISOCIANATO, O POR LO MENOS UN POLIOL O UNA MEZCLA DE DIISOCIANATO Y UNO O MAS POLIOLES O A CUALQUIER OTRO COMPONENTE DE UNA MEZCLA QUE, CUANDO SE POLIMERIZA, PRODUCE UN POLIURETANO; COMBINAR LA MEZCLA DE LA PRIMERA ETAPA CON CUALESQUIERA OTROS COMPONENTES NECESARIOS PARA HACER POSIBLE QUE TENGA LUGAR LA POLIMERIZACION; Y POLIMERIZAR LA MEZCLA RESULTANTE PARA FORMAR UN POLIURETANO QUE INCORPORA DICHO COMPUESTO FOTOCROMICO. LOS PLASTICOS DE POLIURETANO FOTOCROMICO DE LA INVENCION SON UTILES COMO CAPAS DE INTERMEDIOS DE LAMINADOS DE VIDRIO O PLASTICOS PARA APLICACIONES ARQUITECTONICAS O PARA EN VENTANAS DE VEHICULOS O GUARDILLAS.
REACTOR LIQUIDO CABEZAL REGISTRO.
(16/07/1994) UN REACTOR LIQUIDO CABEZAL REGISTRO, TENIENDO UNA SENDA LIQUIDA COMUNICADA AL EVACUADOR DE DESCARGA DEL LIQUIDO PROBADO EN UNA SUPERFICCIE DE SUSTRATO, DICHA SENDA ES FORMADA EXPONIENDO UNA VETA DE RESINA COMPOSICION CURABLE CON UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA A UN MODELO CLICHE PREDETERMINADA CON EL USO DE DICHO RAYO DE ENERGIA ACTIVA A CONSECUENCIA FORMA UNA REGION VULCANIZADA DESDE DICHA VETA, LA COMPOSICION DE RESINA SIENDO UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA CURABLE INCLUYENDO: A) COMPRENDE UN POLIMERO DE INJERTO COPOLIMERIZADO: LINEA DE CADENAS COMPUESTAS GENERALMENTE DE UNIDADES ESTRUCTURALES UN MONOMERO REPRESENTADO EN LA FORMULA GENERAL MOSTRADA ABAJO: EN QUE R1 A R2 REPRESENTADO…
CABEZAL DE REGISTRO PARA INYECCION DE LIQUIDO.
(01/07/1994) UN CABEZAL DE REGISTRO PARA INYECCION DE LIQUIDO QUE TIENE UN CONDUCTO DE LIQUIDO COMUNICADO A LA SALIDA DE DESCARGA DEL LIQUIDO PROVISTO EN LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO, DICHO CONDUCTO ESTA FORMADO PARA RETENER UNA CAPA DE COMPOSICION RESINOSA CURABLE CON UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA PARA UN MODELO EXPUESTO PREDETERMINADO CON EL USO DE DICHO RAYO DE ENERGIA ACTIVA PARA ALLI FORMAR UNA REGION CURADA DE DICHA COMPOSICION RESISONA Y QUITAR LA REGION NO CURADA DE DICHA CAPA, DICHA COMPOSICION RESINOSA TIENE UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA CURABLE DE UNA COMPOSICION RESINOSA QUE COMPRENDE, (A) UN INJERTO DE POLIMERO COPOLIMERIZADO COMPRENDE CADENAS ALINEADAS COMPUESTAS DE UNIDADES ESTRUCTURALES…
SISTEMA PARA LA VISUALIZACION DE LA EXPOSICION A RADIACION ULTRAVIOLETA Y PARA LA UTILIZACION DE LA RADIACCION ULTRAVIOLETA PARA EFECTUAR CAMBIOS DE COLOR.
(16/03/1994). Solicitante/s: XYTRONYX, INC. Inventor/es: MULLIS, KARY BANKS.
SE PRESENTA UN SISTEMA FOTOQUIMICO PARA LA VISUALIZACION DE LA EXPOSICION A RADIACION ULTRAVIOLETA Y PARA LA UTILIZACION DE RADIACION ULTRAVIOLETA PARA EFECTUAR CAMBIOS DE COLOR VISIBLES QUE SE REFIEREN A UN PROCESO QUE RESPONDE A LA RADIACCION ULTRAVIOLETA EN EL CUAL SE FORMA UN FOTOACIDO SOBRE LA IRRADIACCION DE UN COMPUESTO PROGENITOR FOTOACIDO CON LUZ ULTRAVIOLETA Y EN EL CUAL LA TRANSFERENCIA DE PROTONES A UNA SUBSTANCIA TINTORA PROVOCA QUE LA SUBSTANCIA TINTORA SUFRA UN CAMBIO DE COLOR VISIBLE. SI SE DESEA EL SISTEMA SUFRE DICHOS CAMBIOS DE COLOR HASTA UNA EXTENSION DIRECTAMENTE PROPORCIONAL A LA CANTIDAD ACUMULATIVA DE INCIDENCIA ULTRAVIOLETA SOBRE EL MISMO. SE PUEDEN DAR EJEMPLOS DE MATERIALES QUE PUEDEN FABRICARSE EN PELICULAS, FIBRAS, FORMADOS EN OBJETOS O FORMULADOS COMO TINTAS, PINTURAS Y SIMILARES.
DERIVADOS DE TRIAZINA SUSTITUIDA.
(01/07/1993). Solicitante/s: HORSELL PLC. Inventor/es: COYLE, JOHN DAVID, HORTON, AVERIL MYVANWY.
LA INVENCION SE REFIERE A UN DERIVADO DE TRIAZINA DE FORMULA (I) EN LA QUE R ES UN GRUPO ALQUILO O ARILO, X ES AZUFRE, SELENIO O TELURO, N Y M SON CERO O UN ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE M+N MAYOR DE 3, Y P Y Q SON CERO O UN NUMERO ENTERO DE 1 A 3, NO SIENDO LA SUMA DE P+Q MAYOR DE 3. ESTAS TRIAZINAS PUEDEN USARSE EN COMPOSICIONES FOTOPOLIMERIZABLES.
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION PLANOGRAFICA.
(16/01/1986). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION PLANOGRAFICA. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE APLICA SOBRE UN PORTADOR LITOGRAFICO DE CAPAS UNA SOLUCION DE UNA MEZCLA FOTOSENSIBLE, FORMADA POR UN COMPUESTO FOTOSENSIBLE Y POR UN LIGANTE INSOLUBLE EN AGUA Y SOLUBLE EN SOLUCIONES ACUOSAS ALCALINAS, SIENDO DICHO LIGANTE UN PRODUCTO DE POLICONDENSACION DE UN FENOL DE FORMULA GENERAL (I) Y UN COMPUESTO DE FORMULA GENERAL (II); SEGUNDA, SE SECA LA SOLUCION APLICADA PARA OBTENER UNA CAPA FOTOSENSIBLE DELGADA Y UNIFORME; TERCERA, EL MATERIAL DE COPIA ASI OBTENIDO SE EXPONE A LA IMAGEN CON LUZ ACTINICA; CUARTA, LAS AREAS SIN IMAGEN DE LA CAPA SE ELIMINAN MEDIANTE UNA SOLUCION DE REVELADO ACUOSA-ALCALINA; Y POR ULTIMO, SE CALIENTA LA PLANCHA DE IMPRESION REVELADA PARA ENDURECER LA MATRIZ DE IMPRESION FORMADA.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UNA IMAGEN EN RELIEVE O DE UNA FOTORESISTENCIA.
(16/12/1985). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UNA IMAGEN EN RELIEVE O DE UNA FOTORRESISTENCIA. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE HACE REACCIONAR UNA SOLUCION DE BIS-TRICLOROMETIL-S-TRIAZIN , DE FORMULA GENERAL (I), EN LA QUE R1 Y R2 REPRESENTAN ATOMOS DE HIDROGENO O GRUPOS ALQUILO; R3 Y R4 REPRESENTAN CADA UNO DE ELLOS UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO A,6-BIS-TRICLOROMETIL-S-TRIAZIN-2-ILO; R5 Y R6 REPRESENTAN ATOMOS DE HIDROGENO O HALOGENO O GRUPOS ALQUILO, ALQUENILO O ALCOXI; Y AR ES UN GRUPO AROMATICO MONONUCLEAR O BINUCLEAR, SUSTITUIDO O NO SUSTITUIDO, Y DE UN COMPUESTO QUE ES CAPAZ DE REACCIONAR, CON EL PRODUCTO DE FABRICACION DE LA TRIAZINA; SEGUNDA, EL COMPUESTO OBTENIDO SE APLICA EN UN DISOLVENTE ORGANICO EN FORMA DE UNA CAPA FINA, SECANDOSE A CONTINUACION; Y POR ULTIMO, SE EXPONE EL MATERIAL FOTOSENSIBLE CON LA IMAGEN Y SE ELIMINAN LAS ZONAS DE LA CAPA DE MAYOR SOLUBILIDAD, MEDIANTE LAVADO CON UNA SOLUCION REVELADORA.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE IMAGENES EN RELIEVE.
(01/12/1985). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE IMAGENES EN RELIEVE. CONSISTE EN DISOLVER EN UN DISOLVENTE UNA COMPOSICION DE UN COMPUESTO ORGANICO FOTOSENSIBLE Y HETEROCICLICO DE FORMULA (I), DONDE L ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN SUSTITUYENTE DE FORMULA CO-(R1)N(CX3)M, M ES UN RADICAL ALQUILENO O ALQUENILENO SUSTITUIDO O NO SUSTITUIDO, Q ES UN ATOMO DE AZUFRE, ELENIO U OXIGENO, UN GRUPO DIALQUILMETILENO U OTROS, R ES UN RADICAL ALQUILO, ARALQUILO O ALCOXIALQUILO, R1 ES UN GRUPO AROMATICO CARBOCICLICO O HETEROCICLICO, X ES UN ATOMO DE CLORO, BROMO O YODO, Y N 0 Y M 1 O N 1 Y M 1 O 2; APLICAR LA SOLUCION OBRENIDA EN UN SOPORTE DE CAPAS; EXPONER LA CAPA A UNA IMAGEN REACCIONANDO EL COMPUESTO ETILENICAMENTE NO SATURADO CONTENIDO EN LA FORMULA (I) CON EL PRODUCTO DE FOTORREACCION DEL COMPUESTO ORGANICO FOTOSENSIBLE; Y LAVAR LOS SECTORES SOLUBLES DE LA CAPA, QUEDANDOSE LOS SECTORES DE LA CAPA INSOLUBLES EN EL SOPORTE DE CAPA.
PROCEDIMIENTO MEJORADO PARA LA PRODUCCION DE UN MATERIAL DE COPIA FOTOSENSIBLE.
(16/05/1984). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UN MATERIAL DE COPIA FOTOSENSIBLE, CONSTITUIDO POR UN SOPORTE DE CAPAS Y UNA CAPA FOTOSENSIBLE QUE ACTUA DE FORMA POSITIVA, LA CUAL AL EXPONERSE CAMBIA DE COLOR.COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE DISUELVE EN UN DISOLVENTE SELECCIONADO ENTRE CETONAS, HIDROCARBUROS CLORADOS, ALCOHOLES, ETERES, ESTERES O MEZCLAS DE LOS MISMOS, UN LIGANTE INSOLUBLE EN AGUA Y SOLUBLE EN SOLUCIONES ACUOSAS ALCALINAS Y UN COMPUESTO HALOGENADO ORGANICO FOTOLITICAMENTE ESCINDIBLE; SEGUNDA, LA SOLUCION PREPARADA SE DISPONE SOBREEL SOPORTE EN CAPAS MEDIANTE RECUBRIMIENTO POR CENTRIFUGACION, PULVERIZACION, INMERSION, A RODILLO O POR FLUXION; Y POR ULTIMO, SE SECA EL SOPORTE REVESTIDO.
UNA MEZCLA FOTO-SENSIBLE.
(03/04/1984). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
METODO DE PRODUCCION DE UN MATERIAL DE COPIA FOTOSENSIBLE QUE TIENE APLICACIONES PARA LA FABRICACION DE PLANCHAS DE IMPRESION.CONSISTE EN DISOLVER UNA MEZCLA DE UN ESTER DEL ACIDO 1,2-NAFTOQUINONA-2-DIAZIDO-SULFONICO DE UN BIS-HIDROXIFENILALCANO , DE FORMULA (I), EN LA QUE D, R Y RK PUEDEN SER VARIOS TIPOS DE RADICALES, Y N VALE 6-18, CON UNA RESINA FENOLICA SOLUBLE EN ALCALI, EN UN DISOLVENTE INERTE; AÑADIR, EVENTUALMENTE, UN AGLUTINANTE; DEPOSITAR LA DISOLUCION OBTENIDA SOBRE UN SOPORTE METALICO; Y SECAR LA DISOLUCION APLICADA DURANTE 25-200 SEGUNDOS A UNA TEMPERATURA ENTRE30JC Y 150JC.
UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION.
(16/06/1983). Solicitante/s: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UNA PLANCHA DE IMPRESION. SE EXPONE A LA IMAGEN UN MATERIAL DE COPIAS FOTOSENSIBLE CONSTITUIDO POR UN SOPORTE Y UNA CAPA, CONSTITUIDA A SU VEZ POR UNA MEZCLA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN LIGANTE INSOLUBLE EN AGUA, QUE ES SOLUBLE EN SOLUCIONES ACUOSAS ALCALINAS, UNA O- O P-QUINONDIAZIDA FOTOSENSIBLE O UNA MEZCLA DE UN COMPUESTO QUE ELIMINA UN ACIDO POR EXPOSICION A LA LUZ Y UN COMPUESTO QUE CONTIENE COMO MINIMO UN GRUPO C-O-C QUE PUEDE SER ESCINDICO POR UN ACIDO, Y UN DERIVADO DE FENOL. SE ELIMINAN POR LAVADO LAS ZONAS DE LA CAPA SIN IMAGEN CON UNA SOLUCION REVELADORA ACUOSA ALCALINA Y POR ULTIMO SE CALIENTA EL MATERIAL A TEMPERATURA ELEVADA PARA ENDURECER LA CAPA DE IMAGEN.
METODO DE FABRICAR UN MATERIAL SENSIBLE A LA LUZ.
(01/11/1976). Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY.
Resumen no disponible.