Dispositivos para la formación de envases por embutición profunda.

Dispositivo (100) para la formación de envases (1) por embutición profunda,

con una matriz (101) que presenta una escotadura cónica (103), que colabora con un cuerpo de estampa (10), que entra en conexión operativa durante la inserción el cuerpo de la estampa (10) en la matriz (101) con una tira de material (5) conformable, en el que el cuerpo de la estampa (10) está constituido por un anillo de la estampa (15), que está constituido de material elástico, y por un soporte de la estampa (11), caracterizado por que el anillo de la estampa (15) está dispuesto móvil hacia el soporte de la estampa (11) en un plano perpendicular a la dirección de movimiento (102) del cuerpo de la estampa (10).

Dispositivos para la formaciïn de envases por embuticiïn profunda Estado de la tïcnica La invenciïn se refiere a un dispositivo para la formaciïn de envases por embuticiïn profunda de acuerdo con el preïmbulo de la reivindicaciïn 1.

Un dispositivo de este tipo se conoce a partir de los documentos WO 2011/012196 A1 y FR 2 549 749 A1. En el dispositivo conocido, estï previsto un cuerpo de la estampa, que estï constituido de material elïstico en forma de un anillo de la estampa, que o bien estï vulcanizado sobre un soporte de la estampa o estï conectado por medio de un inserto con el soporte de la estampa. De esta manera no sïlo se fija o bien se posiciona axialmente el cuerpo de la estampa con relaciïn a su posiciïn con respecto al soporte de la estampa, sino ademïs tambiïn en un plano perpendicular a la direcciïn de movimiento del soporte de la estampa o bien a la herramienta de estampaciïn. A travïs de la conformaciïn especial del dispositivo conocido se pueden fabricar envases por embuticiïn profunda con alta exactitud de forma, que se pueden apilar de manera especialmente bien unos dentro de los otros, con lo que se facilita la manipulaciïn de los envases fabricados a partir de una tira de material conformable.

En el dispositivo conocido, el anillo de la estampa presenta un volumen relativamente alto. Esto conduce durante el empleo del dispositivo conocido, especialmente en el caso de nïmeros de ciclos altos, a que debido a la energïa de conformaciïn transmitida a travïs de la tira de material sobre el anillo de la estampa, se calienta relativamente fuerte el anillo de la estampa debido a sus modificaciones de la forma (compresiïn y a continuaciïn de nuevo expansiïn) , y este caso se transmita sobre otros componentes del dispositivo, en particular sobre el cuerpo de la estampa. De esta manera resultan inconvenientes con respecto a la estabilidad de la forma y del volumen del dispositivo. Ademïs, el anillo de la estampa conocido presenta una forma relativamente compleja, que se manifiesta en un gato de fabricaciïn elevado y, por lo tanto, en costes de producciïn relativamente altos. Ademïs, presenta en virtud de su altura relativamente grande en direcciïn axial una capacidad de deformaciïn relativamente grande, que dificulta el ajuste exacto de las fuerzas de embuticiïn profunda.

Publicaciïn de la invenciïn Partiendo del estado de la tïcnica representado, la invenciïn tiene el cometido de desarrollar un dispositivo para la formaciïn de envases por embuticiïn profunda de acuerdo con el preïmbulo de la reivindicaciïn 1, de tal manera que se mejoran especialmente las propiedades mecïnicas y tïrmicas del anillo de la estampa. Este cometido se soluciona en un dispositivo para la formaciïn de envases por embuticiïn profunda con las caracterïsticas de la reivindicaciïn 1 de acuerdo con la invenciïn por que el anillo de la estampa estï dispuesto mïvil con relaciïn al soporte de la estampa en un plano perpendicularmente a la direcciïn de movimiento del soporte de la estampa. Dicho don otras palabras, esto significa que durante la embuticiïn profunda de un envase el anillo de la estampa tiene la posibilidad de posicionarse por sï mismo en un plano paralelo al soporte de la estampa o bien de modificar (en una medida insignificante) su posiciïn. De esta manera se crea la posibilidad de fabricar un anillo de la estampa con altura mïs reducida frente al estado de la tïcnica y, por lo tanto, en particular tambiïn con volumen reducido. De esta manera resulta un calentamiento mïs reducido del anillo de la estampa como consecuencia de la tasa de conformaciïn mïs reducida o bien una disipaciïn de calor mejorada con estabilidad tïrmica y geomïtrica mïs elevadas como consecuencia de ello, en particular en el caso de nïmeros de ciclos altos.

Los desarrollos ventajosos del dispositivo de acuerdo con la invenciïn para la formaciïn de envases por embuticiïn profunda se indican en las reivindicaciones dependientes. En el marco de la invenciïn entran todas las combinaciones de al menos dos de las caracterïsticas publicada en las reivindicaciones, en la descripciïn y/o en las figuras.

Muy especialmente preferida es una configuraciïn del dispositivo, en la que los lados frontales dirigidos entre sï del anillo de la estampa y del soporte de la estampa o de un elemento intermedio presentan una forma cïnica. De esta manera, durante la inmersiïn de la herramienta de estampaciïn en la tira de material tiene lugar un centrado del anillo de la estampa en el soporte de la estampa. En este caso no es necesario que la conicidad de las dos superficies frontales del anillo de la estampa y del soporte de la estampa sea igual. Solamente es esencial una conicidad de las dos superficies frontales respectivas, que puede provocar un centrado automïtico.

Para reducir los costes de fabricaciïn del anillo de la estampa y al mismo tiempo posibilitar una fabricaciïn lo mïs sencilla y, por lo tanto, tambiïn exacta posible del anillo de la estampa se propone, ademïs, que la pared circunferencial del anillo de la estampa estï configurada lisa.

Para posibilitar o bien simplificar un posicionamiento axial del anillo de la estampa en el soporte de la estampa, se propone que el anillo de la estampa estï pre-posicionado axialmente en el soporte de la estampa por medio de un inserto conectado con el soporte de la estampa, que presenta sobre el lado dirigido hacia el anillo de la estampa un ensanchamiento en forma de hongo, que colabora con una superficie frontal configurada cïnicamente del anillo de la

estampa. De esta manera, durante el primer contacto del anillo de la estampa con la tira de material, el anillo de la estampa se posiciona especialmente ya en una posiciïn teïrica deseada.

Para poder emplear, por ejemplo, uno y el mismo soporte de la estampa con diferentes anillo de la estampa o para poder influir de una manera relativamente sencilla sobre el dimensionado de los envases formados por embuticiïn profunda, puede estar previsto que entre el soporte de la estampa y el anillo de la estampa estï dispuesto un elemento intermedio en forma de anillo. En este caso, el elemento intermedio en forma de anillo estï constituido especialmente de metal o bien del mismo material que el soporte de la estampa.

Para que se posibilite el centrado automïtico descrito del anillo de la estampa con respecto al soporte de la estampa, en la ïltima variante mencionada durante la inserciïn del elemento intermedio estï previsto con preferencia que el elemento intermedio presenta sobre el lado dirigido hacia el anillo de la estampa un lado frontal configurado cïnico con un ïngulo cïnico entre 0 grados y 20 grados, y que el lado frontal del anillo de la estampa, que estï dirigido hacia el lado frontal, estï configurado de la misma manera cïnico con un ïngulo cïnico entre 0 grados y 20 grados.

Como ya se ha explicado, el anillo de la estampa presenta una altura de construcciïn reducida frente al estado de la tïcnica. Para poder formar envases cïnicos a pesar de la altura de construcciïn reducida, en los que se incrementa el diïmetro desde el fondo hasta la zona del borde del envase, puede estar previsto, ademïs, que el soporte de la estampa presenta en direcciïn al anillo de la estampa una pared circunferencial con una zona configurada cïnica. De esta manera se reduce o bien se minimiza el diïmetro del soporte de la estampa en direcciïn al fondo del envase, de modo que se evite que el soporte de la estampa entre en la zona del anillo de la estampa en contacto de apoyo directo con la pared exterior del envase.

Muy especialmente preferido es un dimensionado geomïtrico del anillo de la estampa, en el que la relaciïn entre la altura y el diïmetro del anillo de la estampa estï entre 1:3 y 1:10.

Otras ventajas, caracterïsticas y detalles de la invenciïn se deducen a partir de la descripciïn siguiente de ejemplos de realizaciïn preferidos asï como con la ayuda del dibujo.

En ïste:

La figura 1 muestra un dispositivo para la formaciïn de envases simïtricos rotatorios por embuticiïn profunda a partir de una tira de material conformable en una secciïn longitudinal.

La figura 2 muestra un soporte de la estampa de una herramienta de estampaciïn, como se utiliza en el dispositivo de acuerdo con la figura 1, en la secciïn longitudinal.

La figura 3 muestra una placa intermedia de una herramienta de estampaciïn segïn la figura 1, en la secciïn longitudinal.

La figura 4 muestra un anillo de la estampa de acuerdo con la invenciïn, como se utiliza en la herramienta de estampaciïn segïn la figuras 1, en la secciïn longitudinal.

La figura 5 muestra un inserto como se utiliza en una herramienta de estampaciïn de acuerdo... [Seguir leyendo]

1. Dispositivo (100) para la formaciïn de envases (1) por embuticiïn profunda, con una matriz (101) que presenta una escotadura cïnica (103) , que colabora con un cuerpo de estampa (10) , que entra en conexiïn operativa durante la inserciïn el cuerpo de la estampa (10) en la matriz (101) con una tira de material (5) conformable, en el que el cuerpo de la estampa (10) estï constituido por un anillo de la estampa (15) , que estï constituido de material elïstico, y por un soporte de la estampa (11) , caracterizado por que el anillo de la estampa (15) estï dispuesto mïvil hacia el soporte de la estampa (11) en un plano perpendicular a la direcciïn de movimiento (102) del cuerpo de la estampa (10) .

2. Dispositivo de acuerdo con la reivindicaciïn 1, caracterizado por que los lados frontales (33, 38) dirigidos entre sï del anillo de la estampa (15) y del soporte de la estampa (11) o de un elemento intermedio (12) presentan una forma cïnica.

3. Dispositivo de acuerdo con la reivindicaciïn 1 ï 2, caracterizado por que la pared circunferencial (40) del anillo de la estampa (15) estï configurada lisa.

4. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado por que el anillo de la estampa (15) estï pre-posicionado axialmente en el soporte de la estampa (11) por medio de un inserto (16) conectado con el soporte de la estampa (11) , que presenta sobre el lado dirigido hacia el anillo de la estampa (15) un ensanchamiento (45) en forma de hongo, cuyo lado inferior (46) colabora con una superficie frontal configurada cïnica del anillo de la estampa (15) , que estï configurada con preferencia en forma de un avellanado (39) .

5. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 4, caracterizado por que entre el soporte de la estampa (11) y el anillo de la estampa (15) estï dispuesto un elemento intermedio (12) en forma de anillo.

6. Dispositivo de acuerdo con la reivindicaciïn 5, caracterizado por que el elemento intermedio (12) presenta obre el lado dirigido hacia el anillo de la estampa (15) un lado frontal (33) configurado cïnicamente con un ïngulo cïnico (!2) entre 0 grados y 20 grados, y por que el lado frontal (38) del anillo de la estampa (15) , que estï dirigido hacia el lado frontal (33) estï configurado igualmente cïnico con un ïngulo cïnico (!4) entre 0 grados y 20 grados.

7. Dispositivo de acuerdo con la reivindicaciïn 8, caracterizado por que los dos ïngulos cïnicos (!2, !4) del elemento intermedio (12) y del anillo de la estampa (15) son de la misma magnitud.

8. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado por que el soporte de la estampa (11) presenta en direcciïn al anillo de la estampa (15) una pared circunferencial (18) con una zona (22) configurada cïnica.

9. Dispositivo de acuerdo con la reivindicaciïn 8, caracterizado por que la zona (22) presenta un ïngulo de inclinaciïn (!1) entre 1 grado y 12 grados, de manera que el diïmetro del soporte de la estampa (11) se reduce en direcciïn al anillo de la estampa (15) .

10. Dispositivo de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizado por que la relaciïn entre la altura y el diïmetro del anillo de la estampa (15) estï entre 1:3 y 1:10.