UN MICROSCOPIO ADECUADO PARA UNA SELECCION DE ALTO RENDIMIENTO, QUE TIENE UN APARATO DE AUTOENFOQUE.
Un microscopio adecuado para la selección de alto rendimiento,
que comprende: - un sistema de obtención de imágenes para crear una imagen de un plano (216) de objeto utilizando un haz (52) luminoso de iluminación de una primera longitud de onda, que comprende una pluralidad de lentes (206) (210) (212) situadas a lo largo de un eje (202) óptico principal del microscopio, y un dispositivo (230) de salida óptico para crear una imagen del plano de objeto sobre el plano (232) de imagen; - un sistema para enfocar automáticamente dicha imagen en dicho microscopio, comprendiendo dicho sistema para enfocar automáticamente: - un haz (40) luminoso de autoenfoque de una segunda longitud de onda, dirigiéndose el haz luminoso de autoenfoque para reflejarse fuera del plano (16) de objeto; - un dispositivo (50) de detección de autoenfoque que comprende una lente (46) del sistema de detección para recibir el haz luminoso de autoenfoque reflejado y dirigir el haz luminoso de autoenfoque reflejado sobre una superficie (142) de detección; - una pluralidad de sensores (108, 110, 112, 114) luminosos adaptados para medir la intensidad luminosa del haz luminoso de autoenfoque reflejado en dicha superficie (142) de detección, en el que se determina la distancia que la imagen del plano (216) de objeto se desplaza desde una superficie (23) de referencia de foco deseada comparando las intensidades medidas por la pluralidad de sensores; caracterizado porque el sistema de obtención de imágenes comprende además: - un brazo (213) de sonda que soporta la pluralidad de lentes, extendiéndose dicho brazo de sonda generalmente a lo largo del eje (202) óptico principal; y - una fase (240) de exploración y un soporte (219) sobre el que se sitúa un objeto con el plano (216) de objeto que se va a examinar, en el que el plano (216) de objeto se extiende sustancialmente a lo largo de un plano focal que se observa a través del microscopio; y en el que el plano (216) de objeto es sustancialmente paralelo al eje (202) óptico principal.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: TIBOTEC N.V.
Nacionalidad solicitante: Bélgica.
Dirección: GENERAAL DE WITTELAAN L11B3,2800 MECHELEN.
Inventor/es: LEBLANS, MARC, JAN, RENE, VAN DONINCK, PHILIP, ARTHUR.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 8 de Marzo de 2001.
Fecha Concesión Europea: 28 de Diciembre de 2005.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G02B21/24 FISICA. › G02 OPTICA. › G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84). › G02B 21/00 Microscopios (oculares G02B 25/00; sistemas polarizantes G02B 27/28; microscopios de medida G01B 9/04; micrótomos G01N 1/06; técnicas o aparatos de sonda de barrido G01Q). › Estructura del bastidor o pedestal.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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