CARTUCHO PARA SISTEMA LASER EXCIMER.
UN NUEVO CARTUCHO PARA SISTEMA LASER EXCIMER Y UN METODO PARA GENERAR UN RAYO LASER EXCEMR UTILIZANDO EL SISTEMA SON PROPORCIONADOS.
EL SISTEMA UTILIZA UN CARTUCHO (10) QUE CONTIENE UNA MEZCLA DE GAS NOBLE-HALOGENO (19), ELECTRODOS (50,60) QUE TIENEN CONEXIONES ELECTRICAS EXTERNAS (30,40), Y UN MONTAJE (20) PARA TRANSMITIR UNA SALIDA DE RAYO LASER (400), Y UN PUERTO DE GAS EXTERNO (90). EL CARTUCHO (10) SE FIJA SOBRE UN RECEPTACULO (100) LOCALIZADO DENTRO DE UN COMPARTIMENTO RECEPTOR (200) DE LA BASE DEL LASER (200) DEL NUEVO SISTEMA. EL CARTUCHO (10) SE CAMBIA FACILMENTE POR EL OPERADOR DEL SISTEMA Y ES RECICLADO POR EL FABRICANTE CUANDO LA MEZCLA DE GAS (19) ESTA AGOTADA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AUTONOMOUS TECHNOLOGIES CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 520 N. SEMONAN BOULEVARD,ORLANDO, FL 32807.
Inventor/es: FREY, RUDOLPH W., BOLEN, PHILIP, D.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 18 de Abril de 1995.
Fecha Concesión Europea: 30 de Octubre de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01S3/22 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01S DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN EL PROCESO DE AMPLIFICACION DE LUZ MEDIANTE EMISION ESTIMULADA DE RADIACIÓN [LASER] PARA AMPLIFICAR O GENERAR LUZ; DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN EMISION ESTIMULADA DE RADIACION ELECTROMAGNETICA EN RANGOS DE ONDA DISTINTOS DEL ÓPTICO. › H01S 3/00 Láseres, es decir, dispositivos que utilizan la emisión estimulada de la radiación electromagnética en el rango de infrarrojos, visible o ultravioleta (láseres de semiconductores H01S 5/00). › gaseosos.
- H01S3/223 H01S 3/00 […] › siendo poliatómico el gas activo, es decir, conteniendo más de un átomo (H01S 3/227 tiene prioridad).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Suecia, Portugal, Irlanda, Oficina Europea de Patentes, Kenya, Malawi, Sudán, Uganda, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual.
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