APARATO DE CVD DE PLASMA.

LA INVENCION SE REFIERE A UN APARATO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE DE VAPOR DE PLASMA,

DESTINADO A FORMAR UNA PELICULA FINA AMORFA, UNA PELICULA FINA MICROCRISTALINA O UNA PELICULA FINA POLICRISTALINA SOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO (33). DICHO APARATO COMPRENDE UN RECIPIENTE DE REACCION (31) EN EL QUE SE DISPONE EL SUSTRATO (33); MEDIOS PARA INTRODUCIR UN GAS REACTIVO EN DICHO RECIPIENTE (31) Y PARA DESCARGAR EL GAS RESIDUAL DESDE EL RECIPIENTE DE REACCION (31); UN ELECTRODO ESCALIFORME (32), ES DECIR UN ELECTRODO DE ANTENA ESCALIFORME O UN ELECTRODO DE ESPIRA PLANA ESCALIFORME, ALBERGADO EN EL RECIPIENTE DE REACCION (31) PARA GENERAR UNA DESCARGA LUMINISCENTE; Y UNA FUENTE DE ENERGIA (36) PARA SUMINISTRAR ENERGIA ELECTRICA AL ELECTRODO ESCALIFORME (32), PARA PERMITIR QUE DICHO ELECTRODO GENERE UNA DESCARGA LUMINISCENTE. EN DICHO DISPOSITIVO, SE FORMA UNA LINEA DE SUMINISTRO DE ENERGIA QUE UNE EL ELECTRODO EN FORMA DE ANTENA (32) Y LA FUENTE DE ENERGIA (36), CONSTITUIDA POR UN CABLE COAXIAL, Y EL ELECTRODO ESCALIFORME (32) NO ESTA CONECTADO A TIERRA A TRAVES DE UN HILO DE MASA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 5-1, MARUNOUCHI 2-CHOME, CHIYODA-KU,,TOKYO 100-0005.

Inventor/es: MURATA, MASAYOSHI NAGASAKI RESEARCH & DEVEL. CENT., TAKEUCHI, YOSHIAKI NAGASAKI RESEARCH & DEVEL. CENT, SERIZAWA, SATORU NAGASAKI SHIPYARD & MACHINE WORKS, NAWATA, YOSHIKAZU NAGASAKI SHIPYARD MACHINE WORKS, OGAWA, KAZUHIKO NAGASAKI SHIPYARD & MACHINE WORKS.

Fecha de Publicación: 16 de Febrero de 2003.

Fecha Concesión Europea: 31 de Julio de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

C23C16/50 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › por medio de descargas eléctricas.

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