CUBIERTA DE CRISTAL.

UN APARATO (1) PARA DEPOSITAR SOBRE LA SUPERFICIE DE UNA CINTA EN MOVIMIENTO DE CRISTAL CALIENTE (12) UNA CUBIERTA FORMADA DE LA REACCION DE AL MENOS DOS GASES REACTIVOS.

EL APARATO INCLUYE UNA CAMARA (10) DESDE LA CUAL LOS REACTIVOS GASEOSOS SE HACEN FLUIR EN CONTACTO CON LA SUPERFICIE DEL CRISTAL PARA CUBRIRLO EN UNA DIRECCION SUSTANCIALMENTE PARALELA A LA DIRECCION DE MOVIMIENTO DEL CRISTAL DE MODO QUE FORME LA DESEADA CUBIERTA DE LA SUPERFICIE DEL CRISTAL. LA CAMARA DE CUBRIR ESTA ABIERTA HACIA ABAJO, Y SE EXTIENDE SOBRE TODA LA ANCHURA DE LA SUPERFICIE DE CRISTAL A SER CUBIERTO, Y TIENE UNOS PRIMEROS MEDIOS DE ENTRADA (14) PARA PROVEER UN FLUJO DE UN PRIMER GAS REACTIVO SOBRE LA SUPERFICIE DE CRISTAL A TRAVES DE LA CAMARA QUE ESTA ENCIMA DE SU ANCHURA, Y UNOS SEGUNDOS MEDIOS DE ENTRADA (15) COMPUESTOS DE UN CANAL DE ENTRADA (15) EL CUAL SE EXTIENDE A TRAVES DEL TECHO (9) DE LA CAMARA SOBRE LA ANCHURA DE LA CAMARA PARA INTRODUCIR UN SEGUNDO GAS REACTIVO AL FLUJO DEL PRIMER GAS REACTIVO EN LA CAMARA DE CUBRIR. EL TECHO DE LA CAMARA DE CUBRIR TIENE UNA CONFIGURACION POR ETAPAS EN LA UNION DE DICHO CANAL DE ENTRADA Y LA CAMARA DE CUBRIR ,DE MODO QUE EL TECHO DE LA CAMARA DE CUBRIR SOBRE LA PARTE SUPERIOR DEL CANAL DE ENTRADA ESTA A UN NIVEL MAS ALTO QUE EL TECHO DE LA CAMARA DE CUBRIR SOBRE LA PARTE INFERIOR DE DICHO CANAL DE ENTRADA. UN PRIMER DISTRIBUIDOR DE GAS (19) TRANSMITE EL PRIMER GAS REACTIVO DESDE UN CONDUCTO DE ALIMENTACION HASTA DICHOS PRIMEROS MEDIOS DE ENTRADA, Y UN SEGUNDO DISTRIBUIDOR DE GAS (24) TRANSMITE EL SEGUNDO GAS REACTIVO DESDE UN SEGUNDO CONDUCTO DE ALIMENTACION DE GAS HASTA DICHOS SEGUNDOS MEDIOS DE ENTRADA. MEDIOS DE EXPULSION (26) ESTAN LOCALIZADOS CORRIENTE ABAJO DEL PRIMER Y SEGUNDOS MEDIOS DE ENTRADA CONDUCIENDO DESDE LA CAMARA DE CUBRIR LOS GASES AGOTADOS PARA SU ELIMINACION DE LA CAMARA DE CUBRIR.FIG 1.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: PILKINGTON PLC.

Nacionalidad solicitante: Reino Unido.

Dirección: PRESCOT ROAD, ST. HELENS, MERSEYSIDE WA10 3T.

Inventor/es: WHITFIELD, PETER JAMES, GRUNDY, BARRY THOMAS, HARGREAVES, EDWARD.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 8 de Septiembre de 1993.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C03C17/00 QUIMICA; METALURGIA.C03 VIDRIO; LANA MINERAL O DE ESCORIA.C03C COMPOSICIÓN QUÍMICA DE LOS VIDRIOS, VIDRIADOS O ESMALTES VÍTREOS; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DEL VIDRIO; TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE FIBRAS O FILAMENTOS DE VIDRIO, SUSTANCIAS INORGÁNICAS O ESCORIAS; UNIÓN DE VIDRIO A VIDRIO O A OTROS MATERIALES.Tratamiento de la superficie del vidrio, p. ej. de vidrio desvitrificado, que no sea en forma de fibras o filamentos, por recubrimiento.
  • C03C17/245 C03C […] › C03C 17/00 Tratamiento de la superficie del vidrio, p. ej. de vidrio desvitrificado, que no sea en forma de fibras o filamentos, por recubrimiento. › por depósito a partir de una fase vapor.
  • C23C16/44 C […] › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).

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