UN APARATO PARA PRODUCIR AUTOMATICAMENTE PLACAS LITOGRAFICAS ACABADAS A PARTIR DE UN SUMINISTRO DE PLACAS ELEMENTALES Y DE UN SUMINISTRO DE REGISTROS.

Un aparato para producir automáticamente placas litográficas acabadas a partir de un suministro de placas elementales y de un suministro de negativos,

comprendiendo dicho aparato, medios para recoger una placa elemental de dicho suministro de placas elementales en una estación de recogida y situar dicha placa sobre un transportador de recubrimiento que lleva a una estación de recubrimiento, medios para recubrir la cara inferior de dicha placa elemental con un fluido fotosensible en una estación de recubrimiento e invertir lugo dicha placa y colocarla en un transportador se secado de primera etapa, medios para secar dicho fluido sobre dicha placa en una estación de secado de dos etapas haciendo pasar para ello dicha placa a través de un deflector de aire calentado en un primer sentido sobre dicho transportador de secado de primera etapa en un primer nivel y moviendo lugo dicha placa a un segundo nivel inferior y colocándola sobre un transportador de secado de segunda etapa que se mueve en un segundo sentido a dicho primer sentido a través de dicho deflector de aire calentado, y conduciendo luego dicha placa az una estación de troquelado, medios para troquelar al menos un agujero de graduación a lo largo de los bordes de dicha placa en una estación de troquelar situando para ello en posición primeramente dicha placa para coincidencia con al menos un negativo llevado por un carro de coincidencia y bloqueando por vacío dicha placa a dicho carro de coincidencia, troquelando dicho agujero de graduación y transportando luego dicho carro de coincidencia a una estación de exposición medios para exponer dicha placa a dicho negativo en una estación de exposición bloqueada por vació, transfiriendo dicho negativo a un porta-negativos bloqueado por vació, transportando dicho carro de coincidencia de nuevo a dicha estación de troquelado, bloqueando por vació dicha placa con dicho negativo, exponiendo dicha placa, desaplicando dicho negativo de dicha placa expuesta y colocando dicha placa sobre un transportador de revelado que lleva a una estación de revelado, medios para revelar dicha placa expuesta en una estación de revelado y situar dicha placa revelada sobre un transportador de recalcado que lleva a una estación de recalcar y medios para recalcar dichos bordes de dicha placa que tienen dichos agujeros de graduación en una estación de recalcar situando para ello dicha placa sobre una base de recalcar, bloqueando por vacío dicha placa sobre dicha base de recalcar, recalcando dichos bordes de dicha placa, liberando dicho bloqueo por vació sobre dicha placa y conduciendo dicha placa acabada a una estación de salida

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: BEACH MANUFACTURING CORPORATION.

Fecha de Solicitud: 5 de Septiembre de 1978.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 16 de Diciembre de 1980.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/16 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).

Patentes similares o relacionadas:

Método mejorado para planchas de impresión de imágenes de relieve pre-expuestas, del 10 de Julio de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un proceso de producción de una plancha de impresión de imágenes en relieve, el proceso comprendiendo las etapas de: a) proporcionar un elemento de impresión […]

Dispositivo para el recubrimiento de sustratos planares, del 23 de Abril de 2019, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Dispositivo para la aplicación de un compuesto de recubrimiento a un sustrato planar que comprende: a) un sustrato planar ; b) un cabezal de recubrimiento […]

Método para crear textura superficial en elementos de impresión flexográfica, del 3 de Abril de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para fabricar un elemento de impresión de imágenes en relieve a partir de un blanco para impresión fotosensible, comprendiendo dicho blanco para […]

Composición fotopolimerizable por radiación UV para la fabricación de capas, patrones o impresiones conductores, del 21 de Marzo de 2019, de AGFA-GEVAERT.: Composición que comprende un polianión y un polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido como solución o dispersión en un medio […]

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras, del 24 de Mayo de 2016, de UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID: Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible […]

Imagen de 'Composición, proceso de preparación y método de aplicación y…'Composición, proceso de preparación y método de aplicación y exposición para papel de formación de imágenes mediante luz, del 2 de Diciembre de 2015, de INTERNATIONAL PAPER COMPANY: Un artículo que comprende: una partícula que comprende una matriz de material polimérico y que contiene: uno o más agentes de formación de imágenes; y un […]

Soluciones de tensioactivos diol acetilénicos y procedimientos de su uso de las mismas, del 28 de Enero de 2015, de AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.: Un procedimiento para mejorar la humectabilidad de un substrato, comprendiendo el procedimiento: la puesta en contacto del substrato con una solución acuosa que comprende […]

Imagen de 'Litografía conducida electrostáticamente'Litografía conducida electrostáticamente, del 8 de Abril de 2013, de NORTHWESTERN UNIVERSITY: Un método de litografía que comprende: transportar un compuesto de modelamiento desde una punta hasta una superficie de sustrato para formar […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .