FUENTE DELASER DE FRECUENCIA ESTABILIZADA.

Una fuente de láser estabilizada en frecuencia que se caracteriza por el hecho de que está compuesta por: - un láser de estado sólido

(10) bombeado de forma óptica que permite la transmisión de un primer haz de láser (2) de frecuencia (f1); - una célula de absorción (7) que contiene un elemento químico de absorción, y que, al funcionar, está atravesada por el primer haz de láser(2) o por un haz (4b) desviado de tal forma que una transición (T) del elemento químico de absorción está saturada; - los medios de trabadura (9), concebidos para trabar la frecuencia (f1) del primer haz de láser sobre dicha transición (T) saturada con el elemento químico, por medio de una detección sincrónica basada en una modulación de dicha transición; dichos medios (9) de trabadura incluyen un solenoide (90) que rodea la célula de absorción (7) y que se alimenta de tal modo que crea un campo magnético modulado en amplitud, y de esta forma permite que la señal de absorción generada por dicho elemento químico de absorción sea modulada sin interrupción en el espacio de desplazamiento de los sub-niveles de energía de dicho elemento químico de absorción; para que el haz de láser, transmitido de esta forma, esté compuesto por un único componente del espectro, con una precisión de estabilización que no sobrepasa los 2 MHz.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: UNIVERSITE DES SCIENCES ET TECHNOLOGIES DE LILLE.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: CITE SCIENTIFIQUE,59655 VILLENEUVE-D'ASCQ CEDEX.

Inventor/es: ZEMMOURI, JAOUAD, RAZDOBREEV, IGOR, RINGOT, JEAN.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 18 de Junio de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN LA EMISION ESTIMULADA > Láser, es decir, dispositivos para la producción,... > H01S3/13 (Estabilización de parámetros de salida de láser, p. ej. frecuencia, amplitud)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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