ELEMENTO DE FUNDO PARA UN DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE MATERIAL DE PARTICULAS.

Elemento de fondo para un dispositivo para el tratamiento de material de partículas,

con un fondo plano (12, 50, 60, 70), en el cual están dispuestas numerosas aberturas para hacer pasar un medio de tratamiento (84) a través de dicho fondo (12, 50, 60, 70), y con medios para imponer a dicho medio de tratamiento que pasa a través del fondo (12, 50, 60, 70) una componente de movimiento en dirección del plano del fondo (40, 51, 61), consistiendo el fondo (12, 50, 60, 70) de un cuerpo en forma de placa (13), que tiene las aberturas en el fondo (12, 50, 60, 70) en la forma de ranuras (16, 23-26, 32-36, 56, 58, 62-64, 72, 74, 78, 79) que se han producido por la supresión de material desde el material del fondo (12, 50, 60, 70), y siendo las secciones transversales (46, 48) de las ranuras inclinadas con respecto al plano del fondo (40, 51, 61), de manera que imponen la componente de movimiento en dirección del plano de fondo, caracterizado por el hecho que, para la limpieza del elemento de fondo, la sección transversal inclinada (48) de las aberturas se va estrechando aún más en la dirección del lado del fondo (12) en el cual se posa el material de partículas.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: HUTTLIN GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: DAIMLERSTRASSE 7,79585 STEINEN.

Inventor/es: GROSS, MARTIN, WERNER, THOMAS.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 24 de Marzo de 2001.

Fecha Concesión Europea: 1 de Septiembre de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B01J8/44 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL.B01J PROCEDIMIENTOS QUÍMICOS O FÍSICOS, p. ej. CATÁLISIS O QUÍMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS. › B01J 8/00 Procedimientos químicos o físicos en general, llevados a cabo en presencia de fluidos y partículas sólidas; Aparatos para tales procedimientos. › Parrillas de fluidificación.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

ELEMENTO DE FUNDO PARA UN DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE MATERIAL DE PARTICULAS.

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