APARATO PARA LA CORRECCION REFRACTARIA OFTALMICA.

Medios de abertura para perfilar un haz láser y adecuados para uso en un sistema láser fotorrefractor del tipo de exploración

(10) incluyendo un láser (15) para producir el haz láser, un sistema de exploración (14) para explorar el haz láser a posiciones apropiadas en un blanco fotorrefractor (16), y un sistema de control (17) para dirigir una configuración de disparos de haz láser al blanco, incluyendo dichos medios para abrir el haz láser, donde los medios de abertura tienen forma de una tarjeta de aberturas (100), donde la tarjeta de aberturas incluye una configuración de aberturas (304, 307) que tiene una sola abertura central más grande (305, 308) que proporciona un diámetro efectivo de la configuración de aberturas, y una configuración seleccionada de agujeros microscópicamente pequeños (306, 309) rodeando dicha abertura central que proporciona un diámetro general de la configuración de aberturas, donde dicha configuración de agujeros pequeños transmite de forma difractiva el haz láser, de tal manera que el haz láser tenga un perfil deseado de densidad espacial después de pasar a través de la configuración de aberturas, incluyendo además la tarjeta medios (105) para colocar la tarjeta en el recorrido del haz láser.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: TECHNOLAS GMBH OPHTHALMOLOGISCHE SYSTEME.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: MAX-PLANCK-STRASSE 6,85609 DORNACH.

Inventor/es: HOHLA, KRISTIAN, YOUSSEFI, GERHARD, TOENNIES, ROLAND, GUNTER, NORBERT.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 20 de Octubre de 2000.

Fecha Concesión Europea: 4 de Enero de 2006.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION A — NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA > CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE > FILTROS IMPLANTABLES EN LOS VASOS SANGUINEOS; PROTESIS;... > Métodos o dispositivos para el tratamiento de los... > A61F9/01 (Tratamiento de la córnea)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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