COMPOSICION PARA LA PULIMENTACION MECANICA-QUIMICA DE CAPAS DE UN MATERIAL AISLANTE A BASE DE UN POLIMERO CON UNA BAJA CONSTANTE DIELECTRICA.

Una composición para la pulimentación mecánica- química de una capa de un material aislante a base de un polímero con una baja constante dieléctrica

, caracterizada dicha composición de pulimentación por comprender una solución acuosa ácida de sílice coloidal cationizada que contiene partículas de sílice coloidal individualizadas no enlazadas entre sí por enlaces siloxano.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CLARIANT FINANCE (BVI) LIMITED.

Nacionalidad solicitante: Islas Vírgenes (Británicas).

Dirección: CITCO BUILDING, WICKHAMS CAY,ROAD TOWN, TORTOLA.

Inventor/es: JACQUINOT, ERIC, LETOURNEAU, PASCAL, RIVOIRE, MAURICE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 28 de Julio de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES;... > SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO... > Sustancias no cubiertas en otro lugar > C09K3/14 (Sustancias antideslizantes; Abrasivos)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES;... > COMPOSICIONES DE PULIMENTO DISTINTAS AL PULIMENTO... > Composiciones de pulimento (pulimento francés C09F... > C09G1/02 (que contienen agentes abrasivos o pulimentadores)
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS... > Procedimientos o aparatos especialmente adaptados... > H01L21/3105 (Postratamiento)
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