PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN PRODUCTO CURADO DE RESINA FOTOSENSIBLE.
Procedimiento para la producción de un material cilíndrico de impresión,
de base, que se puede grabar por láser, que comprende las etapas de: formación de una capa de composición de resina fotosensible de 50 mum hasta 50 mm de espesor sobre un soporte cilíndrico utilizando una composición de resina fotosensible que comprende un iniciador de fotopolimerización del tipo de abstracción de hidrógeno (d) y un iniciador de fotopolimerización del tipo desintegración (e) en la cual el iniciador de fotopolimerización del tipo de abstracción de hidrógeno (d) es, como mínimo, un tipo de compuesto seleccionado del grupo que comprende benzofenonas, cetonas de Michler, xantenos, tioxantenos y antraquinonas y el iniciador de fotopolimerización del tipo desintegración (e) es, como mínimo, un tipo de compuesto seleccionado del grupo que comprende éteres de benzoína alquilo, 2,2-dialcoxi-2-fenilacetofenonas, ésteres de aciloxima, azo compuestos y dicetonas, o una composición de resina fotosensible que incluye un iniciador de fotopolimerización (c) que tiene en la misma molécula un lugar que funciona como iniciador de fotopolimerización del tipo de abstracción de hidrógeno y un lugar que funciona como iniciador de fotopolimerización del tipo desintegración; y curado mediante la irradiación de la capa de composición de resina fotosensible con luz al aire.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 1-2, YURAKU-CHO 1-CHOME, CHIYODA-KU,TOKYO 100-8440.
Inventor/es: YAMADA, HIROSHI, TOMITA,YOKO, TOMEBA,KEI,KURIEITOHAITSU 103.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 19 de Noviembre de 2008.
Clasificación PCT:
- B41N1/12 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 1/00 Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto. › en otra materia diferente a la piedra o al metal.
- C08J5/18 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08J PRODUCCION; PROCESOS GENERALES PARA FORMAR MEZCLAS; TRATAMIENTO POSTERIOR NO CUBIERTO POR LAS SUBCLASES C08B, C08C, C08F, C08G o C08H (trabajo, p. ej. conformado, de plásticos B29). › C08J 5/00 Fabricación de artículos o modelado de materiales que contienen sustancias macromoleculares (fabricación de membranas semipermeables B01D 67/00 - B01D 71/00). › Fabricación de películas u hojas.
- C08L101/00 C08 […] › C08L COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones basadas en monómeros polimerizables C08F, C08G; pinturas, tintas, barnices, colorantes, pulimentos, adhesivos D01F; filamentos o fibras artificiales D06). › Composiciones de compuestos macromoleculares no específicos.
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
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