7 inventos, patentes y modelos de PELLETIER, JACQUES
Dispositivo y procedimiento de producción y/o de confinamiento de un plasma.
Sección de la CIP Electricidad
(27/07/2016). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Clasificación: H01J37/32, H05H1/46.
Dispositivo de producción y/o de confinamiento de un plasma , que comprende un recinto en cuyo volumen se produce y/o se confina el plasma, comprendiendo dicho recinto una pared que define una envuelta interior al recinto y que abarca el volumen, comprendiendo dicho dispositivo a continuación
- por lo menos un conjunto de producción y/o de confinamiento del plasma, estando cada conjunto compuesto por imanes únicamente de dirección de imantación axial, y hundido en la pared que define la envuelta,
de manera que la dirección de imantación de todos los imanes que componen cada conjunto sea sustancialmente perpendicular a la envuelta definida por la pared ,
estando dicho dispositivo caracterizado por que el conjunto es sustancialmente simétrico con respecto a la envuelta, no atravesando las líneas de campo magnético la pared del recinto.
PDF original: ES-2600252_T8.pdf
PDF original: ES-2600252_T3.pdf
Dispositivo y procedimiento de producción y/o de confinamiento de un plasma.
Sección de la CIP Electricidad
(01/06/2016). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Clasificación: H01J37/32, H05H1/46.
Dispositivo de producción y/o de confinamiento de un plasma , que comprende:
- un recinto en cuyo volumen se produce o se confina el plasma, comprendiendo dicho recinto una pared que define una envuelta interior al recinto y que engloba el volumen,
- una pluralidad de imanes anulares , centrados sobre una normal a la envuelta, de dirección de imantación radial y dispuestos en la proximidad de la pared que define la envuelta que soporta la normal, de modo que la dirección de imantación sea sustancialmente perpendicular a dicha normal a la envuelta;
caracterizado por que dichos imanes anulares están dispuestos de manera no concéntrica a nivel de la pared para formar una red bidimensional o tridimensional.
PDF original: ES-2589109_T3.pdf
Procedimiento para fabricar una hoja que presenta unos poros pasantes y aplicación para la fabricación de filtros micrónicos y submicrónicos.
(20/06/2012) Procedimiento para fabricar una hoja que presenta unos poros pasantes que tienen un factor de forma superior a, siendo el factor de forma definido como la relación entre la profundidad de los poros y su diámetro, estando esteprocedimiento caracterizado porque comprende las operaciones siguientes:
A) preparación de una hoja, de un grosor de 5 μm hasta algunas decenas de micrómetros, apta para sergrabada mediante una operación litográfica;
B) realización de una máscara sobre una cara de la hoja y después depósito sobre esta máscara de una capade resina fotosensible o depósito sobre una cara de la hoja de una capa de resina fotosensible que actúa almismo tiempo como resina y máscara;…
PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE UN PLASMA MEDIANTE DESCARGAS DISTRIBUIDAS DE TIPO CAPACITIVO, Y DISPOSITIVO PARA LA REALIZACION DE DICHO PROCEDIMIENTO.
(13/08/2010) Procedimiento de producción de un plasma mediante descargas de tipo capacitivo, producidas entre un electrodo activo y un electrodo pasivo , estando el electrodo pasivo puesto a un potencial eléctrico determinado, mientras que el electrodo activo es alimentado por una tensión de mantenimiento de descarga, caracterizado porque consiste:
- en realizar el electrodo activo por una serie de electrodos activos elementales (4i) que delimitan cada uno frente al electrodo pasivo, por una parte, una superficie activa y, por otra parte, una superficie pasiva ,
- en repartir los electrodos activos elementales (4i)…
PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE UN PLASMA ELEMENTAL CON VISTAS A CREAR UN PLASMA UNIFORME PARA UNA SUPERFICIE DE UTILIZACION Y DISPOSITIVO DE PRODUCCION DE DICHO PLASMA.
(19/05/2010) Procedimiento de producción de un plasma para una superficie de utilización (Su) con la ayuda de un dispositivo que comprende unos medios de producción de una energía en el campo de las microondas y unos medios para crear por lo menos una superficie de campo magnético constante y de intensidad correspondiente a la resonancia ciclotrónica electrónica y dispuesta por lo menos en la zona de propagación de las microondas, con vistas a la excitación del plasma, caracterizado porqué consiste:
- en constituir una serie de dispositivos elementales de excitación de plasma constituidos cada uno por un aplicador filar de una energía microonda del que un extremo está conectado a una fuente de producción (E) de una energía microonda y del que el otro…
SISTEMA Y PROCEDIMIENTO DE ESTERILIZACION POR PLASMA A BAJA TEMPERATURA.
Sección de la CIP Necesidades corrientes de la vida
(16/01/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSITE DE MONTREAL. Clasificación: A61L2/14.
Procedimiento de esterilización de objetos, que comprende la exposición de los objetos a un plasma, en una zona de post-descarga o en una zona de excitación del plasma, comprendiendo dicho plasma productos esterilizantes generados in situ al someter un flujo gaseoso que comprende entre un 0,5% y un 20% de oxígeno molecular a un campo eléctrico suficientemente intenso para generar el plasma, permitiendo los productos esterilizantes la destrucción de microorganismos, no presentando dicho flujo gaseoso ninguna propiedad biocida antes de su paso por el campo eléctrico, estando caracterizado dicho procedimiento porque el porcentaje de oxígeno molecular en el flujo gaseoso está regulado de forma que se obtenga una radiación UV máxima.
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO DE IDENTIFICACION DEL DEFECTO DE ESTANQUEIDAD DE UN LAPIZ ABSORTOR DE NEUTRONES DE UN REACTOR NUCLEAR.
Sección de la CIP Física
(01/01/1994). Solicitante/s: ELECTRICITE DE FRANCE SERVICE NATIONAL COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE. Clasificación: G01M3/22, G21C17/06.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y A UN DISPOSITIVO DE IDENTIFICACION DEL DEFECTO DE ESTANQUEIDAD DE UN LAPIZ ABSORTOR DE NEUTRONES DE UN REACTOR NUCLEAR. EL LAPIZ CR ESTA COLOCADO EN UN RECINTO ESTANCO 1 LLENO DE UNA DISOLUCION QUIMICA AGRESIVA. LA DISOLUCION SE PONE A PRESION HP, A FIN DE HACERLA PENETRAR EN EL LAPIZ CR DEFECTUOSO, DESPUES ESTA PRESION SE DISMINUYE BP, A FIN DE PERMITIR UNA SALIDA DE LA DISOLUCION FUERA DEL LAPIZ SUPUESTO DEFECTUOSO EN EL RECINTO ESTANCO 1. SE EFECTUA UN ANALISIS 3 DE LA DISOLUCION PARA PERMITIR LA IDENTIFICACION DE SALES METALICAS DE LOS METALES CONSTITUTIVOS DEL CORAZON DEL LAPIZ. APLICACION AL CONTROL SISTEMATICO DE LAPICES ABSORBENTES DE NEUTRONES DE UN REACTOR NUCLEAR DE AGUA PRESURIZADA.
