11 inventos, patentes y modelos de KOHLER, MANFRED

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/05/2002). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08F2/50, C08F299/04.

COMPUESTOS POLIMERIZABLES NO SATURADOS ETILENICAMENTE SE ENDUCEREN CON LA LUZ DIURNA O CON FUENTE DE LUZ EQUIVALENTE A LA LUZ DIURNA, CUANDO SE AÑADE COMO ENDURECEDOR UN FOTOINICIADOR DE LA FORMULA I DONDE R1 ES C1 CICLOEXIL, FENIL INSUSTITUIDO, NAFTIL O BIFENIL O FENIL SUSTITUIDO CON C1 R3 INDEPENDIENTE UNO DE OTRO SON C1 NTA HIDROGENO O C1 ETIL.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/09/2001). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F2/50, G03F7/029, C09D9/00, C08F2/44, C07F9/53, C08K5/53.

Composición pigmentada fotorreticulable que contiene (a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable provisto de insaturaciones etilénicas, (b) como fotoiniciador un compuesto del tipo óxido de mono-, bis- o trisacilfosfina o una mezcla de tales compuestos con una -hidroxicetona, -aminocetona y/o derivados de benzoina, (c) un blanqueante óptico, y (d) un pigmento. El compuesto óxido de mono-, bis- o trisacilfosfina del apartado (b) es un compuesto de fórmula I, en la que R{sub, 1}, R{sub, 2} y R{sub, 3} tienen el significado expresado en las reivindicaciones. El compuesto a- hidroxicetona, a-aminocetona o derivados de benzoina es un compuesto de fórmula II en la que R{sub, 4}, R{sub, 5}, R{sub, 6} y R{sub, 7} tienen el significado expresado en las reivindicaciones. Las composiciones de la invención presentan una reticulación en profundidad muy buena, siendo especialmente idóneas como materiales de recubrimiento, por ejemplo como pinturas blancas.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(16/10/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08F2/50, G03F7/029, C07F9/50, C07F9/53.

COMPUESTOS DE LA FORMULA I DONDE Z ES OXIGENO O AZUFRE, N Y M DE FORMA INDEPENDIENTE UNO DE OTRO SIGNIFICAN 0 O 1, Y R1, R2, R3, R4 Y X SE DEFINEN COMO EN LA SOLICITUD 1, SON APROPIADOS COMO FOTOINICIADORES PARA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS NO SATURADOS ETILENICAMENTE.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/12/1999). Ver ilustración. Solicitante/s: ITT AUTOMOTIVE EUROPE GMBH. Clasificación: B60S1/34.

EL OBJETO DE LA INVENCION ES PERFECCIONAR DE TAL FORMA UN BRAZO LIMPIADOR PARA UN DISPOSITIVO LIMPIAPARABRISAS CONTROLADO EN ELEVACION, EN ESPECIAL DE UN VEHICULO DE MOTOR QUE MUESTRA UNA BIELA, LA CUAL FORMA PARTE AL MISMO TIEMPO DE UN DISPOSITIVO ARTICULADO MULTIPLE QUE ACCIONA EL CONTROL EN ELEVACION Y EN LA QUE SE HA ALOJADO CON BASCULAMIENTO UNA PALANCA DE CONTROL, QUE EL BRAZO LIMPIADOR MUESTRE EN LA ZONA DEL DISPOSITIVO ARTICULADO MULTIPLE UNA ALTURA CONSTRUCTIVA REDUCIDA Y PUEDA FABRICARSE DE FORMA ECONOMICA. LA BIELA PERTENECIENTE AL BRAZO LIMPIADOR SE HA CONFECCIONADO COMO UNA PIEZA PERFILADA DE CHAPA Y MUESTRA UNA SECCION TRANSVERSAL PERFILADA, DE TAL FORMA QUE LA PALANCA DE ACCIONAMIENTO O LA PALANCA DE CONTROL ESTE UNIDA CON BASCULAMIENTO A LA BIELA DENTRO DE LA ALTURA DE LA SECCION TRANSVERSAL DE LA MISMA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/04/1999). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C07F9/53, C08F2/48.

EL PRESENTE INVENTO SE REFIERE A OXIDOS DE BISACILFOSFINA SUSTITUIDOS POR ALCOXIFENILO DE LA FORMULA I: EN DONDE LOS RADICALES TIENEN EL SIGNIFICADO INDICADO EN LA DESCRIPCION. ESTOS OXIDOS, OBJETO DEL PRESENTE INVENTO, SON ADECUADOS PARA LA FOTOPOLIMERIZACION DE COMPUESTOS QUE CONTIENEN ENLACES ETILENICAMENTE INSATURADOS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/1995). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C09D5/00, C08F2/50, C07F9/53.

ALQUIL-BISACILFOSFINOXIDOS. COMPUESTOS DE FORMULA I FORMULA EN DONDE RSI1 SC SIGNIFICA ALQUILO DE 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO, CICLOPENTILO O CICLOHEXIDO, Y RSI2 SC Y RSI3 SC INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI SIGNIFICAN FENILO SIN SUSTITUIR O SUBSTITUIDO DE UNA A CUATRO VECES CON HALOGENO, ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO Y/O ALCOXILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO, CON LA CONDICION DE QUE CUANDO RSI2 SC Y RSI3 SC SIGNIFICAN FENILO SUBSTITUIDO CON CLORO, RSI1 SC NO ES DECILO. SON APROPIADOS PARA LA FOTOPOLIMERIZACION DE COMPUESTOS CON DOBLES ENLACES ETILENICAMENTE INSATURADOS.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/1995). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08F2/50, C07F9/53, C08K5/53.

PROCEDIMIENTO DE PREPARACION DE COMPOSICIONES CON ALQUILBISACILFOSFINOXIDOS FOTOPOLIMERIZABLES. COMPUESTOS DE FORMULA I FORMULA EN DONDE RSI2 SC SIGNIFICA ALQUILO DE 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO, CICLOPENTILOLO CICLOHEXILO, Y RSI2 SC Y RSI3 SC INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI SIGNIFICAN FENILO SIN SUBSTITUIR O SUBSTITUIDO DE UNA A CUATRO VECES CON HALOGENO, ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO Y/O ALCOXILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO, CON LA CONDICION DE QUE CUANDO RSI2 SC Y RSI3 SC SIGNIFICAN FENILO SUBSTITUIDO CON CLORO, RSI1 SC NO ES DECILO. SON APROPIADOS PARA LA FOTOPOLIMERIZACION DE COMPUESTOS CON DOBLES ENLACES ETILENICAMENTE INSATURADOS.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Física

(01/12/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08F2/50, G03C1/72, C09D123/00.

LOS COMPUESTOS DE FORMULA (I), EN LA QUE IN REPRESENTA UNA ESTRUCTURA DE FOTOINICIADOR, A ES UN GRUPO ESPACIADOR Y RG ESUN GRUPO FUNCINAL REACTIVO Y LOS SIGNIFICADOS QUE SE INDICAN EN LA REIVINDICACION PRINCIPAL, PUEDEN APLICARSE COMO FOTOINICIADORES CORREACTIVOS PARA LA FOTOPOLIMERIZACION DE SISTEMAS QUE CONTIENEN COMPUESTOS CON INSATURACION ETILENICA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/02/1989). Solicitante/s: MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG. Clasificación: C08F2/50, C07C69/54.

PROCEDIMIENTO PARA MEJORAR LA FOTOPOLIMERIZACION DE COMPUESTOS ETILENICAMENTE INSATURADOS Y SISTEMAS FOTOPOLIMERIZABLES CUYO PROCEDIMIENTO COMPRENDE COMBINAR CON LOS COMPUESTOS A POLIMERIZAR, ANTES DE LA INICIACION DE LA FOTOPOLIMERIZACION, AL MENOS UN FOTOINICIADOR COPOLIMERIZABLE DELA FORMULA (I).