CIP-2021 : G03F 7/022 : Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/022 · · Quinonadiazidas (G03F 7/075 tiene prioridad).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
MEZCLA DE SUSTANCIAS ENDURECIBLES TERMICAMENTE Y CON RADIACION ACTINICA, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y UTILIZACION DE DICHA MEZCLA.
(01/03/2007). Solicitante/s: SMS DEMAG AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: DENKER, WOLFGANG.
Dispositivo para flexionar los cilindros en una caja de laminación de varios cilindros, con bloques de flexión (5, 5a; 5, 5a) fijados por el lado de entrada y de salida entre las piezas de montaje de cilindro y las ventanas de bastidor que pueden tratarse mediante medios de ajuste, caracterizado porque a los bloques de flexión (5, 5a) del primer bastidor de cilindros se asigna un cilindro de émbolo , y a los bloques de flexión (5, 5a) del bastidor de cilindros (6) opuesto un dispositivo de posicionamiento vertical.
COMPOSICION SENSIBLE A LAS RADIACIONES IR Y UV.
(16/10/2004). Solicitante/s: LASTRA S.P.A. Inventor/es: BOLLI, ANGELO, PEVERI, PAOLO, TETTAMANTI, ANDREA.
SE PRESENTA UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION INFRARROJA Y ULTRAVIOLETA QUE COMPRENDE UNA RESINA DE DIAZO, UN ESTER DE DIAZO, AL MENOS UNA RESINA DE NOVOLAC Y UN ABSORBENTE DE LOS RAYOS INFRARROJOS. TAMBIEN SE PRESENTA UNA PLANCHA LITOGRAFICA QUE COMPRENDE UN SOPORTE REVESTIDO CON LA COMPOSICION FOTOSENSIBLE.
COMPOSICNES FOTORRESISTENTES DE ALTA RESOLUCION.
(01/04/2004). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC.. Inventor/es: DANIELS, BRIAN KENNETH, MADOUX, DAVID CHARLES, TEMPLETON, MICHAEL KARPOVICH, TREFONAS III, PETER, WOODBREY, JAMES CALVIN, ZAMPANI, ANTHONY.
ESTA INVENCION ESTA DIRIGIDA A NUEVOS PROCEDIMENTOS Y COMPOSICIONES FOTORRESISTENTES QUE TIENEN RESINAS ALCALI-SOLUBLES DE ALTA RESOLUCION, COMPONENTES FOTOACTIVOS DE ALTA RESOLUCION CON VARIOS GRUPOS DE DIAZOQUINONA POR MOLECULA, Y DISOLVENTES QUE TIENEN UN ALTO PODER DE DISOLUCION, MEJOR SEGURIDAD, FOTOVELOCIDAD MEJORADA, CONTRASTE MAS ALTO Y GROSOR DE PELICULA FUNDIDA EQUIVALENTE A PARTIR DE FORMULACIONES DE SOLIDOS DE PORCENTAJE INFERIOR.
COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES DE ACIDEZ CONTROLADA PARA IMPRESION OFFSET.
(16/10/2002). Solicitante/s: PLURIMETAL S.R.L. Inventor/es: RINALDI, RINALDO.
SE PROPORCIONA UNA DESCRIPCION DE COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES QUE COMPRENDEN DEL 20 AL 90% DE UNA RESINA DE DIAZO CON UN INDICE DE ESTERIFICACION DE ENTRE EL 15 Y EL 40% Y UN CONTENIDO DE NITROGENO DE ENTRE EL 2 Y EL 3%, DEL 0 AL 60% DE UNA RESINA DE NOVOLACA SOLUBLE ALCALI, ASI COMO OTROS COMPONENTES CONVENCIONALES, CARACTERIZADOS EN QUE TIENEN UN VALOR DE ACIDEZ, EXPRESADO COMO FUERZA ELECTROMOTRIZ Y MEDIDOS CON UN ELECTRODO ESPECIFICO PARA DISOLVENTES NO ACUOSOS, DE ENTRE 100 Y 400 MILIVOLTIOS.
MATERIAL DE REGISTRO SENSIBLE A LA RADIACION PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICA.
(01/02/2000) SE PRESENTA UN MATERIAL DE GRABACION SENSIBLE A LA RADIACION, PARA EL TRABAJO EN POSITIVO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICAS, QUE COMPRENDE UN SOPORTE DE ALUMINIO Y UNA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION RECUBIERTA SOBRE EL MISMO, EN DONDE - EL SOPORTE DE ALUMINIO HA SIDO GRANULADO EN ACIDO NITRICO, LUEGO DECAPADO EN ACIDO SULFURICO, ANALIZADO EN ACIDO SULFURICO, Y SUBSECUENTEMENTE HIDROFILIZADO CON UN COMPUESTO QUE COMPRENDE AL MENOS UNA UNIDAD CON UN ACIDO FOSFONICO O UN GRUPO DE FOSFONATO Y - LA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION COMPRENDE A) UN ESTER SENSIBLE A LA RADIACION DE ACIDO 1,2-NAFTOQUINONA-2DIAZURO-4- O -5- SULFONICO Y UN POLICONDENSADO QUE TIENE GRUPOS DE HIDROXIDO FENOLICO, EL POLICONDENSADO SE OBTIENE HACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO FENOLICO CON UN ALDEHIDO O UNA QUETONA, B) UN NOVOLAC O UN PRODUCTO DE…
MATERIALES SENSIBLES A LA RADIACION.
(01/11/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, PRATT, MICHAEL JOHN, MURRAY, DAVID EDWARD, MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, KING, WILLIAM ANTONY.
SE PRESENTA UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE PARTICULAS QUE INCLUYEN UN NUCLEO INSOLUBLE EN AGUA Y DEFORMABLE POR LA ACCION DEL CALOR RODEADO POR UNA CUBIERTA QUE ES SOLUBLE EN UN MEDIO ACUOSO. EL MATERIAL TAMBIEN INCLUYE UN COMPONENTE SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION A LA RADIACION, PROVOCA QUE LAS CARACTERISTICAS DE SOLUBILIDAD DEL MATERIAL CAMBIE. EL MATERIAL PUEDE SER TRABAJADO POSITIVA O NEGATIVAMENTE Y PUEDE SER RECUBIERTO SOBRE UN SUBSTRATO A PARTIR DE UN MEDIO ACUOSO PARA FORMAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION, PUEDE SER REVELADA EN UN MEDIO ACUOSO Y CALENTADA PARA PROVOCAR QUE LAS PARTICULAS SE FUNDAN Y FORMEN UNA IMAGEN DE IMPRESION DURADERA.
PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE ESTERES DEL ACIDO 1,2 - NAFTOQUINONA (2) - DIAZIDA - 4- SULFONICO Y APLICACION DE LOS ESTERES EN MEZCLAS SENSIBLES A LA RADIACION.
(16/12/1994) EL INVENTO SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR ESTERES DEL ACIDO 1, 2 - NAFTOQUINONA - DIAZIDA - 4 - SULFONICO DE FORMULA (I) QUE SE SUSTITUYEN EN POSICION 5, 6, 7 U 8 A TRAVES DE R. DICHO PROCEDIMIENTO CONSISTE EN: A) NITRAR EL -NAFTOL SUSTITUIDO; B) SULFONAR EL COMPUESTO DE A) CON SULFUROS ALCALINOS Y ACISOS; C) REDUCIR EL COMPUESTO DE B), PARA OBTENER EL DERIVADO DEL ACIDO NAFTALINOSULFONICO; D) OXIDAR EL DERIVADO DEL ACIDO NAFTALINOSULFONICO; E) TRATAR EL ACIDO 1, 2 - NAFTOQUINONA - 4- SULFONICO CON HIDRACIDO DEL ACIDO TOLMOLSULFONICO EN DISOLVENTES ORGANICOS Y ENTRE 20 Y 100 C; F) TRANSFORMAR EL COMPUESTO NAFTOQUINONA - DIAXIDA CON ACIDO CLOROSULFONICO EN SULFOCLORURO DEL COMPUESTO; Y G) CONDENSAR EL PRODUCTO DE F) CON UN COMPONENTE FENOLICO. UNA…
UN PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE UN MATERIAL SENSIBLE A LA LUZ E INSOLUBLE EN AGUA.
(16/06/1969). Solicitante/s: SUMNER WILLIAMS INC.
Resumen no disponible.