CIP-2021 : G03F 7/16 : Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05;
aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/16 · Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
UN METODO PARA APLICAR UNA CAPA DE FOTO-RESERVA DE UN GRUESO UNIFORME SOBRE UN SUBSTRATO DE VIDRIO.
(01/11/1982). Solicitante/s: DISCOVISION ASSOCIATES.
PROCEDIMIENTO PARA APLICAR UNA CAPA DE FOTO-RESERVA SOBRE UN SUBSTRATO DE VIDRIO. MIENTRAS SE HACE GIRAR EL SUBSTRATO DE VIDRIO A UNA VELOCIDAD DE 75 A 100 RPM, SE DEPOSITA SOBRE EL UNA FOTO-RESERVA CON UNA VISCOSIDAD DE 1,3 CENTIPOISES APROXIMADAMENTE. SE AUMENTA LA VELOCIDAD DEL SUBSTRATO HASTA UN VALOR DE 750 A 1000 RPM PARA SECAR PARCIALMENTE LA FOTO-RESERVA. POR ULTIMO Y DURANTE UNOS 20 MINUTOS SE CUECE EL SUBSTRATO A UNA TEMPERATURA DE UNOS 80C PARA SECAR POR COMPLETO LA CAPA DEPOSITADA. >DE APLICACION EN LA FABRICACION DE DISCOS MADRE PARA VIDEO.
UN METODO DE PREPARAR UN SUBSTRATO DE VIDRIO PARA USO EN LA FORMACION DE UN DISCO MADRE DE VIDEO.
(16/05/1982). Solicitante/s: DISCOVISION ASSOCIATES.
METODO DE PREPARACION DE UN SUSTRATO DE VIDRIO. SE SELECCIONA UN SUSTRATO DE VIDRIO QUE TENGA UNA SUPERFICIE ANULAR PLANA SUSTANCIALMENTE EXENTA DE PICADURAS Y ARAÑAZOS. SE DISTRIBUYE UNA SUSTANCIA FAVORECEDORA DE LA ADHERENCIA, TAL COMO CLORURO ESTANNOSO, SOBRE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO, MIENTRAS ESTA ESTA GIRANDO. SE LAVA DICHA SUPERFICIE CON AGUA, MIENTRAS EL SUSTRATO ESTA GIRANDO, PARA QUITAR LOS RESTOS DE LA SUSTANCIA FAVORECEDORA DE LA ADHERENCIA. SE HACE GIRAR EL SUSTRATO A UNA ELEVADA VELOCIDAD COMPRENDIDA ENTRE 750 Y 1000 RPM., AL OBJETO DE SECAR SU SUPERFICIE. POR ULTIMO, SE DISTRIBUYE A TRAVES DE UN TUBO UNA SOLUCION DE FOTO-RESERVA DILUIDA SOBRE LA SUPERFICIE SECA DEL SUSTRATO.
UN APARATO PARA PRODUCIR AUTOMATICAMENTE PLACAS LITOGRAFICAS ACABADAS A PARTIR DE UN SUMINISTRO DE PLACAS ELEMENTALES Y DE UN SUMINISTRO DE REGISTROS.
(16/12/1980) Un aparato para producir automáticamente placas litográficas acabadas a partir de un suministro de placas elementales y de un suministro de negativos, comprendiendo dicho aparato, medios para recoger una placa elemental de dicho suministro de placas elementales en una estación de recogida y situar dicha placa sobre un transportador de recubrimiento que lleva a una estación de recubrimiento, medios para recubrir la cara inferior de dicha placa elemental con un fluido fotosensible en una estación de recubrimiento e invertir lugo dicha placa y colocarla en un transportador se secado de primera etapa, medios para secar dicho fluido sobre dicha placa en una estación de secado de dos etapas haciendo pasar para ello dicha placa a través de un deflector de aire calentado en un primer…
UN METODO DE ENMASCARAMIENTO POR FOTORESERVA.
(01/02/1977). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.
Resumen no disponible.