CIP-2021 : C03B 19/14 : por procesos de reacción en fase gaseosa.

CIP-2021CC03C03BC03B 19/00C03B 19/14[1] › por procesos de reacción en fase gaseosa.

Notas[t] desde C01 hasta C14: QUIMICA
Notas[g] desde C03B 9/00 hasta C03B 21/00: Modelado del vidrio

C QUIMICA; METALURGIA.

C03 VIDRIO; LANA MINERAL O DE ESCORIA.

C03B FABRICACION O MODELADO DE VIDRIO O DE LANA MINERAL O DE ESCORIA; PROCESOS SUPLEMENTARIOS EN LA FABRICACION O MODELADO DE VIDRIO O DE LANA MINERAL O DE ESCORIA (tratamiento de la superficie C03C).

C03B 19/00 Otros métodos de modelado del vidrio (fabricación de fragmentos, fibras o filamentos obtenidos a partir de vidrio, sustancias inorgánicas o escorias reblandecidas C03B 37/00).

C03B 19/14 · por procesos de reacción en fase gaseosa.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Método de identificación de una pluralidad de recipientes y/o artículos acabados obtenidos a partir de dichos recipientes.

(27/05/2020) Método de autentificación de uno o más recipientes para una utilización médica y/o artículos acabados obtenidos a partir de dichos recipientes, asociados con uno o más productos de interés , poniéndose dicho método en práctica mediante unos medios informáticos, comprendiendo dicho método por lo menos las etapas siguientes: (AA) proporcionar por lo menos un lote de uno o más recipientes para una utilización médica, estando asociado dicho por lo menos un lote con el producto de interés , presentando cada uno de dichos uno o más recipientes un sustrato de una pieza en bruto destinado a constituir por lo menos una pared del recipiente, en el que el sustrato de la pieza en bruto es un sustrato rígido formado…

Quemador para generación de una llama alargada.

(30/01/2019). Solicitante/s: Hilgenberg, Ingo. Inventor/es: HILGENBERG,INGO.

Quemador para la generación de una llama, que comprende al menos un cuerpo hecho de vidrio de borosilicato o cuarzo y que incluye al menos una salida de gas (4, 14a, 14b), en donde el quemador se adapta para generar una llama alargada.

PDF original: ES-2712508_T3.pdf

Método de producción de vidrio de cuarzo sintético para láser de excímeros.

(04/12/2013) Método de producción de un vidrio de cuarzo sintético, adecuado para uso con un láser de excímeros, quecomprende las etapas de: depositar partículas de sílice sobre un objetivo en un horno de sinterización al vacío para formar un material basede sílice porosa, obteniéndose las partículas de sílice sometiendo un material de partida que contiene silicio ahidrólisis en fase de vapor o descomposición oxidativa en una llama de oxihidrógeno; vitrificar el material base de sílice porosa, y someter el material vitrificado a formación en caliente, un tratamiento de recocido y un tratamiento de dopado conhidrógeno caracterizado…

METODO Y APARATO PARA TEÑIR UN MATERIAL.

(01/04/2007) Un procedimiento para llevar a cabo la tinción coloidal de un material, caracterizado porque el procedimiento comprende - formar una llama, - suministrar un líquido que comprende al menos un primer componente bien directamente en estado líquido o mezclado o disuelto en al menos un segundo componente líquido a la llama o a su proximidad directa, - atomizar dicho líquido, que comprende el primer componente en estado líquido o mezclado o disuelto en al menos un segundo componente líquido, en gotitas de un modo tal que las gotitas también contienen al menos dicho primer componente o un tercer componente formado en una reacción en la que dicho primer componente ha sido un reaccionante, - evaporar las gotitas, en el que al menos dicho primer componente o dicho tercer componente contenido…

PROCEDIMIETO PARA LA PRODUCCION DE SILICE MEDIANTE DESCOMPOSICION DE UN ORGANOLSILANO.

(16/03/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: PIRELLI & C. S.P.A.. Inventor/es: ROBA, GIACOMO, STEFANO, ARIMONDI, MARCO.

Procedimiento para la producción de una preforma de sílice óptica de alta pureza, que comprende a) vaporización de un compuesto organosilíceo; b) descomposición térmica de dicho compuesto organosilíceo en el estado vapor, para dar partículas de sílice fundidas amorfas; c) deposición de dichas partículas de sílice fundidas amorfas sobre un soporte; y caracterizado por el hecho de que dicho compuesto organosilíceo tiene la siguiente fórmula (I) en la que R1, R2 y R3 son cada uno, de manera independiente, hidrógeno, metil, etil, propil, isopropil o un grupo de fórmula -Si-(R5 R6 R7), donde R5, R6 y R7 son cada uno, de manera independiente, metil, etil, propil o isopropilo, y R4 es un grupo de fórmula -(CH2)m-Si-(R5 R6 R7), donde R5, R6 y R7 son como se ha definido anteriormente y m es un entero entre 0 y 3.

DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION DE VAPOR DE UN SUSTRATO ALARGADO.

(01/03/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: FIBRE OTTICHE SUD F.O.S. S.P.A. Inventor/es: COCCHINI, FRANCO, ROSSI, ALESSANDRO, GRIECO, STEFANO.

Procedimiento para la deposición química de material sintético sobre un miembro de substrato alargado con un eje longitudinal que comprende las etapas de: - fijar un extremo (2a) de dicho medio alargado a un medio de sujeción, - impartir rotación alrededor de dicho eje longitudinal a dicho miembro alargado por medio de dicho elemento de sujeción , y - depositar material sintético sobre dicho miembro alargado , caracterizado por el hecho de que comprende la etapa de restringir radialmente por lo menos un extremo (2a; 2b) de dicho miembro alargado respecto a dicho eje longitudinal en dos posiciones separadas axialmente.

METODO DE FABRICACION DE SILICE FUNDIDO.

(16/02/1997) ESTA INVENCION SE REFIERE A LA PRODUCCION DE VIDRIO DE SILICE FUNDIDO DE PUREZA ELEVADA A TRAVES DE OXIDACION Y/O HIDROLISIS A LA LLAMA DE UNA COMPOSICION DE LIBRE DE HALURO, DE ORGANOSILICONA-R EN FORMA DE VAPOR QUE TIENE LAS SIGUIENTES PROPIEDADES: (A) PRODUCCION DE UNA CORRIENTE DE GAS DE UN COMPUESTO QUE CONTIENE SILICONA LIBRE DE HALURO EN FORMA DE VAPOR QUE PUEDE SER CONVERTIDO A TRAVES DE LA DESCOMPOSICION TERMICA CON OXIDACION O HIDROLISIS A LA LLAMA EN SIO2; (B) PASO DE DICHA CORRIENTE DE GAS A LA LLAMA DE UN QUEMADOR DE COMBUSTION PARA FORMAR PARTICULAS AMORFAS DE SIO2 FUNDIDO; (C) DEPOSITO DE DICHAS PARTICULAS AMORFAS SOBRE UN SOPORTE; Y (D) ESENCIALMENTE DE FORMA SIMULTANEA A DICHA DEPOSICION O POSTERIORMENTE A LA…

METODO DE FABRICACION DE SILICE FUNDIDO SUAVIZADO CON TITANIO.

(16/10/1996). Solicitante/s: CORNING INCORPORATED. Inventor/es: BLACKWELL, JEFFERY LYNN, CORNING INCORPORATED, TRUESDALE, CARLTON MAURICE, CORNING INCORPORATED.

LO DESCRITO ES UN METODO DE PRODUCCION DE UN VIDRIO DE SILICE FUNDIDO DE ELEVADA PUREZA SUAVIZADO CON TITANIO A TRAVES DE OXIDACION O HIDROLISIS A LA LLAMA DE UNA MEZCLA GASEOSA Y QUE CONTIENE CRISTALES DE RUTILO QUE COMPRENDEN UN COMPUESTO VAPORIZABLE, QUE CONTIENE SILICONA Y UN COMPUESTO DE TITANIO VAPORIZABLE. ISOPROPOXIDO DE TITANIO, ETOXIDO DE TITANIO, TITANIO-2-ETILHEXILOXIDO , CICLOPENTILOXIDO DE TITANIO Y UNA AMIDA DE TITANIO, O UNA COMBINACION DE LOS MISMOS, CONSTITUYEN LOS COMPUESTOS QUE CONTIENEN TITANIO LIBRE DE HALURO OPERABLES. EN PARTICULAR SE DESCRIBE UN METODO TAL PARA FABRICAR FIBRAS DE GUIA DE ONDAS OPTICAS.

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