CIP-2021 : G01Q 40/02 : Patrones de calibración o métodos para fabricarlos.
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G FISICA.
G01 METROLOGIA; ENSAYOS.
G01Q TECNICAS O APARATOS DE SONDA DE BARRIDO; APLICACIONES DE TECNICAS DE SONDA DE BARRIDO, p. ej. MICROSCOPIA POR SONDA DE BARRIDO [SMP].
G01Q 40/00 Calibración, p. ej. sondas.
G01Q 40/02 · Patrones de calibración o métodos para fabricarlos.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
DISPOSITIVO PARA LA CALIBRACIÓN DE UNIDADES DE DETECCIÓN DE MOVIMIENTO.
(17/01/2019) 1. Dispositivo para calibración de al menos una unidad de detección de movimiento , el que las unidades de detección de movimiento, comprende al menos:
- un giroscopio ,o
- un magnetómetro , o
- un acelerómetro ,
caracterizado porque el dispositivo de calibración está delimitado exteriormente por al menos tres caras planas definidas por sendas direcciones normales, donde las tres normales son mutuamente perpendiculares y el dispositivo de calibración comprende, además:
- al menos un alojamiento accesible desde el exterior, para alojar al menos una unidad de detección de movimiento .
2. Dispositivo de calibración, según la reivindicación 1,…
MATERIAL SEMICONDUCTOR MICRO- Y NANO- ESTRUCTURADO, PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN Y USO COMO PATRÓN DE CALIBRACIÓN.
(29/11/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: EZQUERRA SANZ,TIBERIO, REBOLLAR GONZALEZ,Esther, RODRÍGUEZ RODRÍGUEZ,Álvaro, GARCÍA GUTIÉRREZ,Mari Cruz.
Material semiconductor micro- y nano- estructurado, procedimiento de obtención y uso como patrón de calibración.
La presente invención se refiere a un material semiconductor micro- y nano- estructurado que sirve como patrón de calibración, particularmente como patrón de calibración espacial y conductor en medidas con microscopios de fuerza atómica conductivo. Además la presente invención se refiere al procedimiento de fabricación de dicho material mediante la técnica de estructuración superficial periódica inducida por láser y el uso de una máscara. Por tanto, la presente invención se podría encuadrar en el sector de las técnicas de análisis y caracterización de muestras.
PDF original: ES-2644586_A1.pdf
MATERIAL SEMICONDUCTOR MICRO- Y NANO- ESTRUCTURADO, PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN Y USO COMO PATRÓN DE CALIBRACIÓN.
(02/11/2017). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC). Inventor/es: EZQUERRA SANZ,TIBERIO, REBOLLAR GONZALEZ,Esther, RODRÍGUEZ RODRÍGUEZ,Álvaro, GARCÍA GUTIÉRREZ,Mari Cruz.
La presente invención se refiere a un material semiconductor micro- y nano- estructurado que sirve como patrón de calibración, particularmente como patrón de calibración espacial y conductor en medidas con microscopios de fuerza atómica conductivo. Además la presente invención se refiere al procedimiento de fabricación de dicho material mediante la técnica de estructuración superficial periódica inducida por láser y el uso de una máscara. Por tanto, la presente invención se podría encuadrar en el sector de las técnicas de análisis y caracterización de muestras.