CIP-2021 : C23C 14/40 : por descarga en corriente alterna, p. ej. por descarga en alta frecuencia.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/40 · · · · por descarga en corriente alterna, p. ej. por descarga en alta frecuencia.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUSTRATO CON AYUDA DE LA DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR.
(01/04/2007). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG. Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., TESCHNER, GOTZ.
EN UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON LA AYUDA DE PLASMA CVD (FIG.1), SE DISPONE DE UNA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA, QUE SE UNE CON DOS CATODOS MAGNETRON, DONDE UNO DE LOS POLOS DE LA FUENTE DE CORRIENTE ALTERNA ESTA CONECTADO EN UN CATODO Y EN EL OTRO POLO SE CONECTA EL OTRO CATODO A TRAVES DE UNA CONDUCCION DE ABASTECIMIENTO. DISPONIENDOSE CADA UNO DE AMBOS CATODOS EN UN COMPARTIMENTO PROPIO, DONDE CADA COMPARTIMENTO INCLUYE ENTRE ELLOS UN TERCER COMPARTIMENTO CONECTADO A UNA FUENTE DE VACIO. AMBOS COMPARTIMENTOS DISPUESTOS EXTERIORMENTE SE UNEN A TRAVES DE ABERTURAS O ESPACIOS EN LAS PAREDES UNO CON OTRO, DONDE EL SUBSTRATO DISPUESTO EN EL TERCER COMPARTIMENTO ESTA EQUIPADO CON UNA FUENTE CVD, QUE SE CONFIGURA ESENCIALMENTE A PARTIR DE UNA ENTRADA DE GAS REACTIVO Y UN COLIMADOR.
METODO Y APARATO PARA LA GENERACION DE UNA DESCARGA EN LOS VAPORES PROPIOS DE UN ELECTRODO DE FRECUENCIA DE RADIO PARA UNA SUBLIMACION METALICA Y EVAPORACION SOSTENIDA DEL ELECTRODO.
(01/05/2003) SE PRESENTA UN METODO Y UN APARATO PARA GENERAR UNA DESCARGA EN VAPORES PROPIOS DE UN ELECTRODO DE FRECUENCIA DE RADIO PARA UNA SUBLIMACION METALICA Y UNA EVAPORACION SOSTENIDA QUE COMPRENDE LOS PASOS DE: A) LA GENERACION DE UNA DESCARGA DE FRECUENCIA DE RADIO MEDIANTE UN ELECTRODO DE FRECUENCIA DE RADIO DE UNA GEOMETRIA HUECA EN UN GAS AUXILIAR INTRODUCIDO EN EL INTERIOR DEL AREA DE DESCARGA A UNA PRESION NECESARIA A UNA PRESION NECESARIA PARA LA INICIACION DE LA DESCARGA DE UN CATODO HUECO DENTRO DEL ELECTRODO HUECO PROVOCANDO LA SUBLIMACION METALICA Y/O LA EVAPORACION DE LA SUPERFICIE DEL ELECTRODO; B) INCREMENTAR LA POTENCIA…
APARATO PARA PRODUCIR UNA DESCARGA EN ARCO LINEAL, PARA UN TRATAMIENTO POR PLASMA.
(16/01/2000) SE PRESENTA UN APARATO PARA LA GENERACION DE UNA DESCARGA DE ARCO LINEAL PARA EL PROCESAMIENTO DE PLASMA, PARTICULARMENTE PARA EL PROCESAMIENTO SUPERFICIAL DE SUBSTRATOS SOLIDOS, INSTALADO EN UN REACTOR MANTENIDO A PRESIONES DE GAS POR DEBAJO DE 5 X 10 {SUP,4} PA Y ALIMENTADO POR UN GENERADOR DE CORRIENTE ALTERNA Y/O ENERGIA PULSANTE , Y QUE INCLUYE: AL MENOS UN PAR DE UNA PRIMERA ELECTRODOS Y SEGUNDA PLACA DE ELECTRODOS COLOCADAS DE FORMA OPUESTA ENTRE SI A UNA DISTANCIA QUE EXCEDE DE 0.4 MM Y CONECTADAS AL MISMO POLO DEL GENERADOR QUE TIENE UN POLO CONTRARIO CONECTADO A UN ELECTRODO CONTRARIO , UN CAMPO MAGNETICO PRODUCIDO POR IMANES PARA EL DESARROLLO DE UNA ZONA CALIENTE LINEAL SOBRE LA PRIMERA PLACA DE ELECTRODOS Y UNA ZONA CALIENTE LINEAL…