CIP 2015 : C23C 16/06 : caracterizado por la deposición de un material metálico.

CIP2015CC23C23CC23C 16/00C23C 16/06[1] › caracterizado por la deposición de un material metálico.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00).

C23C 16/06 · caracterizado por la deposición de un material metálico.

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Proceso de metalización a vacío para cromar substratos.

(21/08/2013) Un proceso para revestir un substrato con un acabado cromado estable e uniforme, comprendiendo dicho proceso la secuencia siguiente: a) proporcionar un substrato; b) preparar una superficie de dicho substrato; c) aplicar un revestimiento de base; d) aplicar una primera capa metálica estabilizadora a dicho substrato por medio de una deposición con vapor a vacío, comprendiendo dicha primera capa metálica una mezcla de 50-80% de Níquel y 50-20% de cromo; y e) aplicar una segunda capa metálica sobre dicha primera capa metálica por medio de un método de deposición con vapor a vacío, estando dicha segunda capa metálica por aproximadamente 99% de cromo.

PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE CAPAS FINAS POROSAS DE OXIDOS INORGANICOS.

(01/05/2005). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS UNIVERSIDAD DE SEVILLA. Inventor/es: BARRANCO QUERO,ANGEL, YUBERO VALENCIA,FRANCISCO, COTRINO BAUTISTA,JOSE, ESPINOS MANZORRO,JUAN PEDRO, RODRIGUEZ GONZALEZ-ELIPE,AGUSTIN.

Procedimiento para la preparación de capas finas porosas de óxidos inorgánicos. El objeto de la presente invención es un procedimiento para la preparación de capas finas de óxidos inorgánicos sobre substratos mediante la deposición desde fase vapor asistida por plasma que se diferencia de los procedimientos habituales porque se intercalan entre las sucesivas etapas de deposición del óxido inorgánico etapas de deposición de capas orgánicas, de forma que durante la etapa de deposición de la capa inorgánica se produzca la eliminación por combustión de la parte orgánica previamente depositada. El procedimiento es de interés en el desarrollo de membranas selectivas para separación y purificación de fluidos así como para la fabricación y modificación de sensores de gases y de humedad y de componentes electrónicos.

METODO PARA DISOCIAR METALES O PARA DISOCIAR COMPUESTOS METALICOS.

(01/04/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: IDAHO RESEARCH FOUNDATION, INC. Inventor/es: SMART, NEIL, G., WAI, CHIEN, M., HUNT, FRED, H., YUEHE, LIN.

Método para disociar metales de compuestos metálicos, que comprende: proporcionar un fluido supercrítico que incluye los compuestos metálicos que comprenden al menos un metal; y tratar el fluido supercrítico que incluye los compuestos metálicos para cambiar el estado de oxidación del metal y disociar el metal de los compuestos en el fluido supercrítico y formar partículas metálicas o de óxido metálico.

PROCEDIMIENTO DE REVESTIMIENTO DE PINTURA POR CATAFORESIS DE UNA PIEZA DE ACERO GALVANIZADO - ALEADO.

(16/01/1999). Solicitante/s: SOLLAC. Inventor/es: CHOQUET, PATRICK, GUESDON, PHILIPPE, LE DUC, HIEP.

EL INVENTO SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO DE REVESTIMIENTO DE PINTURA POR CATAFORESIS DE UNA PIEZA DE ACERO GALVANIZADO ALEADO, COMO UNA CHAPA, QUE CONSISTE EN UN PRIMER PASO EN DEPOSITAR EN VACIO, SOBRE AL MENOS UNA CARA DE DICHA PIEZA DE ACERO GALVANIZADO NTIENE MENOS DEL 60% DE HIERRO EN PESO Y CUYO ESPESOR NO SUPERA 1 MICRA, Y POSTERIORMENTE EN SOMETER DICHA PIEZA ASI REVESTIDA A UNA OPERACION DE PINTADO POR CATAFORESIS. ESTE PROCEDIMIENTO PERMITE EVITAR EL FENOMENO DE CRATERIZACION SUPERFICIAL DEL SUSTRATO, RETRASA LA APARICION DEL GRIPADO Y FACILITA LA FORMACION POSTERIOR DEL SUSTRATO.

METODO PARA REVESTIR UNA SUPERFICIE CON UNA CAPA RESISTENTE POR DEPOSICION QUIMICA DESDE FASE VAPOR.

(16/05/1998). Solicitante/s: ELF ATOCHEM NORTH AMERICA, INC.. Inventor/es: BUCHANAN, JEROME, LAWRENCE, DIRKX, RYAN, RICHARD.

UN SUBSTRATO SE PROVEE CON UN REVESTIMIENTO RESISTENTE, POR MEDIO DE LA DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR DE UN MATERIAL DURO, PASANDO UNA MEZCLA GASEOSA DE UN PRECURSOR DEL MATERIAL, UN CATALIZADOR, UN OXIDANTE, Y UN GAS PORTADOR POR LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO, Y ELIMINANDO DE ESTA LOS MATERIALES NO REACCIONADOS Y LOS PRODUCTOS SECUNDARIOS; SE OBTIENEN MEZCLAS DE MATERIALES DUROS EMPLEANDO UN CO PREFERIBLE QUE EL SUBSTRATO SE CALIENTE. LA FIGURA MUESTRA UN ESQUEMA DEL APARATO QUE INCLUYE: EL PRECURSOR Y EL CATALIZADOR QUE SE VAPORIZAN Y SE TRANSFIEREN AL REACTOR . UNA MEZCLA DE OXIDO DE CROMO Y OXIDO DE ESTAÑO ES EL MATERIAL DE REVESTIMIENTO PREFERIDO, OBTENIDOS POR DESCOMPOSICION DE UN CLORURO DE CROMILO Y UN TRICLORURO DE MONOBUTILESTAÑO EN LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO, EN PRESENCIA DE METILISOBUTILCETONA Y AIRE. TAMBIEN SE PUEDEN EMPLEAR OTRAS MEZCLAS METALICAS.

PROCEDIMIENTO PARA EL PRETRATAMIENTO DE SUPERFICIES DE COMPONENTES PLASTICOS.

(01/02/1998). Solicitante/s: BAYER AG. Inventor/es: SOMMER, KLAUS, BIER, PETER, ELSCHNER, ANDREAS, THURM, SIEGFRIED, KOWITZ, MANFRED, SANDQUIST, AXEL.

PARA MEJORAR LA ADHESION DE RECUBRIMIENTO, EN PARTICULAR RECUBRIMIENTOS METALICOS, A SUPERFICIES DE COMPONENTES PLASTICOS, ESTOS ULTIMOS SON TRATADOS PREVIAMENTE EN PLASMA DE BAJA PRESION CON UN PROCESO DE GAS CONTENIENDO AZUFRE HEXAFLORURO (SF6), QUE ESTA SUSTANCIALMENTE LIBRE DE OXIGENO, MANTENIENDOSE LA SUPERFICIE PLASTICA LIBRE DE DEPOSITOS DE FLUOR O DE INCLUSIONES DURANTE EL TRATAMIENTO PREVIO.

PROCESO PARA LA FORMACION DE UNA PELICULA DEPOSITADA FUNCIONAL QUE CONTIENE ATOMOS DE LOS GRUPOS 3 Y 5 COMO ATOMOS PRINCIPALES CONSTITUYENTES MEDIANTE UN PROCESO DE DEPOSITACION QUIMICO DE VAPOR DE PLASMA MEDIANTE MICROONDAS.

(16/11/1993) SE PRESENTA UN PROCESO PARA LA FORMACION DE UNA PELICULA DEPOSITADA FUNCIONAL CONTENIENDO ATOMOS QUE PERTENECEN A LOS GRUPOS TERCERO Y QUINTO DE LA TABLA PERIODICA COMO ATOMOS PRINCIPALES DE CONSTITUCION MEDIANTE LA INTRODUCCION, DENTRO DE UN ESPACIO DE FORMACION DE LA PELICULA DISPUESTO PARA FORMAR UNA PELICULA DEPOSITADA SOBRE UN SUBSTRATO DISPUESTO EN EL, UN COMPUESTO Y UN COMPUESTO REPRESENTADOS RESPECTIVAMENTE POR LAS FORMULAS GENERALES Y COMO MATERIAL EN BRUTO PARA LA FORMACION DE LA PELICULA Y, SI SE NECESITA, UN COMPUESTO QUE CONTIENE UN ELEMENTO CAPAZ DE CONTROLAR LOS ELECTRONES DE VALENCIA PARA LA PELICULA DEPOSITADA COMO ELEMENTO CONSTITUYENTE CADA UNO DE ELLOS EN UN ESTADO GASEOSO, O EN UN ESTADO DONDE AL MENOS UNO DE DICHOS COMPUESTOS…