PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE SUBSTRATOS.
Dispositivo (1) para el recubrimiento de substratos (13), con un porta-substrato (5),
en el que está retenido el substrato de tal forma que una superficie (15) de substrato a recubrir está libre y apunta hacia abajo, y con un dispositivo para la rotación del porta-substrato (5), caracterizado por una cubierta (20) que se puede fijar en el porta-substrato (5), que forma junto con el porta-substrato (5) una cámara (36) cerrada herméticamente, que recibe al substrato (13).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: STEAG HAMATECH AG.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: FERDINAND-VON-STEINBEIS-RING 10,75447 STERNENFELS.
Inventor/es: KRAUSS, PETER, APPICH, KARL, DRESS, PETER, SZEKERESCH, JAKOB, WEIHING, ROBERT.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 19 de Enero de 2000.
Fecha Concesión Europea: 13 de Noviembre de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B05C11/08 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B05 PULVERIZACION O ATOMIZACION EN GENERAL; APLICACION DE MATERIALES FLUIDOS A SUPERFICIES, EN GENERAL. › B05C APARATOS PARA LA APLICACION DE MATERIALES FLUIDOS A LAS SUPERFICIES, EN GENERAL (aparatos de pulverización, aparatos de atomización, toberas o boquillas B05B; instalaciones para aplicar líquidos u otros materiales fluidos a objetos por pulverización electrostática B05B 5/08). › B05C 11/00 Partes constitutivas, detalles o accesorios no especificados en los grupos B05C 1/00 - B05C 9/00 (B05C 19/00 tiene prioridad; medios para manipular o mantener los artículos B05C 13/00; recintos para aparatos, cabinas B05C 15/00). › Extendido del líquido u otro material fluido por manipulación de la pieza tratada, p. ej. por inclinación.
- G03F7/16 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.
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