DISCO DE SOPORTE QUE FLEXIONA HACIA ARRIBA PARA EL SELLO DE UNA PILA ELECTROQUIMICA.
UN DISCO DE APOYO METALICO (10) PARA UNA OBTURACION DE CELULAS ELECTROQUIMICAS EJERCE UNA FUERZA RADIAL ELASTICA HACIA FUERA ELASTICA CONTRA LA OBTURACION PARA MANTENER LA INTEGRIDAD DE LA OBTURACION SOBRE UNA VARIACION AMPLIA DE TEMPERATURA,
Y AL MISMO TIEMPO EJERCE UNA FUERZA ASCENDENTE CONTRA EL FONDO DEL TERMINAL OBTURADOR DEL EXTREMO METALICO DE LA CELULA PARA ASEGURAR EL CONTACTO ELECTRICO ENTRE EL ANODO DENTRO DE LA CELULA Y EL TERMINAL. EL DISCO INCLUYE UNA PLATAFORMA (14) CENTRAL, CIRCULAR CONECTADA A UNA BRIDA (28) OBTURADORA DEL BORDE OBTURADOR, EXTERIOR POR UN MEDIO DE FLEXION ANULAR QUE PERMITE EL MOVIMIENTO RADIALMENTE HACIA DENTRO Y HACIA FUERA DEL BORDE OBTURADOR (30) CUANDO EL EXTREMO DE LA CELULA ES RADIALMENTE DOBLADO DURANTE EL PROCESO DE OBTURACION. EL PLIEGUE TAMBIEN LEVANTA LA PARTE CENTRAL (12) DEL DISCO LO CUAL TIENE COMO RESULTADO QUE LA FUERZA ASCENDENTE ES EJERCIDA CONTRA EL TERMINAL DEL EXTREMO. EL MEDIO DE FLEXION ES UNA SERIE SECUENCIAL DE TRES REBORDES CURVADOS, ANULARES CON EL PRIMERO (20) Y EL TERCERO (26) CURVADOS HACIA ABAJO Y EL SEGUNDO (24) CURVADO HACIA ARRIBA. UN ANILLO (22) QUE PENDE RADIALMENTE HACIA FUERA Y QUE EN UN ANGULO ASCENDENTE DESDE EL PRIMER REBORDE CONECTA EL PRIMER REBORDE AL SEGUNDO REBORDE Y AYUDA A EVITAR LA DEFORMACION PLASTICA DE LA OBTURACION DEL DISCO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: DURACELL INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: BERKSHIRE CORPORATE PARK,,BETHEL, CONNECTICUT 06801.
Inventor/es: DEPALMA, CHRISTOPHER L., POPE, PETER, SARGEANT, SEAN A., WIACEK, MARIAN, YOPPOLO, ROBERT A.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 17 de Agosto de 1995.
Fecha Concesión Europea: 3 de Marzo de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01M2/04
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Mónaco, Irlanda, Oficina Europea de Patentes, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual.
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