MEJORAS EN, O EN RELACION CON MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION.
UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION ADECUADO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION,
PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, SE BASA EN UN POLIMERO QUE CONTIENE DIVERSAS UNIDADES ESTRUCTURALES REPRESENTADAS POR LA FORI, EN LA QUE R REPRESENTA HIDROGENO O METILO; CADA R1, QUE PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES, REPRESENTA HIDROGENO O ALQUILO; R2 REPRESENTA UN ENLACE SENCILLO O UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR; AR REPRESENTA UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR DERIVADO DE UN COMPUESTO AROMATICO O HETEROAROMATICO; X REPRESENTA OXIGENO, AZUFRE O NH; A REPRESENTA UN ANION; Y REPRESENTA UN CARBONILOXI O RADICAL AROMATICO; Y N ES UN ENTERO IGUAL O MAYOR QUE 1.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION).
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 1007 MARKET STREET, WILMINGTON DEL. 19898.
Inventor/es: PRATT, MICHAEL JOHN, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 2 de Septiembre de 1992.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/021 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos de diazonio macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
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