MATERIAL PORTADOR, ANTIESTATICO, FOTOGRAFICO.
EL INVENTO SE TRATA DE UN MATERIAL PORTADOR PARA CAPAS FOTOGRAFICAS CON UNA LINEA DEL LADO POSTERIOR ANTIESTATICA,
QUE AL MENOS CONTIENE CUATRO COMPONENTES: A) UN ACIDO SILICIO, COLOIDAL, ALUMINIOMODIFICADO; B) UNA SAL ALCALINA DE UN POLIACIDO ORGANICO; C) UNA DISPERSION ACUOSA DE COPOLIMEROS DE ACIDOACRILICOALCOHILESTER CON UN CONTENIDO DE GRUPOS LIBRES DE CARBOXIL DE 1 10 MOL% Y DE GRUPOS LIBRES DE HIDROXIL DE 0 - 20 MOL%; D) UN AZIDIRIN, TRIGUNCIONAL COMO MEDIO DE LA RETICULACION Y UN PROCEDIMIENTO PARA SU ELABORACION. EL LADO POSTERIOR DEL MATERIAL FOTOGRAFICO, CONFORMA CON EL INVENTO, MUESTRA UNA TOMA DE LA SUCIEDAD ESCASA EN EL TRANSITO A TRAVES DE MAQUINAS PARA REVELAR DE TRANSPORTADOR DE CILINDROS, UNA RESISTENCIA ALTA DE ABRASION Y ESTABILIDAD EN DISOLUCIONES PARA REVELAR, ALCALINOS, TRABAJO BUENO DE ESTAMPAMIENTO EN EL ESTAMPAMIENTO CON TINTA TIPOLITOGRAFICA, TRADICIONAL, UNA CAPACIDAD BUENA DE LA ROTULACION ASI COMO TAMBIEN UNA ADHERENCIA BUENA DE LA CINTA ADHERENTE.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: FELIX SCHOELLER JR. PAPIERFABRIK GMBH & CO. KG.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: BURG GRETESCH, W-4500 OSNABRUCK.
Inventor/es: SAVERIN, ECKEHARD, TYRAKOWSKI, HANS-UDO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 29 de Julio de 1992.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03C1/85 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › caracterizados por aditivos o revestimientos antiestáticos.
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