COMPOSICIONES COSMETICAS QUE COMPRENDEN UN TENSIOACTIVO ANIONICO DE UN ESTER DE ALQUILPOLIGLICOSIDO Y UNA CERAMIDA Y SUS UTILIZACIONES.

Composición cosmética, caracterizada por el hecho de que comprende, en un medio cosméticamente aceptable, al menos un tensioactivo aniónico de tipo éster de alquilpoliglicósido carboxílico o sus sales y al menos un compuesto de tipo ceramida de fórmula

(I) siguiente: **(Fórmula)**
en la que:
- R1 designa:
- o bien un radical hidrocarbonado, lineal o ramificado, saturado o insaturado, de C1-C50, preferentemente de C5-C50, pudiendo substituirse este radical por uno o varios grupos hidroxilo eventualmente esterificado por un ácido R7COOH, siendo R7 un radical hidrocarbonado, saturado o insaturado, lineal o ramificado, eventualmente mono o polihidroxilado, de C1-C35, el o los hidroxilos del radical R7 que puede esterificarse por un ácido graso saturado o insaturado, lineal o ramificada, eventualmente mono o polihidroxilado de C1-C35; - o bien un radical R”-(NR-CO)q-R’, R designa un átomo de hidrógeno o un radical hidrocarbonado C1-C20 mono o polihidroxilado, preferentemente monohidroxilado, R y R” son radicales hidrocarbonados cuya suma de los átomos de carbono está comprendida entre 9 y 30, siendo R’ un radical divalente, q designa 0 o 1,
- o bien un radical R8-O-CO-(CH2)p, R8 designa un radical hidrocarbonado de C1-C20, p es un entero que varía de 1 a 12,
- R2 está elegido entre un átomo de hidrógeno, un radical de tipo sacarídico, en particular un radical (glicosilo)n, (galactosilo)m, o sulfogalactosilo, un residuo de sulfato o de fosfato, un radical fosforiletilamina y un radical fosforiletilamonio, en los que n es un entero que varía de 1 a 4 y m es un entero que varía de 1 a 8;
- R3 designa o un radical hidrocarbonado de C1-C33, saturado o insaturado, hidroxilado o no, el o los hidroxilos que puede esterificarse por un ácido mineral o un ácido R7COOH, teniendo R7 los mismos significados que anteriormente, pudiendo esterificarse el o los hidroxilos por un radical (glicosilo)n, (galactosilo)m, sulfogalactosilo, fosforiletilamina o fosforiletilamonio, pudiendo substituirse igualmente R3 por uno o varios radicales alquilo de C1-C14;
preferentemente, R3 designa un radical a-hidroxialquilo de C15-C26, estando esterificado eventualmente el grupo hidroxilo por un a-hidroxiácido de C16-C30;
- R4 designa un átomo de hidrógeno, un radical metilo, etilo, un radical hidrocarbonado no alcoxilado de C3-C50, saturado o insaturado, lineal o ramificado, eventualmente hidroxilado o un radical R8-O-CO(CH2)p, R8 designa un radical hidrocarbonado de C1-C20, p es un entero que varía de 1 a 12;
- R5 designa un átomo de hidrógeno o un radical hidrocarbonado de C1-C30 saturado o insaturado, lineal o ramificado, eventualmente mono o polihidroxilado, el o los hidroxilos que pueden esterificarse por un radical (glicosilo)n, (galactosilo)m, sulfogalactosilo, fosforiletilamina o fosforiletilamonio,
con la condición que cuando R3 y R5 designen hidrógeno o cuando R3 designe hidrógeno y R5 designe metilo, entonces R4 no designe un átomo de hidrógeno, un radical metilo o etilo.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: L'OREAL.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 14, RUE ROYALE,75008 PARIS.

Inventor/es: RESTLE, SERGE, CAUWET-MARTIN, DANIELE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 11 de Octubre de 1999.

Fecha Concesión Europea: 24 de Abril de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • A61K7/48
  • A61K7/50
  • A61K7/06

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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