8 inventos, patentes y modelos de MIYAMOTO, HISASHI

  1. 1.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCIÓN DE CILOSTAZOL

    (05/2011)

    Un proceso para la producción de cilostazol representado por la siguiente fórmula general [I]: el cual comprende hacer reaccionar un derivado del carboestirilo representado por la siguiente fórmula general [II]: con un derivado del tetrazol representado por la siguiente fórmula general [III]:en donde X representa un átomo halógeno, en presencia de un compuesto básico inorgánico, en donde es usada agua en una cantidad de 3 a 7 veces en peso a la del derivado del carboestirilo [II], y el compuesto básico inorgánico es usado en una cantidad de 1 a 6 moles por mol del derivado del carboestirilo [II], y en donde dicho compuesto...

  2. 2.-

    INTERMEDIARIOS PARA LA PREPARACION DE COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

    (10/2002)

    LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN COMPUESTO SELECCIONADO DEL GRUPO FORMADO POR LOS COMPUESTOS CON LAS FORMULAS SIGUIENTES: DONDE R SUP,1} ES UN GRUPO CICLOPROPILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO FORMADO POR UN GRUPO ALQUILO INFERIOR Y UN ATOMO DE HALOGENO, UN GRUPO FENILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO FORMADO POR UN GRUPO ALCOXI INFERIOR, UN ATOMO DE HALOGENO Y UN GRUPO HIDROXI SOBRE ANILLO FENILO, UN GRUPO ALQUILO INFERIOR QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR UN ATOMO DE HALOGENO, UN GRUPO ALCANOILOXI INFERIOR O UN GRUPO HIDROXI, UN GRUPO ALQUENILO INFERIOR O UN GRUPO TIENILO; R SUP,2 } ES UN ATOMO DE HALOGENO O UN GRUPO HETEROCICLICO SATURADO O INSATURADO...

  3. 3.-

    COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

    (02/2001)
    Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, C07D409/04, C07D405/12, A61K31/535, C07D401/04, C07D498/06, C07D413/04, C07D215/56.

    NUEVOS COMPUESTOS DE ACIDO 4 ILICO DE FORMULA: EN DONDE R1 ES CICLOPROPILO, EL CUAL PUEDE TENER DE 1 A 3 SUSTITUYENTES DE ALQUILO O HALOGENO; FENILO, EL CUAL PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR DE 1 A 3 SUSTITUYENTES ENTRE ALCOHOXILO, HALOGENO Y OH; ALQUILO, EL CUAL PUEDE SER SUSTITUIDO POR HALOGENO, ALCANOILOXILO Y OH; O TIENILO. R2 ES ANILLO HETEROCICLICO SATURADO O NO SATURADO DE 5 A 9 MIEMBROS, EL CUAL PUEDE ESTAR SUSTITUIDO. R3 ES H, ALQUILO O HALOGENO. R4 ES ALQUILO O HALOGENO, R ES H O ALQUILO, R1 Y R2 PUEDEN ESTAR UNIDOS FORMANDO EN DONDE R31 ES H O ALQUILO, Y X ES HALOGENO, CON TAL QUE R3 Y R4 NO SEAN SIMULTANEAMENTE HALOGENOS, Y QUE CUANDO R3 ES H, R4 ES ALQUILO, O SALES DE EL, TENIENDO DICHO COMPUESTO EXCELENTE ACTIVIDAD ANTI COMO AGENTE ANTI CONTENIENDO DICHO COMPUESTO COMO UN INGREDIENTE ACTIVO.

  4. 4.-

    DERIVADOS DE CARBOSTIRILO Y COMPUESTOS FARMACEUTICOS QUE LO CONTIENEN.

    (06/1997)

    NUEVOS DERIVADOS DEL CARBOSTIRILO DE LA FORMULA: DONDE X ES O O S; Y ES H O ALCALI; R ELEVADO A ES UN GRUPO DE: (DONDE N ES 1 O 2, A ES UN ALCALINO, R ELEVADO 1 ES BENZOILO PROVISTO DE 1-3 SUSTITUTOS OPCIONALES, R ELEVADO 2A ES: (R ELEVADO 3A ES (I) ALKOXI, (II) UN GRUPO HETEROCICLICO DE 5 O 6 MIEMBROS SUSTITUIDO O NO, (III) ALKENILTIO, (IV) PIRROLIDINILO-ALCALI-S- , (V) PIRROLIDINILO-ALCALI-SO- , (VI) PIRROLIDINILO-ALCALI-SO SUB 2-, (VII) -O-B-NR ELEVADO 4 R ELEVADO 5 (B ES UN ALCALINO PROVISTO OPCIONALMENTE DE OH, R ELEVADO 4 ES H, R ELEVADO 5 ES TRICICLO DECANILO, TRICICLO DECANILO-ALKIL, ETC., O R ELEVADO 4 Y R ELEVADO 5 PUEDEN FORMAR CONJUNTAMENTE UN GRUPO DE: (R ELEVADO...

  5. 5.-

    COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS.

    (11/1996)
    Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, A61K31/535, C07D401/04, C07D498/04, C07D413/04, C07D215/56.

    NUEVOS COMPUESTOS DE ACIDO 4-OXOQUINOLEIN-3-CARBOXILICO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 ES CICLOPROPILO QUE PUEDE TENER DE 1 A 3 SUSTITUYENTES DE ALQUILO Y HALOGENO; FENILO QUE PUEDE ESTAR SUSTIUIDO POR 1 A 3 SUSTITUYENTES ALCOXI, HALOGENO Y OH; ALQUILO QUE PUEDE ESTAR SUSTITUIDO POR HALOGENO, ALCANOILOXI O OH; ALQUENILO O TIENILO, R2 ES UN ANILLO HETERICICLICO SATURADO O INSATURADO DE 5 A 9 MIEMBROS QUE PUEDE STAR SUSTITUIDO; R3 ES H, ALQUILO O HALOGENO, R4 ES ALQUILO O HALOGENO, R ES H O ALQUILO, R1 Y R3 JUNTOS PUEDEN FORMAR UN GRUPO (II), EN AL QUE R 31 ES H O ALQUILO Y X ES HALOGENO; CON LA CONDICION DE QUE R3 Y R4 NO SEAN SIMULTANEAMENTE HALOGENO Y QUE CUANDO R3 SEA H, R4 SEA ALQUILO. TAMBIEN SE REFIERE LA INVENCION A SALES DE DICHOS COPUESTOS LOS CUALES TIENEN EXCELENTE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA POR LO QUE SON UTILES COMO AGENTES ANTIMICROBIANOS Y A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE DICHOS COMPUESTOS COMO INGREDIENTE ACTIVO.

  6. 6.-

    COMPUESTOS BENZOHETEROCICLICOS

    (10/1994)
    Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/47, C07D401/04, C07D215/38.

    NUEVOS COMPUESTOS 3 - FORMIL - 4 - OXOQUINOLINA DE FORMULA (I) DONDE R' ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN ALCANOILICO REBAJADO, R2 ES UN ATOMO DE HIDROGENO O UN ALQUILICO REBAJADO, R3 ES UN ALQUILICO REBAJADO Y X ES UN HALOGENO Y SALES ACEPTADAS FARMACEUTICAMENTE DEL MISMO, DICHOS COMPONENTES TIENEN UNA EXCELENTE ACTIVIDAD ANTIMICROBIAL Y UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE DICHO COMPONENTE COMO INGREDIENTE ACTIVO.

  7. 7.-

    DERIVADOS DE CARBOESTIRILO

    (10/1994)

    NUEVOS DERIVADOS DE CARBOESTIRILO DE LA FORMULA: EN DONDE: H,NO2,ALCOXILO,ALCOXICARBONILO ,ALQUILO,HALOGENO,AMINO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO,OH,CN,COOH ,ALCANOILOXI,HIDRACINOCARBONILO;Q ES DE 1 A 3, Y R ES UN GRUPO DE LA FORMULA: [EN DONDE R2 ES H,ALCOXICARBONILO,FENOXICARBONILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO,FENILALQUENILO-CO- , FENILALCANOIL OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, ALCANOIL, ALQUENILO-CO-, FENILO-SO2- OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, -CONR8R9, GRUPO -CO- HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, NAFTILO-CO-, TIENILOALCANOIL, TRICICLO[3.3.1.1] ALCANOIL, (R13 ES OH, ALCOXILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, -NR32R33,-O-A-(E)L-NR4R5 ,-(B)L-NR6R7,ETC.),...

  8. 8.-

    UN PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE NUEVOS DERIVADOS DEL ACIDO 4-OXOQUINOLIN-3-CARBOXILICO.

    (12/1988)
    Ver ilustración. Solicitante/s: OTSUKA PHARMACEUTICAL COMPANY, LIMITED. Clasificación: C07D413/06.

    LOS COMPUESTOS DE FORMULA (I) EN QUE R1, RY, R3 Y X REPRESENTAN VARIOS RADICALES SE OBTIENEN POR LOS SIGUIENTES PROCEDIMIENTOS; CICLACION DE LOS COMPUESTOS (II), (III) Y (IV) EN QUE R1, RY, RY, R3, R3, R5, RY4, RY6, RY7, X Y XY REPRESENTAN VARIOS RADICALES; REACCION DEL COMPUESTO (V) EN QUE R1, R3, X, Z Y W REPRESENTAN VARIOS RADICALES Y N=1, 2 O 3, CON COMPUESTOS DE FORMULAS R16X5, R17COR8 Y EN QUE R8, R16, R17, RY3, X5 Y X8 REPRESENTAN VARIOS RADICALES; REACCION DEL COMPUESTO (VI) EN QUE R1, R3, R13, X4 Y X REPRESENTAN VARIOS RADICALES CON RYH; Y OPCIONALMENTE, HIDROLISIS, SALIFICACION O TRANSFORMACION DE CIERTOS RADICALES.LOS COMPUESTOS (I) SON UTILES COMO AGENTES ANTIMICROBIANOS.