458 patentes, modelos y diseños de PPG INDUSTRIES OHIO, INC. (pag. 8)

Sección de la CIP Química y metalurgia

(20/08/2009). Ver ilustración. Inventor/es: O'DWYER, JAMES, B., COCA, SIMION, WOODWORTH, BRIAN, E., COLERIDGE, EDWARD, R., WINTERS,RICHARD,J. Clasificación: C08F8/00, C08F214/18, C09D123/22, C08F214/28.

Una composición de fluoropolímero que contiene un fluoropolímero que comprende secuencias alternantes de pares de monómero dador-fluoromonómero, por lo que al menos el 80% en moles de los monómeros dadores y los fluoromonómeros está presente como unidades de residuos de monómeros alternantes de estructura (III): -[DM-FM]- (III) determinada por espectroscopia de resonancia magnética nuclear (RMN) por transformadas de Fourier de C13, donde DM representa un residuo de un monómero dador seleccionado de ésteres de vinilo y FM representa un residuo de un fluoromonómero que posee la fórmula F 2C=CXY, en la que X es CF 3 e Y es F o CF 3, por lo que el fluoropolímero se transesterifica parcialmente o totalmente para formar un fluoropolímero correspondiente de fluoromonómero/alcohol vinílico o fluoromonómero/alcohol vinílico/éster vinílico.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(24/07/2009). Ver ilustración. Inventor/es: JAHNY, KARSTEN, LAMERS, PAUL, HILLE, DIETER. Clasificación: C09D175/04, C08G18/80, C08G18/32.

Poliuretano diluible en agua con al menos dos grupos OH libres que puede obtenerse a partir de una primera reacción de una alcanolamina primaria y/o secundaria con un compuesto de NCO para dar un producto intermedio, seguida de una adición de un anhídrido de ácido carboxílico cíclico al producto intermedio; #- presentando el compuesto de NCO al menos un grupo NCO libre y ningún grupo NCO bloqueado; #- convirtiéndose toda la alcanolamina en la primera reacción en el producto intermedio reaccionando el átomo de nitrógeno de la alcanolamina con uno de los grupos NCO libres del prepolímero con formación de un enlace urea; y #- reaccionando el anhídrido de ácido carboxílico cíclico con apertura de anillo con el grupo OH procedente de la alcanolamina del producto intermedio.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(10/06/2009). Ver ilustración. Inventor/es: FENN, DAVID ROBERT, FRENCH, ANDREW. Clasificación: C08G18/08, C09D175/04, C08G18/62, C08G18/80, C08G18/72.

Una composición de recubrimiento de tres componentes que comprende: #(i) un primer componente que contiene al menos un poliol acrílico que tiene un contenido en grupos carboxilo de 0,035 hasta 2,0 moles/kg, estando dicho poliol acrílico disuelto en disolvente orgánico volátil, #(ii) un segundo componente que contiene un poliisocianato, y #(iii) un tercer componente que contiene agua, incluyendo también al menos uno de dichos componentes una base, estando presente la base en una cantidad capaz de neutralizar 0,035 hasta 0,2 moles de grupos carboxilo por kilogramo de poliol, estando la composición libre de otros grupos o componentes hidrofilizantes de manera tal que los grupos carboxilo neutralizados por la base son únicamente responsables de permitir que el sistema esté dispersado en agua.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(14/05/2009). Inventor/es: VANIER, NOEL, R., MUNRO, CALUM, H.. Clasificación: C09D7/12, B05D7/00, C09C1/28, C09C1/00, C09C1/04, C09C1/24.

Partículas de pigmento que tienen un tamaño medio de partícula inferior a 100 nm, que comprenden de 1 a 99% en peso de uno o varios óxido(s) metálicos, en los que los metales se seleccionan entre al menos uno de zinc, titanio, cerio, manganeso, bismuto, cobre, zirconio y hierro, y de 1 a 99% en peso de sílice, como óxidos metálicos complejos que comprenden una mezcla homogénea o solución en estado sólido de los mencionados óxidos.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/2009). Ver ilustración. Inventor/es: WHITE, DANIELA, SCHNEIDER, JOHN R., EISAMAN,HEATHER,L. Clasificación: C09D5/03, C09D7/12, C08F292/00, C09D151/10.

Una composición de recubrimiento en polvo que comprende una resina de formación de película que comprende un polímero formado a partir de reactantes que comprenden: #(a) una partícula químicamente modificada que comprende: #i) una partícula que tiene un grupo funcional, y #ii) un grupo de modificación que ha reaccionado con el grupo funcional de la partícula, en el que el grupo de modificación tiene al menos un resto etilénicamente insaturado; y #(b) al menos un monómero adicional que comprende un grupo funcional que es polimerizable con el resto etilénicamente insaturado de la partícula modificada del componente (a), en la que la partícula químicamente modificada (a) tiene menos de 1,0 mmol de insaturación reactiva por gramo de partícula.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/05/2009). Ver ilustración. Inventor/es: MONTAGUE, ROBERT, A., NGUYEN,DIEP, LAUER,ANDREW,J, MILLERO,EDWARD R.,JR. Clasificación: C09D133/06, C09D127/12.

Una composición de revestimiento que comprende: #a) un polímero que comprende uno o más monómeros de (met)acrilato y uno o más monómeros de aminoalquil (met)acrilato descrito mediante la estructura: ** ver fórmula** en la que Z es un grupo de unión divalente; R 2 y R 3 se seleccionan independientemente entre H o un grupo alifático C 1-C 6 lineal o ramificado y R 4 es H o CH 3; #b) un polímero de fluorocarbono; y #c) un disolvente; en la que el polímero de fluorocarbono está en forma de partículas sólidas dispersables que tienen un tamaño de partícula de 0,1 a 5,0 micrómetros.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(01/05/2009). Ver ilustración. Inventor/es: MARTIN, ROXALANA, L., COLERIDGE, EDWARD, R., TUCKER,MARK A, GROLEMUND,MARY E. Clasificación: C09D5/02, B05D7/00, C08L23/22.

Una composición formadora de película, acuosa curable que comprende: #(a) un copolímero que sirve como aglutinante polimérico que contiene dos o más grupos funcionales reactivos, comprendiendo dicho copolímero al menos el 30% en moles de restos que tienen las siguientes unidades estructurales alternantes: -[MD-MA]- en las que MD representa un resto de un monómero donador y MA representa un resto de un monómero aceptor, comprendiendo al menos el 15% en moles del copolímero un monómero donador que tiene la siguiente estructura (I): ** ver fórmula** en la que R 1 es alquilo C 1 a C 4 lineal o ramificado, R 2 se selecciona del grupo constituido por metilo, alquilo, alquenilo, arilo, alcarilo y aralquilo C1 a C20 lineal, cíclico o ramificado; y #(b) un agente de curado que tiene al menos dos grupos funcionales que son reactivos con los grupos funcionales reactivos de (a).

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/2009). Ver ilustración. Inventor/es: WILT, TRUMAN, F., ZIEGLER,MICHAEL,J, DEAN,ROY,E. Clasificación: C08G18/08, C09D175/06, C08G18/63, C08G18/79.

Un oligómero que comprende: (a) una parte poliol que comprende un poliol modificado con un ácido graso en el que el poliol tiene 3 hasta 6 grupos funcionales hidroxi por molécula antes de la modificación con el ácido graso, y (b) una parte curable de radical libre, en el que el oligómero está substancialmente libre de cualquier enlace éster formado a partir de la reacción de la parte poliol con un compuesto que tiene más de un grupo funcional.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/2009). Ver ilustración. Inventor/es: REARICK, BRIAN, K., DEAN,ROY,E, POGUE,ROBERT T. Clasificación: C09D15/00.

Una composición de revestimiento que comprende: (a) una resina formadora de película, (b) un iniciador de curado por radiación, (c) un colorante, y (d) un diluyente en la que la composición de revestimiento está sustancialmente libre de material curable por radiación.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/2009). Ver ilustración. Inventor/es: MCCOLLUM, GREGORY, J., FENN, DAVID ROBERT, WEBSTER, GEOFFREY, R., JR., KAYLO, ALAN, J., MORIARITY, THOMAS, C., VENKATACHALAM,ESWARAKRISHNAN, SCOTT,MATTHEW, ORZECHOWSKI,JUDITH A, DUFFORD,KEVIN J. Clasificación: C09D5/44, C08L79/00, C08G59/56.

Una composición para la formación de película que comprende un producto de reacción de: a) una poliamina que contiene un grupo amino primario y un grupo amino secundario; y b) un carbonato acíclico.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes

(16/02/2009). Ver ilustración. Inventor/es: O'DWYER, JAMES, B., BARKAC, KAREN, A., COCA, SIMION, RECHENBERG, KAREN, S., BOWSER,LINDA J. Clasificación: C09D5/03, C08L23/22, B05D7/26.

Una composición termoendurecible que comprende una mezcla particulada sólida co-reaccionable de: (a) un material formador de película que comprende grupos funcionales; y (b) un agente reticulante que tiene al menos dos grupos funcionales que son reactivos con los grupos funcionales en el material formador de película (a) que comprende una composición de copolímero que comprende al menos 30 mol% de residuos que tienen las siguientes unidades estructurales en alternancia: -[MD-MA]- en la que MD representa un residuo de un monómero donante que tiene la estructura (I) siguiente: (Ver fórmula) en la que R 1 es alquilo de C 1 a C 4 lineal o ramificado, R 2 se selecciona del grupo compuesto por metilo, alquilo de C1 a C20 lineal, cíclico o ramificado, alquenilo, arilo, alcarilo y aralquilo; y AM representa un residuo de uno o más monómeros aceptores acrílicos.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/2009). Ver ilustración. Inventor/es: OLSON, KURT, G., HOCKSWENDER, THOMAS, R., NAKAJIMA, MASAYUKI, GROLEMUND,MARY E. Clasificación: C09D151/08, C08L33/00, C08L83/10, C08F283/12, C09D183/10, C08G77/442.

Una dispersión acuosa que comprende micropartículas poliméricas que comprenden los siguientes componentes: (A) al menos un producto de la reacción de monómeros polimerizables, etilénicamente insaturados que contiene grupos funcionales y (B) al menos un organopolisiloxano reactivo que tiene la siguiente estructura (II) o (III): (Ver fórmula) o (Ver fórmula) en la que m tiene un valor de al menos 1; cada uno de (n+m) y (n+m'') varía desde 2 hasta 3; R se selecciona del grupo constituido por H, OH o grupos hidrocarburo monovalentes unidos a los átomos de silicio; y R a comprende la siguiente estructura (IV): R 1-X (IV) en la que R1 es alquileno, oxialquileno o arilalquileno; y X comprende un resto que contiene grupos funcionales.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/2009). Ver ilustración. Inventor/es: MCCOLLUM, GREGORY, J., WILSON, CRAIG, A., ZAWACKY, STEVEN, R., SANDALA, MICHAEL, G., MORIARITY, THOMAS, C., OLSON,KEVIN,C, WANG,ALAN,E. Clasificación: C09D5/44, C25D13/06.

Una composición de revestimiento para electrodeposición, que comprende una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, comprendiendo dicha fase resinosa: (a) una resina que contiene un grupo salino iónico, no gelificada, que contiene átomos de hidrógeno activos; y (b) un agente de curado reactivo con los átomos de hidrógeno activos de la resina (a), teniendo dicha fase resinosa un contenido en átomos de halógeno unidos covalentemente que oscila entre el 1 y el 50 por ciento en peso, respecto del peso total de los sólidos de la resina presentes en la fase resinosa, por lo que cuando la composición se electrodeposita y se cura para formar una película curada, dicha película curada supera el análisis de resistencia a la llama según la norma IPC-TM-650, y tiene una constante dieléctrica inferior o igual a 3,50.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/02/2009). Ver ilustración. Inventor/es: GREENE,JEFFREY ALLEN, VONK,DONALD ROBB. Clasificación: C23C22/34, C23C22/73.

Una composición acuosa para pretratar y depositar un revestimiento cristalino sobre sustratos metálicos que comprende: a) desde aproximadamente 1.500 ppm hasta aproximadamente 55.000 ppm basándose en la composición acuosa, de un ion metálico disuelto del grupo IIA; b) desde aproximadamente 100 ppm hasta aproximadamente 200.000 ppm basándose en la composición acuosa, de un ion de fluoruro metálico complejo disuelto en el que el átomo metálico se selecciona de metales del grupo IIIA, grupo IVA, grupo IVB, grupo VA y grupo VB; y c) agua, en la que la composición está sustancialmente libre de precipitado de fluoruro metálico del grupo IIA, mediante lo cual la composición acuosa comprende una sal metálica formadora de complejos diferente del ion de fluoruro metálico complejo, en el que la sal metálica formadora de complejos puede complejar iones fluoruro libres para evitar una reacción de precipitación con el ion metálico del grupo IIA.

Secciones de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes Química y metalurgia

(01/07/2008). Ver ilustración. Inventor/es: FINLEY, JAMES, J.. Clasificación: B01J21/06, C23C14/08, B01J37/02, C03C17/34, C23C14/02, B01J35/02, C23C14/18, C03C17/245, C23C14/58, C03C17/27, C30B29/16, C30B23/04.

Un procedimiento de revestir un sustrato, que comprende las etapas de: - formar una primera capa de revestimiento que tiene una fase cristalina ortorrómbica o cúbica de óxido de circonio sobre al menos una parte de la superficie de un sustrato como una primera etapa de formación; y - formar una segunda capa de revestimiento de un material fotoactivo seleccionado de al menos un óxido de metal u óxido de metal semiconductor sobre la primera capa de revestimiento definida como una segunda etapa de formación para proporcionar un sustrato revestido, en el que en la segunda etapa de formación se forma un material con una fase cristalina predeterminada y la primera capa de revestimiento potenciará el desarrollo de la fase cristalina predeterminada.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/2008). Ver ilustración. Inventor/es: ZAWACKY, STEVEN, R., KAYLO, ALAN, J., KARABIN, RICHARD F., BOYD, DONALD, W., RAKIEWICZ,EDWARD,W. Clasificación: C09D5/44.

Un baño de electrodeposición, baño de electrodeposición que comprende una fase resinosa dispersada en un medio acuoso, fase resinosa que comprende: (a) una resina fónica electrodepositable que contiene hidrógeno activo y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los hidrógenos activos de (a), y (c) como mínimo un compuesto metálico derivado de un metal seleccionado entre magnesio, estroncio, bario y mezclas de ellos, estando presente el mencionado compuesto en una cantidad que varía de 1 parte por millón a 10.000 partes por millón del metal total, con la condición de que no más de aproximadamente 1000 partes por millón estén en forma de metal soluble, en relación al peso del baño de electrodeposición.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/06/2008). Ver ilustración. Inventor/es: SCHNEIDER, JOHN R.. Clasificación: C09D5/08, C09D5/00, C09D7/12, C08K3/00, C09D7/00.

Una composición de revestimiento que comprende: a) una resina formadora de película que comprende, al menos, un polímero que contiene un grupo reactivo funcional y, al menos, un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con el grupo funcional del polímero; y b) una pluralidad de partículas dispersadas en dicha resina, que tienen un tamaño de partícula en el intervalo de 5 a 1000 nanómetros y se seleccionan entre silicato de aluminio y vidrio de borosilicato, estando la relación en peso de (b) respecto a (a) en el intervalo de 0,2 a 2,0.

Sección de la CIP Electricidad

(01/05/2008). Inventor/es: OLSON,KEVIN,C, WANG,ALAN,E. Clasificación: H05K3/00, H05K3/46, H05K3/42.

Un procedimiento para crear una vía a través de un sustrato curado que comprende las siguientes etapas: (a) proporcionar una película curable sustancialmente exenta de huecos comprendida de una composición curable; (b) aplicar un material resistente sobre dicha película; (c) proyectar dicho material resistente en localizaciones predeterminadas; (d) revelar dicho material resistente para exponer áreas predeterminadas de la película; (e) retirar las áreas expuestas de la película para formar orificios a través de dicha película; y (f) calentar la película curable de la etapa (e) a una temperatura y durante un tiempo suficientes para curar la composición curable, formando así un sustrato de película curada con vías pasantes.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/04/2008). Ver ilustración. Inventor/es: GREENBERG, CHARLES, B., SZANYI, JANOS. Clasificación: C03C17/34, C03C17/25, C03C17/00, C03C17/245.

Un procedimiento para formar un revestimiento, que comprende las etapas de: depositar una composición de precursor por encima de al menos una parte de una superficie de un sustrato mediante un dispositivo de revestimiento por CVD, comprendiendo la composición de precursor: (a) un material precursor de óxido metálico: y (b) un material precursor de modificación de la banda de fotoabsorción.

Sección de la CIP Electricidad

(01/04/2008). Inventor/es: OLSON,KEVIN,C, WANG,ALAN,E. Clasificación: H05K1/05, H05K3/44, H01L21/48.

Un procedimiento para fabricar un montaje de circuito multicapa que comprende las siguientes etapas: a) proporcionar un substrato al menos una de cuyas áreas comprende una pluralidad de vías, teniendo dicha(s) área(s) una densidad de vía 75 a 1550 orificios por centímetro cuadrado; b) aplicar un revestimiento dieléctrico sobre todas las superficies del substrato, comprendiendo dicho revestimiento dieléctrico una composición electrodepositable que comprende una fase resinosa dispersa en un medio acuoso, teniendo la fase resinosa un contenido de halógeno ligado de forma covalente de al menos un 1 por ciento en peso con relación al peso total de sólidos de resina presentes en la fase resinosa; y c) aplicar una capa de metal a todas las superficies del substrato.