DEPOSICIÓN DE CAPAS DE GRAFENO MEDIANTE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE VAPOR ASISTIDA POR PLASMA.

Deposición de capas de grafeno mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma.

La invención se refiere a un procedimiento de deposición de capas de grafeno de alta calidad sobre un sustrato que se realiza mediante deposición química en fase vapor asistida por plasma, comprendiendo dichas capas de grafeno nanocristales de tamaños controlables con la temperatura y el tiempo interconectados por fase amorfa.

Además, la invención se refiere a dicho material depositado sobre un sustrato y su uso como componente de ventanas o paneles táctiles, sistemas de protección, electrodos o un lector/plato de disco duro.

Tipo: Patente de Invención. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: P201530864.

Solicitante: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC).

Nacionalidad solicitante: España.

Provincia: MADRID.

Inventor/es: GOMEZ-ALEIXANDRE FERNANDEZ, CRISTINA, MUÑOZ GÓMEZ,Roberto, GARCÍA HERNÁNDEZ,María del Mar.

Fecha de Publicación: 18 de Enero de 2017.

Clasificación Internacional de Patentes:

C01B32/182 QUIMICA; METALURGIA. › C01 QUIMICA INORGANICA. › C01B ELEMENTOS NO METALICOS; SUS COMPUESTOS (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la preparación de elementos o de compuestos inorgánicos excepto anhídrido carbónico C12P 3/00; producción de elementos no metálicos o de compuestos inorgánicos por electrólisis o electroforesis C25B). › C01B 32/00 Carbono; Sus compuestos (C01B 21/00, C01B 23/00 tienen prioridad; percarbonatos C01B 15/10; negro de carbón C09C 1/48). › Grafeno.
C23C16/50 C […] › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › por medio de descargas eléctricas.

PDF original: ES-2597477_B1.pdf

PDF original: ES-2597477_A1.pdf

Patentes similares o relacionadas:

Recubrimiento DCL con una capa de entrada, del 13 de Septiembre de 2017, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa, caracterizada por que sobre la capa de carbono […]

Procedimiento para la fabricación de sustratos recubiertos, del 18 de Enero de 2017, de HEC High End Coating GmbH: Procedimiento para la fabricación de un sustrato no metálico recubierto, que comprende a) la puesta a disposición de un sustrato no metálico con por lo menos una […]

DEPOSICIÓN DE CAPAS DE GRAFENO MEDIANTE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE VAPOR ASISTIDA POR PLASMA, del 22 de Diciembre de 2016, de CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS (CSIC): La invención se refiere a un procedimiento de deposición de capas de grafeno de alta calidad sobre un sustrato que se realiza mediante deposición química en […]

Procedimiento para el recubrimiento por plasma de una chapa de prensado, del 25 de Mayo de 2016, de Berndorf Hueck Band- und Pressblechtechnik GmbH: Uso de un dispositivo para el recubrimiento por plasma de una chapa de prensado , comprendiendo el dispositivo una cámara de vacío y un electrodo […]

Película protectora, miembro reflectante, y procedimiento de producción para película protectora, del 23 de Marzo de 2016, de ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED: Película protectora situada sobre una parte superior de una película metálica para proteger la película metálica que está situada sobre un sustrato de vidrio, comprendiendo la […]

Tratamiento superficial de caucho utilizando plasma a baja presión, del 1 de Julio de 2015, de MÜNCH CHEMIE INTERNATIONAL GMBH: Método para tratar una superficie de un objeto que comprende un material de caucho, en el que el objeto es una cámara moldeadora para utilizar en un procedimiento […]

Un método para mejorar la hidrofilicidad estable de un sustrato mediante deposición por plasma a presión atmosférica, del 18 de Abril de 2012, de VLAAMSE INSTELLING VOOR TECHNOLOGISCH ONDERZOEK (VITO): Un método para aplicar un recubrimiento hidrófilo enun sustrato, el cual método comprende las etapas de: - proporcionar un sustrato , - producir una […]

HORNO PARA LLEVAR A CABO UN PROCESO DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR POR PLASMA (PCVD) Y MÉTODO ASOCIADO, del 28 de Diciembre de 2011, de DRAKA FIBRE TECHNOLOGY B.V: Horno para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor por plasma (PCVD), caracterizado porque dicho horno está equipado con […]