Revestimiento químico por descomposición ya sea de compuestos líquidos, o bien de soluciones de los compuestos que constituyen el revestimiento, no...

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CIP: C23C18/00, Revestimiento químico por descomposición ya sea de compuestos líquidos, o bien de soluciones de los compuestos que constituyen el revestimiento, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento (reacción química de la superficie 8/00, 22/00); Deposición por contacto [4]

Notas:
  • El presente grupo cubre igualmente las suspensiones que contienen líquidos reactivos y partículas sólidas no reactivas. [4]

Entorno:
  • Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto (difusión en estado sólido 8/00 a 12/00) [4]

Subcategorías:

Inventos patentados en esta categoría

  1. 1.-

    Un método para tratar una superficie de un dispositivo médico, en particular un dispositivo médico metálico, que comprende las siguientes etapas: - proporcionar un sistema coloidal dispersado, - someter un dispositivo médico al sistema coloidal dispersado, de modo que una superficie del dispositivo médico que se ha de tratar se sumerge en el sistema coloidal dispersado, - generar una diferencia de tensión AC entre el dispositivo médico como un primer electrodo y/o un segundo electrodo dispuesto en el sistema coloidal dispersado, para convertir la superficie sumergida en una película de óxido mediante oxidación electrolítica por plasma, en donde la superficie convertida es parcialmente cubierta por islas formadas por partículas coloidales dispersadas del sistema coloidal dispersado, en donde la tensión AC se proporciona...

  2. 2.-

    Células solares de nanohilos en tándem amorfocristalinas.Un dispositivo fotovoltaico que incluye una pluralidad de nanoestructuras alargadas dispuestas sobre la superficie de un substrato, y una película multicapa depositada de modo conforme sobre las nanoestructuras alargadas, formando una pluralidad de uniones fotoactivas. Un procedimiento para fabricar tales dispositivos fotovoltaicos incluye generar una pluralidad de nanoestructuras alargadas sobre la superficie de un substrato y depositar de modo conforme una película multicapa formando una pluralidad de uniones fotoactivas. La pluralidad de uniones fotoactivas se diseña para capturar diferentes longitudes de onda de la luz. Un panel solar incluye, al menos, un dispositivo fotovoltaico

  3. 3.-

    ENDOPROTESIS CON UNA CAPA DE PLATA GALVANIZADA.

    . Solicitante/s: IMPLANTCAST GMBH. Inventor/es:

    Endoprótesis para reemplazo de huesos, que comprende una estructura de soporte metálica constituida por una aleación de fundición o forjable, caracterizada porque por lo menos una parte de la superficie se ha plateado por electrodeposicón y porque, por debajo de la capa de plata, está prevista una capa de adhesión, que preferentemente comprende oro, no estando expuesto el oro en la superficie de la endoprótesis para reemplazo de huesos.

  4. 4.-

    Procedimiento de formación de un revestimiento de óxidos metálicos que comprende al menos un metal precioso del grupo VIII de la clasificación periódica de los elementos eventualmente asociado al titanio y/o al zirconio, sobre un sustrato electro-conductor, dicho procedimiento consistiendo en aplicar sobre dicho sustrato una solución que comprende al menos un compuesto órgano-metálico y luego transformar dicho (o dichos) compuesto(s) órgano-metálico(s) en óxido(s) metálico(s) por medio de un tratamiento térmico, dicho procedimiento estando caracterizado porque el sustrato electro-conductor es de acero o de hierro y porque la única solución aplicada sobre dicho sustrato es una solución, no acuosa, de acetilacetonato metálico o de una mezcla de acetilacetonatos metálicos...

  5. 5.-

    BLANCO DE BOMBARDEO ATOMICO Y METODOS DE OBTENCION DEL MISMO.

    . Ver ilustración. Solicitante/s: N.V. BEKAERT S.A.. Inventor/es:

    Un blanco de bombardeo atómico, que comprende: a) un soporte adaptado para conectarse funcionalmente a una fuente de alimentación de bombardeo atómico; b) una capa externa de un material que puede someterse a bombardeo atómico portado por el soporte, comprendiendo el material que puede someterse a bombardeo atómico una mezcla de zinc y un segundo metal que tiene un punto de fusión inferior al del zinc, aplicándose el zinc y el segundo metal pulverizando simultáneamente por plasma metal de zinc y un segundo metal para crear la capa externa del material que puede someterse a bombardeo atómico, de tal forma que el zinc y el segundo metal estén presentes en el material que puede someterse a bombardeo atómico en forma metálica y estén dispuestos como volúmenes diferenciados del segundo metal en una matriz de zinc, por lo que el segundo metal no está sustancialmente aleado con el zinc.

  6. 6.-

    UTILIZACION DE FLUJOS HIDROCARBUROS PARA PREPARAR UNA CAPA PROTECTORA METALICA.

    . Solicitante/s: CHEVRON CHEMICAL COMPANY LLC. Inventor/es:

    UN PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UNA CAPA PROTECTORA METALICA POR EL QUE UNA PLACA QUE CONTIENE METAL, REVESTIMIENTO METALICO, PINTURA U OTRO REVESTIMIENTO SE APLICA A AL MENOS UNA PORCION DE UN SISTEMA REACTOR Y A CONTINUACION SE PONE EN CONTACTO CON UNA CORRIENTE GASEOSA QUE CONTIENE HIDROCARBUROS, COMO HIDROGENO IMPURO, PRODUCIENDO ASI UNA CAPA PROTECTORA METALICA ADHERENTE Y CONTINUA. LA CORRIENTE GASEOSA COMPRENDE PREFERIBLEMENTE HIDROGENO, QUE PUEDE SER RECICLADO. UNA REALIZACION PREFERIDA DE LA INVENCION ESTA DIRIGIDA A PROCEDIMIENTOS MENCIONADOS DONDE UNA PORCION DE UN SISTEMA REACTOR YA PROTEGIDO ES SUSTITUIDA O SE VUELVE A SOLDAR Y LA CAPA PROTECTORA ES FORMADA CUANDO LA PORCION SUSTITUIDA ES PUESTA EN FUNCIONAMIENTO.

  7. 7.-

    METODO PARA REGENERAR UNA SOLUCION DE CHAPADO.

    . Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es:

    Método para depositar una capa metálica, que comprende las siguientes etapas: a. preparación de un baño de chapado metálico que lleva iones metálicos en un grado de oxidación bajo; b. deposición de una capa metálica sobre una pieza industrial, a partir del baño de chapado metálico; c. puesta en contacto del baño de chapado metálico con el metal que sirve para regenerar, a fin de reducir los iones metálicos de alto grado de oxidación - contenidos en el baño de chapado metálico - a iones metálicos de bajo grado de oxidación, en el cual se dispone de una célula de regeneración electrolítica formada por al menos un cátodo auxiliar y al menos un ánodo auxiliar y en el cual el metal empleado para regenerar se deposita electrolíticamente sobre al menos un cátodo auxiliar, a partir del baño de chapado metálico.

  8. 8.-

    MATERIAL COMPUESTO EN FORMA DE POLVO PARA SOLDADURA FUERTE-DIFUSION.

    . Ver ilustración. Solicitante/s: ONERA (OFFICE NATIONAL D'ETUDES ET DE RECHERCHES AEROSPATIALES). Inventor/es:

    Polvo de material compuesto en el que cada grano comprende un núcleoalma de una primera materia que es una aleación metálica, envueltoa conde un revestimiento de una segunda materia, siendo la composición química de la primera materia y la composición química de la segunda materia sensiblemente constantes de un grano a otro y, en una parte al menos de los granos representando la mayoría de la masa de polvo, estando incluida en el revestimiento al menos una partícula de una tercera materia, siendo la composición química de la tercera materia sensiblemente constante de un grano a otro.

  9. 9.-

    SE OBTIENE UN POLVO CON UNAS PELICULAS DE OXIDO METALICO SOBRE SU SUPERFICIE, EN EL QUE DICHAS PELICULAS TIENEN UN ELEVADO INDICE DE REFRACCION, LO QUE MOTIVA SU GRAN REFLECTANCIA Y QUE TENGAN UN COLOR BRILLANTE. SE OBTIENE UN POLVO QUE POSEE UN NUMERO REDUCIDO DE PELICULAS DE OXIDO METALICO SOBRE LA SUPERFICIE, Y POR TANTO, POSEE UN DIAMETRO DE PARTICULA PEQUEÑO. POLVO CON UNA PELICULA MULTICAPA COMPUESTA AL MENOS DE UNA PELICULA DE OXIDO METALICO FORMADA MEDIANTE LA HIDROLISIS DE UN ALCOXIDO METALICO, Y QUE HA SUFRIDO UN TRATAMIENTO TERMICO. PROCESO PARA PRODUCIR CUALQUIERA DE LOS POLVOS ANTERIORES, CONSISTENTE EN LA DISPERSION DE UNA PARTICULA BASE EN UNA SOLUCION...

  10. 10.-

    DEPOSICION DE COBRE EXENTA DE AMONIACO POR DISMUTACION.

    . Solicitante/s: LILLY INDUSTRIES, INC. Inventor/es:

    UN REDUCTOR LIBRE DE AMONIACO SE AÑADE A IONES CUPRICOS PARA LOGRAR UNA REDUCCION DE HIDROXIDO CUPROSO EN UN PROCESO PARA LA DEPOSICION DE COBRE METALICO EN UNA SUPERFICIE CATALITICAMENTE ACTIVADA MEDIANTE LA REDUCCION RAPIDA DE IONES CUPRICOS EN UNA SOLUCION ACUOSA DE HIDROXIDO CUPROSO, SIN REDUCCION SUSTANCIAL DE COBRE ELEMENTAL O METALICO, Y POSTERIORMENTE EFECTUANDO UNA DESPROPORCION CONTROLADA DEL HIDROXIDO CUPROSO RESULTANTE PARA ORIGINAR LA DEPOSICION DE COBRE METALICO. EL REDUCTOR LIBRE DE AMONIACO ES PREFERIBLEMENTE HIDROXILAMINA O SUS SALES EN LA PRESENCIA DE UN METAL ALCALI SOLUBLE EN AGUA - O UN METAL DE TIERRA ALCALINO - HIDROXIDO, EN CONCRETO HIDROXIDO SODICO.

  11. 11.-

    Una bomba de chorro para un reactor de agua hirviendo, que incluye un aparato para minimizar o eliminar la deposición de materiales particulados cargados sobre las superficies interiores metálicas de las paredes de conductos de flujo de la bomba de chorro, comprendiendo dicho aparato: un tubo ascendente de entrada para recibir un flujo de fluido refrigerante; una mezcladora de entrada para recibir el flujo de fluido refrigerante de dicho tubo ascendente que incluye una boquilla y una sección mezcladora para recibir flujo de fluido refrigerante de dicha boquilla y un flujo de fluido refrigerante inducido desde un espacio anular entre una vasija del reactor y una envuelta del núcleo; caracterizada porque se proporciona un revestimiento no conductor a lo largo de las superficies...