Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento,...

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CIP: C23C16/00, Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío 14/00) [4]

Entorno:
  • Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto (difusión en estado sólido 8/00 a 12/00) [4]

Subcategorías:

Inventos patentados en esta categoría

  1. 1.-

    Procedimiento para la preparación de una capa barrera dieléctrica de óxido de silicio (SiOx) sobre un sustrato, para lo cual se realiza, una vez limpiado el sustrato, una deposición de una capa de SiOx por la técnica de PECVD y otra deposición de SiOx por el método sol-gel. La composición de recubrimiento (sol) utilizada en la etapa sol-gel es preparada a partir de los siguientes componentes: MTES, entre 30 y 50% en peso; TEOS, entre 7% y 12% en peso; N, N' -DMS, entre 11 y 19% en peso; PEG, entre 19 y 31% en peso; agua destilada, entre 7 y 12% en peso y acido ortofosfórico, entre 0,6% y 0,9% en peso. Una vez preparada la composición de recubrimiento,...

  2. 2.-

    Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método comprendiendo: el depósito una capa que comprende carbono tipo diamante (DLC) sobre un sustrato; después de dicho depósito, el sometimiento de la capa que comprende DLC a un tratamientode descarga de barrera en una atmósfera que contiene oxígeno con el fin de reducir unángulo de contacto θ de la capa que comprende DLC en el cual el tratamiento de descarga debarrera comprende la proporción de un primer electrodo por encima del sustrato y un segundoelectrodo por debajo del sustrato de modo que el sustrato esté entre los electrodos primero ysegundo, en el cual dichos electrodos están cubiertos con un dieléctrico en sus lados estandoorientados hacia el sustrato,...

  3. 3.-

    Una fuente de iones capaz de emitir un haz de iones, comprendiendo: un ánodo y un cátodo , teniendo uno del ánodo y cátodo una brecha dedescarga definida en el mismo y teniendo el otro del ánodo y cátodo un hueco definido en el mismo en una ubicación cercana a la brecha de descarga , teniendo elhueco una pared de base (25a) y primera y segunda pared lateral (25b);al menos un imán capaz de generar un campo magnético cerca de la brecha dedescarga ; y un suministro de energía en comunicación eléctrica con...

  4. 4.-

    Un método de fabricación de un artículo recubierto, el método que consiste en: producir un sustrato de vidrio; utilizar pirólisis de llama para depositar al menos una capa sobre el sustrato de vidrio;y formar una capa antigrabado encima del sustrato de vidrio sobre la capa depositadapor pirólisis de llama, en la que la pirólisis de llama se utiliza para depositar una capaque comprende óxido de silicio sobre el sustrato de vidrio, y en la que la pirólisis dellama utiliza gas TEOS que se introduce al menos en un quemador para depositar lacapa que comprende óxido de silicio y donde el artículo recubierto es una ventana, enla que la capa antigrabado comprende oxicarburo...

  5. 5.-

    REVESTIMIENTO DE CAPA DE BARRERA Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN

    . Ver ilustración. Solicitante/s: ASOCIACION DE LA INDUSTRIA NAVARRA AIN. Inventor/es:

    Revestimiento de capa de barrera y procedimiento de fabricación, para recubrir un sustrato base , comprendiendo dicha capa de barrera un grupo de, al menos, una capa inorgánica (2a) y una capa polimérica , donde una capa de interfase rica en metal (2ay) está dispuesta entre la capa inorgánica (2a) y la capa polimérica.

  6. 6.-

    Un sustrato revestido que comprende: un sustrato de vidrio; una subcapa de revestimiento que comprende por lo menos una capa seleccionada de entre(a) una mezcla de sílice y óxido de circonio que comprende del 60 al 95% en volumen de sílice ydel 40 al 5% en volumen de óxido de circonio y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; (b) una mezcla de sílice y alúmina que comprende del 50 al 99% en volumen de sílice y del 50 al1% en volumen de alúmina y con un espesor en el intervalo de 10 nm a 150 nm; o (c) una mezcla de sílice, alúmina y óxido de titanio que comprende del 30 al 80% en volumen desílice, del 1 al 15% en volumen de alúmina y del 69 al 5% en volumen de óxido...

  7. 7.-

    Lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino, procedimiento de obtención y sus aplicaciones.La producción de los bronces metálicos del platino requiere de procedimientos químicos costosos que conducen a la producción de cantidades reducidas de estos compuestos y mezclas. La actual invención proporciona una lámina con recubrimiento de bronce metálico de platino y método para sintetizar estos compuestos, así como, para depositar estas mezclas en superficies grandes en forma de recubrimiento con un alto grado de especificidad, siendo este un factor determinante en aplicaciones concretas. El modo de obtención de los recubrimientos...

  8. 8.-

    ENDOPROTESIS CON UNA CAPA DE PLATA GALVANIZADA.

    . Solicitante/s: IMPLANTCAST GMBH. Inventor/es:

    Endoprótesis para reemplazo de huesos, que comprende una estructura de soporte metálica constituida por una aleación de fundición o forjable, caracterizada porque por lo menos una parte de la superficie se ha plateado por electrodeposicón y porque, por debajo de la capa de plata, está prevista una capa de adhesión, que preferentemente comprende oro, no estando expuesto el oro en la superficie de la endoprótesis para reemplazo de huesos.

  9. 9.-

    REVESTIMIENTOS DE POLIMEROS.

    . Solicitante/s: MICROCOATING TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es:

    Un método para depositar un revestimiento de polímero en la superficie de un substrato que consiste de: el abastecimiento de un líquido que es una dispersión o una solución de dicho polímero en un medio líquido, formando un aerosol finamente atomizado del dicho líquido y aplicando el dicho aerosol a la superficie del dicho substrato para revestir dicha superficie con el dicho líquido y aplicando sustancialmente simultáneamente una fuente de gas caliente a la superficie revestida para quitar el dicho medio líquido de la superficie.

  10. 10.-

    TRATAMIENTO DE DESACIDIFICACION DE MATERIALES CELULOSICOS IMPRESOS.

    . Ver ilustración. Solicitante/s: SMITH, RICHARD DANIEL. Inventor/es:

    Una composición para desacidificar un material celulósico impreso que comprende en solución: 0, 1-4% en peso de al menos uno de un carbonato de magnesio orgánico, un carbonato de aluminio orgánico, y un carbonato de zinc orgánico; 0-10% en peso de un alcohol C1-C4 que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm; y 86 - 99% en peso de un disolvente que tiene un contenido de humedad menor que 100 ppm, que comprende un hidrocarburo alifático y/o un hidrofluorocarbono.

  11. 11.-

    PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA LA PREPARACION DE CAPAS Y RECUBRIMIENTOS POR MEDIO DE DEPOSICION QUIMICA EN FASE DE VAPOR ASISTIDA POR COMBUSTION.

    . Solicitante/s: GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION. Inventor/es:

    SE PRESENTA UN METODO PARA APLICAR REVESTIMIENTOS A SUBSTRATOS UTILIZANDO DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO DE COMBUSTION MEZCLANDO ENTRE SI UN REAGENTE Y UNA SOLUCION PORTADORA PARA FORMAR UNA MEZCLA DE REAGENTES. ENCENDIENDO LA MEZCLA DE REAGENTES PARA CREAR UNA LLAMA O HACIENDO FLUIR LA MEZCLA DE REAGENTES A TRAVES DE UNA ANTORCHA DE PLASMA, EN LA CUAL EL REAGENTE SE VAPORIZA AL MENOS PARCIALMENTE EN UNA FASE DE VAPOR, Y PONIENDO EN CONTACTO LA BASE DE VAPOR DEL REAGENTE CON UN SUBSTRATO RESULTANDO LA DEPOSICION, AL MENOS EN PARTE DESDE LA FASE DE VAPOR, DE UN REVESTIMIENTO DEL REAGENTE QUE PUEDE CONTROLARSE DE MANERA QUE TENGA UNA ORIENTACION PREFERIDA SOBRE EL SUBSTRATO, TAMBIEN SE PRESENTA UN APARATO PARA LLEVAR A CABO EL METODO. LA FIGURA MUESTRA UN ESQUEMA DE UN APARATO CCVD EN DONDE EL SUBSTRATO PUEDE COLOCARSE DENTRO DE UNA REGION DE REDUCCION DEL SEPARADOR DE SMITHELL ENTRE LA LLAMA INTERNA (18A) Y LA LLAMA EXTERIOR (18B).

  12. 12.-

    SISTEMA DE HORNO DE DIFUSION HORIZONTAL Y ALTO RENDIMIENTO.

    . Solicitante/s: THERMTEC, INC. Inventor/es:

    LA EJECUCION DE UN HORNO DE DIFUSION DE ALTA TEMPERATURA ES MEJORADA POR UN DISEÑO DE MODULO MULTI HORNO. EL HORNO ESTA CONSTRUIDO DE MATERIALES ADECUADOS PARA ENTORNOS DE CUARTO LIMPIO CON UNA JUNTA DE ARMAZON DE NIVELACION AJUSTABLE. UNA JUNTA EXTERNA LATERAL Y MECANISMO DE ALINEAMIENTO DE ELEMENTO CALENTADOR DE MODULOS DE TUBO DE HORNO INDIVIDUAL CON UN MECANISMO DE ELEVACION DE ELEMENTO CALENTADOR PERMITE MANTENIMIENTO MEJORADO. LA EJECUCION DEL TRATAMIENTO DE CALOR ES MEJORADA POR UN ELEMENTO CALENTADOR SELLADO CON SISTEMA DE REFRIGERACION DE MODULO DE HORNO INDIVIDUAL. ACOPLAMIENTO TERMICO MEJORADO ESTA COLOCADO PARA MEJORAR EL CONTROL DE PROCESO DE TRATAMIENTO DE CALOR Y EL MANTENIMIENTO DEL ELEMENTO DE CALENTAMIENTO.

  13. 13.-

    PRODUCCION DE PELICULAS DE BARRERA REVESTIDAS CON CARBONO QUE TIENEN UNA CONCENTRACION AUMENTADA DE CARBONO CON COORDINACION TETRAEDRICA.

    . Solicitante/s: MOBIL OIL CORPORATION. Inventor/es:

    SE DEPOSITA CARBONO SOBRE UN SUSTRATO A TRAVES DE DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO MEJORADO DE PLASMA DE UN PROCESADOR QUE SE PUEDE DESCOMPONER QUE CONTIENE UN ADITIVO DE MATERIAL DE SEMILLAS. EL MATERIAL DE SEMILLA ES UN HIDROCARBURO QUE TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADO EN FORMA DE TETRAEDRO. EL MATERIAL DE SEMILLA PROPORCIONA UNA MUESTRA PARA LA REPLICACION DE LOS ATOMOS DE CARBONO SP{SUP,3} COORDINADOS EN FORMA DE TETRAEDRO EN EL REVESTIMIENTO DE CARBONO AMORFO DEPOSITADO.

  14. 14.-

    METODO DE RECUBRIMIENTO DE CRISTAL Y CRISTAL RECUBIERTO CON EL MISMO.

    . Solicitante/s: LIBBY-OWENS-FORD CO. Inventor/es:

    SE PRESENTA UN SUBSTRATO DE CRISTAL SE RECUBRE MEDIANTE CVD CON UN REVESTIMIENTO ESTRATIFICADO QUE COMPRENDE CAPAS DE BASE, INTERMEDIAS Y SUPERIORES (58, 60, Y 62), RESPECTIVAMENTE, EN DONDE LAS CAPAS SON SILICE, OXIDO DE METAL, NITRURO DE METAL, CARBURO DE METAL Y COMPLEJO DE SILICE, ETC. EN EL CVD DEL REVESTIMIENTO QUE CONTIENE SILICE SOBRE EL SUBSTRATO DE METAL SE COMBINA SILANO, OXIGENO, UN GAS DEPURADOR DE RADICALES TAL COMO EL ETILENO Y UN GAS PORTADOR COMO MEZCLA PRECURSORA.

  15. 15.-

    SE PRESENTA UN PROCESO Y UN APARATO PARA SUMINISTRAR UN MATERIAL REAGENTE DE UNA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL QUE TIENE UNA PRESION DE VAPOR INFERIOR A ALREDEDOR DE 0.1 TORR EN CONDICIONES DE 25 (GRADOS) C Y UNA ATMOSFERA DE PRESION, Y QUE ES TERMICAMENTE ESTABLE A SU TEMPERATURA DE VAPORIZACION, COMO VAPOR DEL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE EN UN REACTOR CVD QUE COMPRENDA UNA ZONA DE VAPORIZACION Y UNA ESTRUCTURA DE MATRIZ DE VAPORIZACION PARA VAPORIZAR POR DESTELLO EL MATERIAL REAGENTE DE LA FUENTE DE SOLIDO NO VOLATIL. LA INVENCION ES PARTICULARMENTE UTIL PARA EL SUMINISTRO DE REAGENTES DE GRUPO...

  16. 16.-

    EL DESCUBRIMIENTO SE REFIERE A UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS FINAS SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO MEDIANTE DEPOSICION UNICA DE SUSTRATOS, COMPRENDIENDO LA CARGA DE UN LOTE DE SUSTRATOS EN UNA CAMARA DE CIERRE DE CARGA Y EVACUANDO LA CAMARA, TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS A UNA CAMARA DE CALENTAMIENTO DE LOTES PARA CALENTAR LOS SUSTRATOS A TEMPERATURAS ELEVADAS; TRANSFIRIENDO LOS SUSTRATOS DE VIDRIO DE UNO EN UNO A UNA O MAS CAMARAS DE PROCESAMIENTO DE SUSTRATOS UNICOS Y TRANSFIRIENDO SECUENCIALMENTE LOS SUSTRATOS DE RETORNO A LA CAMARA DE CIERRE DE CARGA, DONDE SON ENFRIADOS EN LOTES. EL DESCUBRIMIENTO TAMBIEN SE REFIERE A UN SISTEMA DE VACIO PARA REALIZAR EL METODO, E INCLUYE UNA CAMARA DE ENFRIAMIENTO/CIERRE DE CARGAS (14A, 14B) PARA EVACUAR...

  17. 17.-

    METODO MEJORADO PARA PRODUCIR ARTICULOS MEDIANTE DEPOSITACION DE VAPOR QUIMICO Y MANDRILES DE SOPORTE USADOS EN EL MISMO.

    . Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es:

    SE PRESENTA UN METODO MEJORADO PARA PRODUCIR UN TUBO DE DIAMANTE MEDIANTE DEPOSITACION QUIMICA DE VAPOR Y EL MANDRIL HUECO DE SOPORTE QUE SE USA EN EL MISMO. EL METODO COMPRENDE LA DEPOSITACION DE UNA PELICULA DE DIAMANTE SOBRE UNA CARA EXTERIOR DEL MANDRIL HUECO MEDIANTE EL PROCESO CVD. POSTERIORMENTE EL MANDRIL SE ATACA QUIMICAMENTE MEDIANTE LA EXPOSICION DEL LADO INTERNO DEL MANDRIL A LA ACCION DEL ATAQUE QUIMICO. SORPRENDENTEMENTE, SE HA COMPROBADO QUE EL TIEMPO DE ATAQUE QUIMICO SE REDUCE DE FORMA DRASTICA MEDIANTE EL USO DE MANDRILES HUECOS.

  18. 18.-

    HERRAMIENTA DE DIAMANTE POLICRISTALINO Y METODO PARA PRODUCIR LA MISMA.

    . Solicitante/s: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LIMITED. Inventor/es:

    UN DIAMANTE POLICRISTALINO TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS NO UNIFORME A LO LARGO DE LA DIRECCION DE SU GROSOR. EL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA TIENE UNA CONCENTRACION DE IMPUREZAS MENOR. EL DIAMENTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION TIENE UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS. EL DIAMANTE CON MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION ALIVIA UNA FUERTE TENSION Y ABSORBE LOS GOLPES EXTERNOS. DEBIDO A LA MAYOR CONCENTRACION DE IMPUREZAS DEL DIAMANTE CERCA DE LA SUPERFICIE DE FIJACION, LA HERRAMIENTA DE DIAMANTE PRESENTA GRAN DUREZA Y UNA ALTA RESISTENCIA AL DESCASCARILLAMIENTO . EL DIAMANTE CON UNA ALTA CONCENTRACION DE IMPUREZAS CERCA DE LA SUPERFICIE INCLINADA ELEVA SU RESISTENCIA A LA ABRASION, SU RESISTENCIA A LA ADHESION Y SU FUERZA.

  19. 19.-

    PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA METALIZADA DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO.

    . Solicitante/s: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Inventor/es:

    ESTA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO PARA LA FABRICACION DE UNA LAMINA ESPECULAR METALIZADA, ALTAMENTE SATINADA, DE FILM-FIBRA PLEXIFILAMENTARIA DE POLIETILENO, CON MUY BAJA EMISION, QUE SE REALIZA MEDIANTE EL PROCESO DE CALDEADO DE UNA LAMINA DE FILM-FIBRA DE POLIETILENO QUE PASA ENTRE UN RODILLO MULLIDO METALICO Y OTRO RODILLO RESISTENTE, PARA FORMAR UNA LAMINA ESPECULAR ALTAMENTE SATINADA, SEGUIDA POR LA METALIZACION AL VACIO DE LA SUPERFICIE ALTAMENTE SATINADA. DICHAS HOJAS METALIZADAS SON UTILES COMO BARRERAS A LA RADIACION O REVESTIMIENTO DE TEJADOS PARA EL AHORRO DE ENERGIA.

  20. 20.-

    DISPOSITIVO DE FABRICACION DE PREFORMAS PARA FIBRAS OPTICAS

    . Solicitante/s: ETAT FRANCAIS REPRESENTE PAR LE MINISTRE DES POSTES, TELECOMMUNICATIONS ET DE L'ESPACE. Inventor/es:

    SE PONE EN MARCHA LA TECNICA DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR USANDO UN PLASMA MANTENIDO POR ONDAS DE SUPERFICIE EN UN TUBO DESTINADO A LA OBTENCION DE UNA PREFORMA Y COMPRENDE MEDIOS DE FOTODETECCION SENSIBLES A LA LUZ EMITIDA POR LA ZONA DE DEPOSITO DEL REVESTIMIENTO VIDRIADO RESULTANDO DE LA REACCION ENTRE COMPUESTOS GASEOSOS ADECUADOS, Y APTOS PARA PROPORCIONAR INFORMACIONES RELATIVAS A LA ZONA DE EMISION DE ESTA LUZ, Y MEDIOS DE REGULACION DEL DESPLAZAMIENTO DE LA ZONA DE DEPOSITO, SIENDO EL DESPLAZAMIENTO TAL QUE EL ESPESOR DEL REVESTIMIENTO SEA UNIFORME EN EL TUBO, PIDIENDO ESTOS MEDIOS DE REGULACION LA POTENCIA DEL GENERADOR DE MICROONDAS DEL DISPOSITIVO EN FUNCION DE DICHAS INFORMACIONES. APLICACION AL CAMPO DE LAS TELECOMUNICACIONES.

  21. 21.-

    VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSICION DE VAPOR QUIMICO SOBRE VIDRIO.

    . Ver ilustración. Solicitante/s: LIBBEY-OWENS-FORD CO.. Inventor/es:

    UNA VIGA DISTRIBUIDORA PARA DEPOSITAR MATERIAL DE REVESTIMIENTO SOBRE LA SUPERFICIE DE UNA LAMINA DE VIDRIO INCLUYE UNA CAMARA IMPELENTE DIVIDIDA POR UN TABIQUE PARA SEPARAR DIFERENTES GASES DE REVESTIMIENTO. SALIDAS PARA LOS GASES ESTAN CONECTADAS A UNA ENTRADA A UNA CAMARA DE MEZCLADO PARA SEPARAR Y DIRIGIR DE NUEVO EL FLUJO DE LOS GASES A FIN DE MEZCLARLO A FONDO EN FORMA DE UN MATERIAL DE REVESTIMIENTO. UN DEFLECTOR DE DEDO QUE TIENE DOS GRUPOS DE ELEMENTOS DE DEDO EXTERNOS SE EXTIENDE A TRAVES DE LA ANCHURA DE LA CAMARA DE MEZCLADO. CADA ELEMENTO DE DEDO TIENE UN EXTREMO MAS PROXIMO DE LA SALIDA DE LA CAMARA IMPELENTE QUE DE UN EXTREMO OPUESTO. LA CAMARA IMPELENTE ESTA RODEADA POR UN CONDUCTO DE FLUIDO DE ENFRIAMIENTO, Y ESTAN PREVISTOS ELEMENTOS DE CALENTAMIENTO PARA CONTROL DE LA TEMPERATURA.

  22. 22.-

    "UN METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR".

    . Solicitante/s: WESTINGHOUSE ELECTRIC CORPORATION.

    METODO DE FABRICACION DE UNA PILA SOLAR. SE FORMA UNA CAPA DE UN METAL M SEGUN LA REACCION (I) EN DONDE M SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR ELEMENTOS DE LOS GRUPOS III, IV Y V DE LA TABLA PERIODICA, CADA X SE SELECCIONA INDEPENDIENTEMENTE DEL GRUPO CONSTITUIDO POR CLORO, BROMO Y YODO, R SE SELECCIONA DEL GRUPO CONSTITUIDO POR HIDROGENO Y LOS ELEMENTOS DE LOS GRUPOS I Y II DE LA TABLA PERIODICA HASTA NUMERO ATOMICO 30, N ES LA VALENCIA DE M Y M ES N/VALENCIA DE R, CALENTANDO UN SUSTRATO HASTA UNA TEMPERATURA ALTA PARA VAPORIZAR EL MRXN/M, SIENDO CALENTADO DICHO MR SOBRE UNA CARA DEL SUSTRATO, QUE ES PERMEABLE A DICHO MR LO SUFICIENTE PARA QUE ESTE SE DIFUNDA A TRAVES DE DICHO SUSTRATO, QUE ES INERTE PARA LOS REACTIVOS, Y SEPARANDO DICHO SUSTRATO INERTE DE DICHO MXN, PARA POR ULTIMO CALENTAR ESTE SOBRE LA OTRA CARA DE DICHO SUSTRATO LO SUFICIENTE PARA VAPORIZARLO.

  23. 24.-

    Un sistema de tratamiento de superficie que comprende: una unidad de transporte para cargar y transportar un intercambiador de calor; y una unidad de tratamiento de superficie para formar una capa de deposición sobre una superficie del intercambiador de calor transportada por la unidad de transporte; en el que el intercambiador de calor comprende: un conducto de refrigerante que tiene un paso de refrigerante; y una pluralidad de aletas de transferencia de calor acopladas al conducto de refrigerante

  24. 25.-

    Procedimiento para la fabricación de una cinta de sierra , en el que, como mínimo, a una fila de dientes de la cinta de sierra se aplica un recubrimiento de un material duro mediante un proceso de recubrimiento en vacío, de manera que la cinta de sierra es arrollada de forma espiral en una bobina y dotada de recubrimiento en esta forma, caracterizado porque, como mínimo, la fila de dientes de la cinta de sierra arrollada en la bobina antes de la aplicación del recubrimiento de material duro es sometida a cepillado para la eliminación de virutas, que...

  25. 26.-

    Herramienta de corte de superficie revestida, hecha de material sinterizado a presión ultra-alta, basado en nitruro de boro cúbico, que consiste en: un cuerpo principal de la pieza inserta de corte que consiste en material sinterizado a presión ultra-alta, formado mediante sinterización a presión ultra-alta de una masa compacta que tiene una composición, en porcentaje en masa, de 13 a 30% de nitruro de titanio, de 6,5 a 18% de aluminio y/o óxido de aluminio y el resto de nitruro de boro cúbico, y mostrando el cuerpo principal, bajo una observación que utiliza un microscopio electrónico de exploración, una textura tal que se presenta un producto de...

  26. 27.-

    Material de recubrimiento antimicrobiano y no citotóxico que comprende a) una capa de biocida con un principio activo biocida elegido del grupo constituido por plata, cobre y cinc, sus iones y sus complejos metálicos o una mezcla o aleación que comprende dos o más de estos elementos y b) una capa de control de transporte que cubre la capa de biocida con un espesor y una porosidad que se ajustan para liberar el principio activo biocida a partir de la capa de biocida a través de la capa de control de transporte en una cantidad antimicrobiana y no citotóxica, en que la capa de control de transporte tiene una proporción de silicio del 20 al 60% atómico, una proporción...

  27. 28.-

    Una cámara de proceso para el tratamiento de un sustrato (5a, 5b), en particular para el recubrimiento de un sustrato (5a, 5b) mediante un procedimiento PECVD (deposición química en fase de vapor asistida por plasma), que comprende un recipiente , herramientas de tratamiento para generar las condiciones de reacción para el tratamiento del sustrato (5a, 5b), y al menos un portador (4a, 4b) móvil previsto en el recipiente que porta al menos un sustrato, y un dispositivo de transporte para transportar el portador al interior del recipiente o desde el recipiente a lo largo...

  28. 29.-

    Un procedimiento para formar una lámina delgada en un sustrato que comprende: proporcionar un sustrato en una cámara; formar una lámina de óxido en el sustrato en la cámara; insertar un material compuesto que comprende un soporte poroso y un material anfifílico de silsesquioxano poliédrico oligomérico en la cámara, en donde el soporte poroso comprende un metal y comprende poros de un tamaño de poros promedio alrededor de 1 micrómetro a alrededor de 1000 micrómetros; ajustar en la cámara al menos una temperatura del material compuesto de alrededor de 50 a alrededor de 300ºC y una presión de alrededor de 0.000001 a alrededor de 760 torr para inducir una vaporización del material...

  29. 30.-

    Procedimiento para efectuar el revestimiento de un intercambiador de calor, en particular de un intercambiador de calor de tubo helicoidal , caracterizado porque el intercambiador de calor , que está dispuesto en una cámara de combustión de un calentador de agua se expone a un flujo de plasma generado a partir de un gas de proceso mediante una fuente de plasma que lo atraviesa durante el funcionamiento normal preferentemente en el sentido de los gases de escape, al que se añaden SiO2, Al2O3, compuestos de Si, compuestos de Ti o sus mezclas en estado líquido o gaseoso

  30. 31.-

    BOQUILLA DE ENFOQUE

    . Solicitante/s: CERATIZIT AUSTRIA GESELLSCHAFT M.B.H.. Inventor/es:

    Boquilla de enfoque para el corte abrasivo por chorro de agua compuesta por un cuerpo de boquilla de metal duro que está atravesado por un taladro para enfocar el chorro de corte y en la que al menos la pared del taladro está provista de un recubrimiento de material duro de una o varias capas, caracterizada porque el recubrimiento de material duro presenta al menos en la superficie libre una capa con proporción de nitruro de titanio.

  31. 32.-

    MATERIAL DE RECUBRIMIENTO ANTIMICROBIANO

    . Ver ilustración. Solicitante/s: BIO-GATE AG FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. Inventor/es:

    Material de recubrimiento antimicrobiano y no citotóxico que comprende a) una capa de biocida con un principio activo biocida y b) una capa de control de transporte que cubre la capa de biocida con un espesor y una porosidad que se ajustan para liberar el principio activo biocida a partir de la capa de biocida a través de dicha capa de control de transporte en una cantidad antimicrobiana y no citotóxica, caracterizado porque la capa de control de transporte es una capa de polímero de plasma y/o una capa de pulverización catódica y en que la capa de control de transporte posee una proporción de silicio del 20 al 60%, una proporción de carbono del 10 al 30% y una proporción de oxígeno del 30 al 50%.