.Poliamidas derivadas de ácidos omega-aminocarboxílicos o de sus lactamas (177/10 tiene prioridad) [5]

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CIP: C09D177/02, .Poliamidas derivadas de ácidos omega-aminocarboxílicos o de sus lactamas (177/10 tiene prioridad) [5]

Entorno:
  • Composiciones de revestimiento a base de compuestos macromoleculares orgánicos obtenidos por reacciones distintas a aquellas en las que intervienen solamente enlaces insaturados carbono-carbono [5]
  • Nota
  • En los grupos 165/00 a 185/00, salvo indicación en contra, las composiciones de revestimiento a base de compuestos macromoleculares obtenidos por reacciones que forman dos enlaces diferentes en la cadena principal están clasificadas únicamente según el enlace presente en exceso. [5]

Inventos patentados en esta categoría

  1. 1.-

    La laca o pintura con base acuosa curada con UV que se caracteriza por que la laca o pintura comprende entre un 3 y un 10% en peso de cuentas de poliamida 12 con un diámetro de entre 25 y 60 µm

  2. 2.-

    Uso de una masa de moldeo de poliamida, que contiene los siguientes componentes: a) como máximo 90 partes en peso de una poliamida obtenible a partir de una lactama o un ácido aminocarboxílico con al menos 10 átomos de C; y b) 10 a 100 partes en peso de PA1010, en donde los componentes a) y b) se completan hasta 100 partes en peso, para la producción de una lámina

  3. 3.-

    Composición que contiene 88 a 99,99% en peso de un polímero seleccionado del grupo poliamidas, derivados de poliamidas o mezclas de los mismos, y 0,01 a 0,25% en peso de un adyuvante de vertido, seleccionado del grupo de sílice hidrofobizada, sílice hidrófoba o mezclas de las mismas, donde la pérdida por secado determinada según ISO 787/2 del adyuvante de vertido después de 5 días de acondicionamiento con una humedad relativa del aire de 95% es menor o igual que 1%

  4. 4.-

    COMPOSICIONES TERMOPLASTICAS EN POLVO A BASE DE POLIAMIDA Y/O DE POLIETER-ESTERAMIDA, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y SU USO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS METALICOS.

    . Solicitante/s: ELF ATOCHEM S.A.. Inventor/es:

    LA INVENCION SE REFIERE A COMPOSICIONES TERMOPLASTICAS EN POLVO A BASE DE POLIAMIDA Y/O DE POLIETER-ESTERAMIDA Y QUE CONTIENE RESINAS EPOXI/SULFONAMIDAS. LA INVENCION TIENE POR OBJETO IGUALMENTE VARIOS PROCEDIMIENTOS PARA LA OBTENCION DE ESTOS POLVOS, ASI COMO SU USO EN EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS METALICOS QUE NO NECESITAN DE PRIMARIO DE ADHERENCIA.

  5. 5.-

    Una monolámina trasera para módulos fotovoltaicos producida a partir de una masa de moldeo, que está basada en por lo menos una poliamida, caracterizada porque la por lo menos una poliamida está constituida a base de monómeros alifáticos lineales y/o ramificados y/o cicloalifáticos, que tienen en promedio por lo menos 8 y como máximo 17 átomos de C, y que están escogidos entre el conjunto que se compone de diaminas, ácidos dicarboxílicos, lactamas y ácidos aminocarboxílicos así como de mezclas de los mismos, estando excluidas una poliamida 610 y una poliamida 612, y estando reticuladas las poliamidas que se basan en lactamas y ácidos aminocarboxílicos

  6. 6.-

    PINTURA EN POLVO AUTO-ADHERENTE A BASE DE POLIAMIDA Y DE SILANO PARA REVESTIR METALES

    . Ver ilustración. Solicitante/s: ARKEMA FRANCE. Inventor/es:

    Utilización de un polvo que comprende 99,95 a 95% de al menos una poliamida y 0,05 a 5% de al menos un silano para revestir metal.

  7. 7.-

    POLVO DE POLIAMIDA PARA SINTERIZACION FLUIDIZADA, DESTINADO A LA SINTERIZACION FLUIDIZADA EN CAPA DELGADA

    . Ver ilustración. Solicitante/s: DEGUSSA AG. Inventor/es:

    Procedimiento para el revestimiento de superficies metálicas según el procedimiento de sinterización fluidizada en capa delgada, caracterizado porque se utiliza un polvo de poliamida, realizándose que - el polvo posee un tamaño medio de gramos d 50 comprendido entre 20 y 90 mim, - la porción fina < 5 mim está por debajo de 1 %, y - el polvo tiene por lo menos un 75 % de partículas esféricas, en las cuales - el grano tiene el mismo tamaño con + - un 10 % en los tres ejes del espacio x, y y z, con lo que se ajustan unos grosores homogéneos de capas entre 50 y 200 µm.