PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUBSTRATO, ESPECIALMENTE CON CAPAS SIN CONDUCTIVIDAD ELECTRICA.
EN UN PROCEDIMIENTO Y UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS A UN SUBSTRATO DE OBJETOS (3,
4) CON CONDUCTIVIDAD ELECTRICA EN ATMOSFERA REACTIVA (FIG. 1), COMPUESTO DE UNA FUENTE DE CORRIENTE (12,13,14) QUE ESTA UNIDA A LOS CATODOS (1,2) DISPUESTOS EN UNA CAMARA DE REVESTIMIENTO EVACUABLE (15), QUE ACTUAN DE FORMA ELECTRICA CONJUNTA CON LOS OBJETOS (3,4), EN EL QUE DOS ANODOS (5,6) ELECTRICOS ESTAN DISPUESTOS SEPARADOS DE LA CAMARA DE PULVERIZACION (15), QUE ESTAN PREVISTOS EN UN PLANO ENTRE LOS CATODOS (1,2) Y EL SUBSTRATO (7), POR LO QUE LAS DOS SALIDAS (12A,12B) DEL DEVANADO SECUNDARIO DE UN TRANSFORMADOR (12), UNIDO CON UN GENERADOR DE FRECUENCIA MEDIA (13) BAJO LA INTERCONEXION DE UNA BOBINA DE REACTANCIA (14), ESTAN CONECTADAS RESPECTIVAMENTE A UN CATODO (1 O 2) A TRAVES DE LOS CONDUCTORES DE ALIMENTACION (20,21), Y LOS DOS CONDUCTORES DE ALIMENTACION (20,21) ESTAN UNIDOS ENTRE SI POR MEDIO DE UN CONDUCTOR DE DERIVACION (22), EN EL QUE SE HA CONECTADO UN CIRCUITO OSCILANTE, POR EL QUE CADA UNO DE LOS DOS CONDUCTORES DE ALIMENTACION (20,21) ESTA CONECTADO RESPECTIVAMENTE TANTO A TRAVES DE UNA PRIMERA RED (16 O 17) CON LA CAMARA DE REVESTIMIENTO (15), COMO TAMBIEN A TRAVES DE LA CORRESPONDIENTE SEGUNDA RED (8 O 9) CON EL RESPECTIVO ANODO (5 O 6), Y EN EL QUE EN UN SEGUNDO CONDUCTOR DE DERIVACION (28) SE HA CONECTADO UN DIODO RECTIFICADOR (26) Y UNA RESISTENCIA (27), QUE PERMITEN UNA PULVERIZACION ASIMETRICA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: WILHELM-ROHN-STRASSE 25, POSTFACH 1555,D-63450 HANAU.
Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., BRAUER, GUNTER, DR., TESCHNER, GOTZ, DIPL.-ING.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 5 de Julio de 1995.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/34 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › que funcionan por pulverización catódica (H01J 37/36 tiene prioridad).
Patentes similares o relacionadas:
Diana de pulverización catódica basada en óxido de circonio, del 15 de Abril de 2020, de Materion Advanced Materials Germany GmbH: Diana de pulverización catódica, que comprende un óxido de circonio como material de pulverización catódica, en la que el óxido de circonio representa, como mínimo, el 75 % […]
Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]
Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]
Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]
Procedimiento de revestimiento de un substrato, instalación de aplicación del procedimiento y dispositivo metálico de alimentación de tal instalación, del 12 de Noviembre de 2019, de Arcelormittal: Procedimiento de revestimiento de al menos una cara de un substrato en deslizamiento, por evaporación en vacío mediante plasma de una capa metálica […]
Método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD), en vacío, del 26 de Junio de 2019, de Argor Aljba SA: Un método para filtrar macropartículas en una deposición física de vapor por arco catódico (PVD) en vacío, comprendiendo dicho método la etapa de evaporar un material […]
Dispositivo de revestimiento modular, del 8 de Mayo de 2019, de AGC GLASS EUROPE: Un dispositivo de revestimiento modular bajo vacío que tiene al menos un módulo que comprende al menos una zona de revestimiento con al menos un compartimento fuente […]
Procedimiento y dispositivo para ahorrar energía y al mismo tiempo aumentar la velocidad de paso en las instalaciones de recubrimiento al vacío, del 1 de Mayo de 2019, de GRENZEBACH MASCHINENBAU GMBH: Dispositivo de recubrimiento mediante pulverización, que se compone de en una serie de segmentos de pulverización y de segmentos de separación de gases […]