NUEVOS DERIVADOS DE CARBAPENEM.
Un compuesto de la **fórmula** o una sal farmacéuticamente aceptable,
en la que R1 significa un átomo de hidrógeno o metilo; R2 y R3 que pueden ser iguales o distintos significan un átomo de hidrógeno; un átomo de halógeno; alquilo inferior del que uno o varios átomos de hidrógeno pueden estar sus tituidos por hidroxilo o amino; (alquilo inferior)carbonilo; carbamoílo; arilo; o (alquilo inferior)tio; y R4 significa (alquilo inferior)tio sustituido, en el que uno o varios sustituyentes de la parte alquilo, que pueden ser iguales o diferentes, se eligen entre el grupo formado por un átomo de halógeno, nitro, azido, ciano, cicloalquilo infe rior, isotioureido, hidroxilo, alcoxi inferior, fosfonoxi, formilo, (alquilo inferior)carbonilo, arilcarbonilo, carboxi, (alcoxi inferior)carbonilo, carbamoílo, N-(alquilo inferior) carbamoílo, N, N-di(alquilo inferior)carbamoílo, amino, N-(al quilo inferior)amino, N, N-di(alquilo inferior)amino, formil amino, (alquilo inferior)carbonilamino , aminosulfonilamino, (N-alquilo inferior-amino)sulfonilamino , (N, N-di-alquilo inferior-amino)sulfonilamino , formimidoilamino, acetimidoil amino, guanidino, aminosulfonilo, (N-alquilo inferior-amino) sulfonilo, (N, N-di-alquilo inferior-amino)sulfonilo , arilo, un anillo heterocíclico monocíclico o bicíclico que contiene uno o varios heteroátomos, que pueden ser iguales o dife rentes, piridinio-1-ilo, 1-azonio-4-azabiciclo[2 , 2, 2]oct-1- ilo y 4-alquilo inferior-1, 4-diazoniobiciclo[2, 2, 2]oct-1-ilo, en los que la parte alquilo inferior puede estar sustituida por uno o varios restos elegidos entre el grupo formado por un átomo de halógeno, hidroxilo, carbamoílo y amino.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MEIJI SEIKA KAISHA, LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 4-16, KYOBASHI 2-CHOME, CHUO-KU,TOKYO 104-8002.
Inventor/es: KANO, YUKO PHARMAC. RES. CTR. MEIJI SEIKA K., LTD., MARUYAMA, TAKAHISA MEIJI SEIKA KAISHA LTD., SAMBONGI, YUMIKO MEIJI SEIKA KAISHA LTD., AIHARA, KAZUHIRO MEIJI SEIKA KAISHA LTD., ATSUMI, KUNIO MEIJI SEIKA KAISHA LTD., IWAMATSU, KATSUYOSHI MEIJI SEIKA KAISHA LTD., IDA, TAKASHI MEIJI SEIKA KAISHA LTD.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 26 de Enero de 2001.
Fecha Concesión Europea: 13 de Octubre de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K31/429 NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA. › A61 CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE. › A61K PREPARACIONES DE USO MEDICO, DENTAL O PARA EL ASEO (dispositivos o métodos especialmente concebidos para conferir a los productos farmacéuticos una forma física o de administración particular A61J 3/00; aspectos químicos o utilización de substancias químicas para, la desodorización del aire, la desinfección o la esterilización, vendas, apósitos, almohadillas absorbentes o de los artículos para su realización A61L; composiciones a base de jabón C11D). › A61K 31/00 Preparaciones medicinales que contienen ingredientes orgánicos activos. › condensados con sistemas heterocíclicos.
- A61P31/04 A61 […] › A61P ACTIVIDAD TERAPEUTICA ESPECIFICA DE COMPUESTOS QUIMICOS O DE PREPARACIONES MEDICINALES. › A61P 31/00 Antiinfecciosos, es decir antibióticos, antisépticos, quimioterápicos. › Agentes antibacterianos.
- C07D477/14 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 477/00 Compuestos heterocíclicos que contienen sistemas cíclicos 1-azabiciclo [3.2.0] heptano, p. ej. compuestos que contienen un sistema cíclico de fórmula: , p. ej. carbapenicilinas, tienamicinas; Estando a su vez dichos sistemas cíclicos condensados, p. ej. condensación 2-3 con heterociclos que contienen oxígeno, nitrógeno o azufre. › con átomos de hidrógeno, radicales hidrocarbonados o hidrocarbonados sustituidos, unidos en posición 3.
- C07D519/00 C07D […] › Compuestos heterocíclicos que contienen varios sistemas con varios heterociclos determinantes condensados entre sí o condensados con un sistema carbocíclico común no previstos en los grupos C07D 453/00 ó C07D 455/00.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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