ESTRUCTURA DE VALVULA ELECTROMAGNETICA DE DIAFRAGMA CON DOS VALVULAS A PRUEBA DE FUGAS.

1. Estructura de válvula electromagnética de diafragmados válvulas a prueba de fugas,

que comprende una primera carcasa que tiene una entrada general de válvula y una segunda carcasa que tiene una salida general de válvula, caracterizada porque la primera y la segunda carcasa tienen sobre sí diafragmas respectivos montados por sujeción con una placa divisoria intermedia; un pasaje se forma para comunicarse con una salida de válvula en la primera carcasa Y. a su vez, se comunica con otro pasaje que conduce hasta la salida general de la válvula en la segunda carcasa, por lo que las dos válvulas a prueba de fuga se disponen en serie, y en la cual se forman tres conductos entre una válvula microelectromagnética , normalmente abierta, y una válvula microelectromagnética , normalmente cerrada, para controlar, respectivamente, dos cámaras de contrapresión en los diafragmas, formadas por la placa divisoria intermedia entre la primera carcasa y la segunda carcasa; sujetando la placa divisoria intermedia y la primera y la segunda carcasas, se constituye inherentemente la comunicación entre los tres conductos; de este modo, cuando penetra gas desde la entrada general de la válvula de la primera carcasa a otro conducto y penetra por una boca de válvula de la referida válvula microelectromagnética , normalmente abierta, y fluye después de las dos cámaras de contrapresión dentro de sus diafragmas respectivos, y se dirige por último saliendo de la válvula microelectromagnética , normalmente cerrada, para combustión, se puede lograr una doble función a prueba de fugas controlando las dos válvulas a prueba de fugas sin necesidad de diversos racores o tubos de conexión.
2.Estructura de válvulas electromagnética de diafragma con dos válvulas a prueba de fugas, según la reivindicación 1, caracterizada porque comprende dos válvulas electromagnéticas, mutuamente independientes, que se constituyen con sus conductos respectivos sin comunicación mutua y realizan sus funciones apropiadas de toma de gas y liberación de presión con respecto a sus cámaras de contrapresión respectiva; proporcionándose una cámara de presión normal que conduce a través de un conducto a la boca de la válvula, normalmente abierta, y a una cámara de válvula electromagnética de la primera de las referidas válvulas electromagnéticas y a la primera de las cámaras de contrapresión a través de otro conducto, estando provista la válvula electromagnética de una válvula normalmente cerrada, conduciendo la válvula, normalmente cerrada, a una salida de un tubo Venturi que tiene un cuello reducido formado en una salida de válvula de un tapón de válvula de diafragma.
3.Estructura de válvula electromagnética de diafragma con dos válvulas a prueba de fugas, según la reivindicación 2, caracterizada porque el referido tapón de válvula de diafragma de la segunda carcasa está provisto, en su centro, de un orificio que permite una pequeña cantidad de flujo, y el referido tapón de válvula de diafragmapforma una corona circular a prueba de fugas mayor y otra menor; la referida corona circular mayor, a prueba de fugas, enfrentada al lado frontal del tapón de válvula de diafragma, se sujeta apretada a un orificio de descarga de la segunda carcasa, mientras que la corona circular, menor a prueba de fugas, enfrentada a su lado posterior, se sujeta apretada a una pestaña de un vástago de válvula en forma de cómo truncado; por lo tanto, cuando el diafragma comienza a moverse, el gas fluye exclusivamente desde un espacio de separación entre el orificio de tapón de válvula de diafragma y el vástago de válvula de cono truncado para fluir saliendo por una salida del referido tapón de válvula de diafragma, fluyendo entonces una gran cantidad de gas cuando el diafragma se desplaza gradualmente en mayor grado.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: HUANG,CHUN-CHENG.

Nacionalidad solicitante: Taiwan, Provincia de China.

Dirección: 6FL, N 111-32, SEC.4.SAN HO RD.,SANCHUNG CITY.

Inventor/es: HUANG,CHUN-CHENG.

Fecha de Solicitud: 22 de Marzo de 1999.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 22 de Marzo de 2000.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • F16K17/02 MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA.F16 ELEMENTOS O CONJUNTOS DE TECNOLOGIA; MEDIDAS GENERALES PARA ASEGURAR EL BUEN FUNCIONAMIENTO DE LAS MAQUINAS O INSTALACIONES; AISLAMIENTO TERMICO EN GENERAL.F16K VALVULAS; GRIFOS; COMPUERTAS; FLOTADORES PARA ACCIONAMIENTO; DISPOSITIVOS PARA VENTILAR O AIREAR.F16K 17/00 Válvulas o charnelas de seguridad; Válvulas o charnelas de equilibrado (dispositivos limitadores de presión para receptáculos aerosoles B65D 83/70). › que se abren por exceso de presión de un lado; que se cierran por insuficiencia de presión de un lado (válvulas de retención F16K 15/00).
  • F16K31/126 F16K […] › F16K 31/00 Medios de accionamiento; Dispositivos de retorno a la posición de reposo. › actuando el fluido sobre un diafragma, un fuelle o un órgano similar (F16K 31/145, F16K 31/165, F16K 31/365, F16K 31/385 tienen prioridad).
  • F16K7/00 F16K […] › Dispositivos de obturación con diafragma, p. ej. en los que un elemento se deforma sin ser desplazado completamente para cerrar la apertura (puertas o cierres para grandes receptáculos, que funcionan por deformación de paredes flexibles B65D 90/56; medios para obturar los tubos o las mangas F16L 55/10).
ESTRUCTURA DE VALVULA ELECTROMAGNETICA DE DIAFRAGMA CON DOS VALVULAS A PRUEBA DE FUGAS.

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