DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA DESACOPLE DE LA LUZ EN FUNCION DE LA LONGITUD ONDA.
Dispositivo de exposición (10) con una lámpara (1) y una configuración de condensadores (2) para desacople de la luz en función de longitud de onda,
en donde dentro del trayecto de rayos de exposición de la lámpara (1) se ha dispuesto una primera capa de espejos (7) en función de la longitud de onda para dividir el trayecto de rayos en una primera porción (14) ultravioleta reflejada utilizada para la exposición y en una segunda porción espectral (15) visible y/o infrarroja, principalmente transmitida, habiéndose dispuesto un segundo espejo (16) en el trayecto de rayos de la segunda porción espectral (15) que refleja la segunda porción espectral (16) de vuelta a la primera capa de espejos (7), caracterizado porque en el trayecto de rayos de la porción de luz (17) de la segunda parte espectral (15) reflejada durante el segundo paso por la primera capa de espejos (7) en esta capa de espejos (7), se ha dispuesto una pantalla de visionado (19), y porque entre la pantalla de visionado (19) y la primera capa de espejos (7) se ha provisto una óptica de imagen (18) para crear una proyección de la lámpara (1) sobre la pantalla de visionado (19).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: BASYS PRINT GMBH SYSTEME FUR DIE DRUCKINDUSTRIE
TOYO INK. MFG. CO. LTD.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: GULZER STRASSE 15,19258 BOIZENBURG.
Inventor/es: EGGERS, STEFAN, ANDREAE, CLAAS.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 11 de Agosto de 2000.
Fecha Concesión Europea: 16 de Abril de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G02B27/18 FISICA. › G02 OPTICA. › G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84). › G02B 27/00 Aparatos o sistemas ópticos no previstos en ninguno de los grupos G02B 1/00 - G02B 26/00, G02B 30/00. › para proyección óptica, p. ej. combinación de espejo, de condensador y de objetivo.
- G03F7/20 G […] › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.
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