DISPOSITIVO DE SOPLETE PARA PROCEDIMIENTOS QUIMICOS.

EN UNA ANTORCHA DE PLASMA (1) QUE CONSTE DE DOS O MAS ELECTRODOS TUBULARES (2, 3) QUE ESTEN SITUADOS AXIALMENTE UNOS DENTRO DE LOS OTROS Y QUE ESTEN DISEÑADOS PARA EL TRATAMIENTO QUIMICO DEL REACTANTE, UN TUBO DELANTERO

(4) PARA EL SUMINISTRO DEL REACTANTE SE SITUA DE FORMA COAXIAL EN EL ELECTRODO INTERNO (3) Y CONSTA DE UN TUBO REFRIGERADO POR LIQUIDO PROVISTO DE UNA CAPA AISLANTE DEL CALOR (10, 11) SOBRE LA SUPERFICIE EXTERIOR. ADEMAS EL TUBO (4) PUEDE MOVERSE EN LA DIRECCION AXIAL PARA POSICIONAR LA BOQUILLA CON RELACION A LA LLAMA DE PLASMA. LA PARTE INFERIOR DEL TUBO (4) QUEDA EXPUESTA A LAS ALTAS TEMPERATURAS QUE PUEDEN PROVOCAR LA EROSION Y LACERACIONES, Y POR LO TANTO ESTA PARTE ESTA DISEÑADA PARA QUE PUEDA REEMPLAZARSE. MAS AUN, EL TUBO PUEDE ESTAR PROVISTO DE UN ESTRECHAMIENTO EN LA ABERTURA DE SALIDA EN FORMA DE UNA BOQUILLA DE VENTURI, PARA INCREMENTAR LA VELOCIDAD DE SALIDA DEL REACTANTE. ENTRE EL TUBO Y EL ELECTRODO INTERNO SE FORMA UN CONDUCTO ANULAR EN EL INTERIOR DEL CUAL PUEDE INTRODUCIRSE EL GAS PARA LA FORMACION DEL PLASMA (13). EL GAS PARA LA FORMACION DE PLASMA QUE FLUYE A LO LARGO DEL TUBO PUEDE REFRIGERARLO DE FORMA SIMULTANEA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: KVAERNER ENGINEERING A/S.

Nacionalidad solicitante: Noruega.

Dirección: PROF. KOHTSVEI 5,1324 LYSAKER.

Inventor/es: .

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 11 de Diciembre de 1992.

Fecha Concesión Europea: 6 de Agosto de 1997.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION H — ELECTRICIDAD > TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR > TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00;... > Producción del plasma; Manipulación del plasma... > H05H1/34 (Detalles, p. ej. electrodos, toberas)
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR > TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00;... > Producción del plasma; Manipulación del plasma... > H05H1/42 (con disposiciones para la introducción de materiales en el plasma, p. ej. polvo, líquido (pulverización electrostática, aparatos de pulverización con medios para cargar eléctricamente el pulverizante B05B 5/00))

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, Hungría, Japón, República de Corea, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea, Checoslovaquia.

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