DISPOSITIVO PARA EL ALOJAMIENTO Y LA SUJECION DE SUSTRATOS Y UN DISPOSITIVO DE GALVANIZACION.

Dispositivo (11) para el alojamiento o la sujeción de varios substratos planos (26) en un plano horizontal,

con un bastidor con brazos de bastidor (12, 14) que forman entre ellos campos de alojamiento (20) con escotaduras (20) o recortes en la zona de los brazos del bastidor o entre estos, presentando los brazos del bastidor (12, 14) soportes (22, 24) para los substratos (26) para su sujeción mecánica y para el contacto eléctrico (24) en el lado de substrato adyacente

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2006/007903.

Solicitante: GEBR. SCHMID GMBH & CO..

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: ROBERT-BOSCH-STRASSE 32-34 72250 FREUDENSTADT ALEMANIA.

Inventor/es: SCHMID, CHRISTIAN.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 9 de Agosto de 2006.

Fecha Concesión Europea: 23 de Junio de 2010.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D17/00 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › Elementos estructurales, o sus ensambles, de células para revestimiento electrolítico.
  • C25D17/08 C25D […] › C25D 17/00 Elementos estructurales, o sus ensambles, de células para revestimiento electrolítico. › Bastidores.
  • C25D7/06C2

Clasificación PCT:

  • C25D17/00 C25D […] › Elementos estructurales, o sus ensambles, de células para revestimiento electrolítico.
  • C25D17/08 C25D 17/00 […] › Bastidores.
  • C25D7/06 C25D […] › C25D 7/00 Deposiciones de metales por vía electrolítica caracterizadas por el objeto revestido. › Alambres; Cintas; Chapas.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia.

DISPOSITIVO PARA EL ALOJAMIENTO Y LA SUJECION DE SUSTRATOS Y UN DISPOSITIVO DE GALVANIZACION.

Fragmento de la descripción:

Dispositivo para el alojamiento y la sujeción de sustratos y un dispositivo de galvanización.

Campo de aplicación y estado de la técnica

La invención se refiere a un dispositivo para el alojamiento o la sujeción de varios substratos planos en un plano horizontal, así como un dispositivo de galvanización con una pista de pasaje para substratos a través de una cámara de tratamiento, estando sujetados los substratos en un dispositivo previamente citado.

Hasta ahora se transportaron en dispositivos de galvanización para substratos, como por ejemplo circuitos impresos o sobre todo células solares u obleas, los substratos echados sobre rodillos de transporte según el método de una banda de rodillos. Esto sin embargo puede causar problemas en caso de substratos muy sensibles, como por ejemplo células solares finas. Aquí los substratos pueden ser de silicio muy fino, el cual según ello es sensible o frágil. Además el manejo de substratos sensibles, por ejemplo durante la introducción en un dispositivo de galvanización, ha de efectuarse con cuidado extremo. Esto significa en muchos casos bien un gasto mecánico aumentado para los dispositivos prensores o bien un manejo ralentizado, lo que significa unos retardos indeseados.

La patente DE 4330346 C1 muestra un dispositivo para el alojamiento y la sujeción de una multitud de substratos planos en un plano horizontal. En este caso los substratos están dispuestos en cavidades con elementos de sujeción. Los substratos son tratados en este caso individualmente.

La patente US-A-5 135 636 muestra como se sujetan los substratos en un dispositivo para el alojamiento y la sujeción mediante bornes desde arriba. A la vez se sujeta por cada soporte solamente un substrato único.

La patente EP-A1-0 239 736 muestra un dispositivo para el alojamiento y la sujeción de una multitud de substratos planos en un plano horizontal, apretando los substratos directamente en un borde exterior.

Tarea y solución

La invención se basa en la tarea de crear un dispositivo inicialmente mencionado para el alojamiento o la sujeción de varios substratos planos así como un dispositivo de galvanización adecuado para su tratamiento, con el cual se pueden evitar los problemas del estado de la técnica y particularmente sea posible un tratamiento más cuidadoso y el transporte de substratos.

Este problema se resuelve con un dispositivo con las características de la reivindicación 1 así como un dispositivo de galvanización con las características de la reivindicación 13. Las configuraciones ventajosas así como preferidas de la invención son objeto de las reivindicaciones ulteriores y en lo sucesivo se describirán detalladamente. El texto de las reivindicaciones hace referencia explícita al contenido de la descripción.

Según la invención el dispositivo presenta un bastidor con brazos de bastidor que forman campos de alojamiento entre sí, formándose escotaduras o recortes por los brazos del bastidor. Los brazos del bastidor pueden extenderse por ejemplo en forma de rejilla, particularmente con un bastidor exterior y brazos del bastidor que se extienden entre estos como subdivisiones. Los brazos del bastidor presentan soportes para los substratos, en o sobre los cuales se hallan los substratos. Así se efectúa la sujeción mecánica de los substratos y un contactado eléctrico sobre el lado del substrato apoyado en los soportes. Así, un dispositivo de alojamiento o una sujeción puede ser creado para varios substratos planos, en los cuales los substratos se introducen en los campos de alojamiento. Para diferentes etapas de tratamiento de los substratos así como para el transporte y bajo ciertas circunstancias también para el almacenamiento no tienen que moverse los substratos individuales, sino se mueve todo el dispositivo de alojamiento. Esto puede ser realizado de manera bastante más robusta que los substratos mismos, de modo que aquí los dispositivos prensores usuales en sí o similares puedan ser usados sin problema. Además, debido a los soportes puede existir una unión definida precisa entre el dispositivo de alojamiento y el substrato que puede ser sintonizado con determinadas características del substrato. Finalmente es posible con un dispositivo de alojamiento para una multitud de substratos mover no solamente un substrato con etapas de trabajo individuales, sino igualmente todos los substratos de un dispositivo de alojamiento. Puesto que se efectúa el contactado eléctrico por medio del dispositivo de alojamiento o de los soportes en los substratos, se ahorran dispositivos de contacto adicionales directamente en los substratos. Esto presenta además también la ventaja de que la carga mecánica de los substratos puede ser reducida o evitada por los rodillos de contacto u otros dispositivos de contacto. Según la invención se realiza entonces mediante el dispositivo de alojamiento tanto una sujeción mecánica o una recepción de los substratos como también un contactado eléctrico en este.

Los soportes pueden ser formados por ejemplo como salientes, que distan o salen de los brazos del bastidor. En este caso los salientes pueden ser formados relativamente estrechos, es decir aproximadamente puntiformes, para provocar un recubrimiento de superficies a ser posible escaso en los substratos. Así un contacto con un medio de tratamiento en un dispositivo de galvanización ventajosamente es a ser posible de gran dimensión. Alternativamente los salientes sin embargo pueden ser también más anchos para provocar una especie de apoyo en forma de línea de los substratos con su zona del borde en los alojamientos o brazos del bastidor. Por ello es posible un soporte suficientemente estable sobre todo en substratos especialmente sensibles, porque está distribuido. Los salientes pueden extenderse por debajo del plano de los brazos del bastidor, por ejemplo por una desviación hacia abajo. Por ello es posible que los substratos superpuestos estén aproximadamente al mismo nivel con la sujeción o con los brazos del bastidor. En este caso los salientes pueden sobresalir hacia abajo absolutamente también del plano formado por el lado inferior de los brazos del bastidor. Ventajosamente los substratos se hallan en el dispositivo de alojamiento o sobre los salientes, de tal manera que su cara superior no se encuentre por debajo del plano de la cara superior de los brazos del bastidor, sino que preferiblemente sobresalga incluso un trocito. Así puede ser garantizado que rodillos o similares apoyados desde arriba de todos modos también adhieren sobre el lado superior de los substratos y no principalmente sobre brazos del bastidor que sobresalen de los substratos.

Para el contactado eléctrico pueden estar previstos unos contactos especiales en los soportes, que sobresalen hacia arriba. Mediante estos contactos, que particularmente pueden ser colocados por separado sobre los salientes, el contacto eléctrico puede ser mejorado independientemente del material o de la configuración de los salientes. Los contactos pueden ser presentes en forma de salientes de contacto, puntas de contacto o cabezas de contacto con superficies eléctricamente conductoras. Particularmente los contactos pueden consistir ventajosamente en un material de contacto utilizado para contactos de conmutación. En una configuración de la invención es posible dotar estos de juntas, de tal manera que no tenga lugar un contacto eléctrico en substratos aplicados. Así, en un proceso de galvanización pueden ser evitadas sedimentaciones indeseadas en los contactos, puesto que el medio de tratamiento no puede alcanzar directamente los contactos a causa de la junta. Son posibles aquí por ejemplo juntas de goma en forma de olla o de cuenco para los contactos alrededor.

Para un contacto eléctrico es ventajoso, cuando algunos o todos los brazos del bastidor sean eléctricamente conductores. Particularmente todo el dispositivo de alojamiento es eléctricamente conductor, por ejemplo puede consistir en metal. Ventajosamente está previsto en este caso que todas partes o los brazos del bastidor del dispositivo de alojamiento estén unidos entre sí de manera eléctricamente conductiva. Para ello una tal recepción por ejemplo puede ser sacada de una chapa a modo de una bandeja en forma de rejilla.

En una configuración ulterior de la invención es posible dotar el dispositivo de alojamiento de un revestimiento eléctricamente aislante, por ejemplo un barniz o un revestimiento. Así, una separación indeseada de un material de recubrimiento puede ser evitada durante un proceso de galvanización en todo el alojamiento. Caso de que esta separación del material...

 


Reivindicaciones:

1. Dispositivo (11) para el alojamiento o la sujeción de varios substratos planos (26) en un plano horizontal, con un bastidor con brazos de bastidor (12, 14) que forman entre ellos campos de alojamiento (20) con escotaduras (20) o recortes en la zona de los brazos del bastidor o entre estos, presentando los brazos del bastidor (12, 14) soportes (22, 24) para los substratos (26) para su sujeción mecánica y para el contacto eléctrico (24) en el lado de substrato adyacente.

2. Dispositivo de alojamiento según la reivindicación 1, caracterizado por el hecho de que los soportes son salientes (22) que sobresalen de los brazos del bastidor (12, 14), extendiéndose los salientes (22) particularmente por debajo del plano de los brazos del bastidor, de tal manera que los substratos (26) descansen sobre ellos y al mismo tiempo se encuentren en el mismo plano que el alojamiento o los brazos del bastidor (12, 14).

3. Dispositivo de alojamiento según la reivindicación 1 o 2, caracterizado por el hecho de que los soportes (22) presentan contactos (24) orientados hacia arriba, particularmente salientes de contacto o puntas de contacto.

4. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por el hecho de que al menos una parte de los brazos del bastidor (12, 14), particularmente todos los brazos del bastidor o el dispositivo de alojamiento (11) son eléctricamente conductores, siendo éstos preferiblemente de metal y particularmente los brazos del bastidor (12, 14) eléctricamente conductores están unidos entre si también de manera eléctricamente conductora.

5. Dispositivo de alojamiento según la reivindicación 4, caracterizado por el hecho de que éste y particularmente sus brazos de bastidor (12, 14), están eléctricamente aislados al menos en gran parte en su superficie, preferiblemente por medio de un revestimiento.

6. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por una sección (16, 17) saliente de su zona exterior, particularmente a partir de un brazo de bastidor (12) que se extiende en el exterior, estando preferiblemente la sección acodada hacia arriba (16) y particularmente primero hacia arriba y luego hacia el lado (17) a partir del plano del dispositivo de alojamiento (11).

7. Dispositivo de alojamiento según la reivindicación 6, caracterizado por el hecho de que la sección (16, 17) saliente está eléctricamente conectada por los brazos del bastidor (12, 14) y/o por los contactos eléctricos (24) a los substratos (26) adyacentes, presentando aquel especialmente una superficie eléctricamente conductora.

8. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por el hecho de que el mismo está realizado de una sola parte, preferiblemente de una sola pieza.

9. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por el hecho de que un substrato (26) se encuentra de manera estanca en un campo de alojamiento (20) entre los brazos del bastidor (12, 14) adyacentes, de tal manera que impermeabiliza una escotadura hacia abajo entre los brazos del bastidor o la obtura contra la penetración de líquido a una presión baja.

10. Dispositivo de alojamiento según la reivindicación 9, caracterizado por unas juntas en la zona de los brazos del bastidor (12, 14) para el contacto estrecho con el substrato (26) insertado.

11. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por el hecho de que se prevén varios campos de alojamiento (20) uno al lado del otro y uno tras el otro, siendo preferiblemente de las mismas dimensiones.

12. Dispositivo de alojamiento según una de las reivindicaciones anteriores, caracterizado por un dispositivo de recubrimiento, que puede ser fijado sobre el dispositivo de alojamiento (11), estando situados los substratos (26) insertados entre el dispositivo de alojamiento (11) y el dispositivo de recubrimiento y estando asegurados contra la caída, cubriendo particularmente el dispositivo de recubrimiento más o menos la misma superficie que el dispositivo de alojamiento (11).

13. Dispositivo de galvanización con una pista de pasaje para substratos (26) a través de una cámara de tratamiento (32), comprendiendo la cámara de tratamiento un medio de tratamiento como un electrolito para la aplicación galvánica de una capa sobre los substratos (26), caracterizado por el hecho de que la pista de pasaje presenta unos medios de transporte como rodillos de transporte (33) o similares para transportar a su través en posición horizontal un dispositivo de alojamiento (11) según una de las reivindicaciones anteriores.

14. Dispositivo de galvanización según la reivindicación 13, caracterizado por rodillos de apriete (36) apoyados desde arriba sobre los dispositivos de alojamiento (11) o substratos (26), estando previsto al menos un rodillo de apriete (36) en sentido de pasaje por fila consecutiva de substratos (26) situada una tras la otra y estando realizados particularmente los rodillos de apriete de manera muy blanda.

15. Dispositivo de galvanización según la reivindicación 13 o 14, caracterizado por el hecho de que el dispositivo de alojamiento (11) según una de las reivindicaciones 1 a 12 sobresale hacia arriba con una sección angular (16, 17) lateral fuera del plano de los substratos (26) y se extiende hacia un medio de contacto eléctrico (42), preferiblemente con otro repliegue horizontal intermedio, presentando particularmente el medio de contacto eléctrico rodillos de contacto adyacentes.

16. Dispositivo de galvanización según una de las reivindicaciones 13 a 15, caracterizado por el hecho de que este nivel de altura del medio de tratamiento alcanza justo el lado inferior de los substratos (26) situados en el dispositivo de alojamiento (11).

17. Dispositivo de galvanización según la reivindicación 13 o 14, caracterizado por el hecho de que en la parte superior del dispositivo de alojamiento (11), particularmente entre los rodillos de apriete (36), están dispuestos varios medios de contacto, preferiblemente como rodillos de contacto giratorios, comprendiendo los medios de contacto un contacto eléctrico con los substratos (26).

18. Dispositivo de galvanización según la reivindicación 17, caracterizado por el hecho de que los medios de contacto son adyacentes a los brazos del bastidor (12, 14) que se extienden en dirección de transporte, preferiblemente al menos un medio de contacto sobre cada uno de los brazos del bastidor que se extienden en dirección de transporte, siendo particularmente estos brazos del bastidor más altos que el nivel de los substratos (26) situados en el dispositivo de alojamiento (11).

19. Dispositivo de galvanización según la reivindicación 18, caracterizado por el hecho de que a partir de los brazos del bastidor, a los cuales los medios de contacto son adyacentes, hasta los substratos (26) situados en el interior de aquellos, se extienden unos puentes de contacto eléctricos, desviándose preferiblemente en forma de estribo de los brazos del bastidor de ambos lados hacia los substratos, descansando particularmente los substratos sobre los extremos de los puentes de contacto.

20. Dispositivo de galvanización según una de las reivindicaciones 17 a 19, caracterizado por el hecho de que está previsto respectivamente un rodillo de contacto entre un par de rodillos de apriete (36), preferiblemente sobre el mismo eje.

21. Dispositivo de galvanización según una de las reivindicaciones 17 a 20, caracterizado por el hecho de que los medios de contacto, preferiblemente los rodillos de contacto, están configurados de manera flexible o elástica, particularmente con superficies de contacto salientes de manera elásticamente a partir de una parte central fija.


 

Patentes similares o relacionadas:

Instalación y método de tratamiento superficial localizado para piezas industriales, del 8 de Julio de 2020, de Cockerill Maintenance & Ingéniérie S.A: Estación de tratamiento superficial localizado de una pieza industrial a tratar, que comprende: - al menos una cámara de tratamiento […]

Dispositivo para evitar el acceso y deposición de elementos químicos en el interior de una pieza de plástico a consecuencia del proceso de electrodeposición de metal durante un baño electrolítico., del 27 de Febrero de 2020, de CAYO HUESO S.L: 1. Dispositivo que comprende una superficie exterior adaptada a la geometría interior de la pieza a tratar y una zona de sujeción, para el aislamiento selectivo de la superficie […]

Sistema de galvanoplastia de producción portátil y modular, del 26 de Febrero de 2020, de SNAP-ON INCORPORATED: Un sistema de galvanoplastia para revestir objetos, que comprende un armazón ; un tanque de revestimiento dispuesto en el armazón ; una bastidor […]

CELDA ELECTROLÍTICA DE MONO CÁMARA Y APARATO A PRESIÓN HORIZONTAL SELLADO PARA ELECTRO DEPOSITAR METAL DESDE SOLUCIONES ELECTROLÍTICAS, del 21 de Noviembre de 2019, de TRANSDUCTO S.A: Celda electrolítica de mono cámara para electro depositar metal desde soluciones electrolíticas, que comprende: - una placa de electrodo negativo y una placa de […]

Célula de electrodiálisis de dos cámaras con membrana intercambiadora de aniones y de cationes para su uso como ánodo en electrolitos de cinc y aleación de cinc alcalinos con el fin de la precipitación de metales en instalaciones galvánicas, del 7 de Agosto de 2019, de Coventya International GmbH: Instalación galvánica con una célula de electrodiálisis de dos cámaras como ánodo en un electrolito de cinc y aleación de cinc alcalino, en […]

Electrodeposición de componente de turbina interna, del 19 de Junio de 2019, de HOWMET CORPORATION: Un método para la electrodeposición de un área superficial de una cavidad de enfriamiento presente en un componente aerodinámico de motor de turbina […]

Procedimiento electroquímico para la recuperación de valores de hierro metálico y ácido sulfúrico a partir de desechos de sulfatos ricos en hierro, residuos de minería y licores decapantes, del 14 de Mayo de 2019, de Electrochem Technologies & Materials Inc: Procedimiento electroquímico para la recuperación de hierro metálico o una aleación rica en hierro, oxígeno y ácido sulfúrico a partir de […]

Deshidratación de alcoholes con un silicato cristalino con una baja proporción de Si/Al, del 22 de Marzo de 2019, de TOTAL RESEARCH & TECHNOLOGY FELUY: Procedimiento de deshidratación de un alcohol que tiene al menos 2 átomos de carbono para la fabricación de la correspondiente olefina, que comprende: la introducción en un […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .