COMPOSICIÓN DE RESINA FOTOSENSIBLE.

Una composición fotosensible que comprende,

(A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo de ácido carboxílico en la molécula y tiene un peso molecular de 200000 o menos;

(B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I

R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado;

R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado;

R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C8 lineal o ramificado; y

(C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico.

Composición de resina fotosensible La invención es pertinente a composiciones fotosensibles que pueden ser desarrolladas por una solución alcalina, que comprenden compuestos a-aminoalquilfenona seleccionados como fotoiniciadores.

A partir de la US 5077402 se sabe que las a-aminoalquilfenonas son fotoiniciadores. En la JP 2678684 B2 = JP 04164901 A se divulgan composiciones resistentes de filtro de color que comprenden el compuesto 2-bencil-2dimetilamino-1- (4-morfolinofenil) butano-1-ona como fotoiniciador. En la WO 98/00759 A1 y WO 0068740 A1 se divulgan composiciones resistentes soldadoras desarrollables por álcalis que comprenden el fotoiniciador. Las composiciones desarrollables por álcalis similares para la manufactura de paneles de pantallas de plasma se divulgan en JP 11306964 A 2, JP 1149862 A2, JP 11072909 A2 y JP 11065102 A2.

En la tecnología de fotopolimerización existe aún una necesidad de composiciones adecuadas en particular como formulaciones para imágenes que sean altamente reactivas, desarrollables por álcalis, fáciles de manejar, exhiban buena capacidad de desarrollo y satisfagan los altos requerimientos de la industria que busca propiedades como, por ejemplo, estabilidad térmica, y estabilidad al almacenamiento.

Sorprendentemente se ha encontrado que las composiciones fotosensibles que comprenden

(A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo ácido carboxílico en la molécula y que tiene un peso molecular de 200.000 o menos;

(B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I

R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado;

R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado;

R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C6 lineal o ramificado; y (C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico, exhibe inesperadamente un buen rendimiento.

El componente (A) en la composición de acuerdo con la invención es un oligoméro o polímero, que contiene al menos un grupo ácido carboxílico libre en la molécula y que tiene un peso molecular de 200000 o menos de 200000. Ejemplos de componentes (A) adecuados son polímeros que tienen un peso molecular de aproximadamente 2000 a 200000, 30 preferiblemente 2000 a 150000, 2000 a 100000 o 5000 a 100000 (aglomerantes) . Ejemplos de aglomerantes que se pueden desarrollar con álcali son polímeros acrílicos que tienen una función ácido carboxílico como grupo suspendido, tal como copolimeros convencionalmente conocidos obtenidos por copolimerización de un ácido carboxílico etilénico insaturado tal como ácido (met) acrílico, ácido 2-carboxietil (met) acrílico, ácido 2-carboxipropil (met) acrílico, ácido itacónico, ácido crotónico, ácido maleico, ácido maleico monometil éster, ácido maleico monoetil éster, ácido maleico 35 monopropil éster, ácido maleico monobutil éster, ácido maleico monobencil éster, ácido maleico mono (2-etilhexil) ester, ácido maleico monohidroxietil éster, ácido maleico monohidroxipropilácido fumárico, ácido fumárico monometil éster, ácido fumárico monoetil éster, ácido fumárico monopropil éster, ácido fumárico monobutil éster, ácido fumárico monobencil éster, ácido fumárico mono (2-etilhexil) ester, ácido fumárico monohidroxietil éster, ácido fumárico monohidroxipropilo, y w-carboxipolicaprolactona mono (met) acrilato con uno o más monómeros seleccionados de 40 ésteres de ácido (met) acrílico, tales como metil (met) acrilato, etil (met) acrilato, propil (met) acrilato, butil (met) acrilato, bencil (met) acrilato, 2-etilhexil (met) acrilato, hidroxietil (met) acrilato, hidroxipropil (met) acrilato, glicerol mono (met) acrilato, triciclo[5.2.1.02, 6]decan-8-il (met) acrilato, glicidil (met) acrilato, 2-metilglicidil (met) acrilato, 3, 4

epoxibutil (met) acrilato, y 6, 7-epoxiheptil (met) acrilato; ésteres de ácido maleico y ácido fumárico, tales como ácido maleico dimetil éster, ácido maleico dietil éster, ácido maleico dipropil éster, ácido maleico dibutil éster, ácido maleico 45 dibencil éster, ácido maleico di (2-etilhexil) ester, ácido maleico dihidroxietil éster, ácido maleico dihidroxipropilo, ácido fumárico dimetil éster, ácido fumárico dietil éster, ácido fumárico dipropil éster, ácido fumárico dibutil éster, ácido fumárico dibencil éster, ácido fumárico di (2-etilhexil) ester, ácido fumárico dihidroxietil éster, y ácido fumárico dihidroxipropil; compuestos aromáticos de vinilo, tales como estireno, a-metilestireno, viniltolueno, p-cloroestireno, vinil bencil glicidil éter; compuestos insaturados tipo amida, (met) acrilamida, diacetona acrilamida, N-metilolacrilamida, N50 butoximetacrilamida; y compuestos tipo poliolefina, tales como butadieno, isopreno, cloropreno mono-2

[ (met) acriloiloxy]etil succinato, N-fenilmaleimida, anhídrido maleico; metacrilonitrilo, metil isopropenil cetona, vinil acetato, vinil propionato, vinil pivalato, poliestireno macromonómero, o polimetil (met) acrilato macromonómero. Ejemplos de copolimeros son copolimeros de acrilatos y metacrilatos con ácido acrílico o ácido metacrílico y con estireno o estireno substituido, resinas fenólicas, por ejemplo novolak, (poli) hidroxiestireno, y copolimeros de hidroxiestireno con acrilatos de alquilo, ácido acrílico y/o ácido metacrílico. Ejemplos preferidos de copolimeros son copolimeros de ácido metil metacrilato/ácido metacrílico, copolímeros de bencil etacrilato/ácido metacrílico, copolímeros de metil 5 metacrilato/etil acrilato/ácido metacrílico, copolímeros de bencil metacrilato/ácido metacrílico/estireno, copolímeros de bencil metacrilato/ácido metacrílico/hidroxietil metacrilato, copolímeros de metil metacrilato/butil metacrilato/ácido metacrílico/estireno, copolímeros de metil metacrilato/bencil metacrilato/ácido metacrílico/hidroxifenil metacrilato, copolímeros de ácido metacrílico/estireno/bencil metacrilato/glicerol monometacrilato/Nfenilmaleimida, copolímeros de ácido metacrílico/w-carboxipolicaprolactona monoacrilato/estireno/- bencil/ metacrilato/glicerol monometacrilato/N

fenilmaleimida.

La resina de aglomeración de poliimida en la presente invención puede ser un precursor de poliimida, por ejemplo un compuesto poli (éster de ácido ámico) , que tiene opcionalmente grupos laterales fotopolimerizables bien sea unidos al esqueleto o a los grupos éster en la molécula, o puede ser, por ejemplo, un poli (ácido ámico) al cual se agrega en solución preferiblemente un acrilato o metacrilato que tiene al menos un grupo básico en su molécula, por ejemplo, un amino acrilato o un amino metacrilato.

Ejemplos adicionales del compuesto (A) son oligómeros o polímeros obtenidos por reacción de un anhídrido de ácido polibásico saturado o insaturado con un producto de la reacción de un compuesto epoxi y un ácido monocarboxílico insaturado. Como compuestos epoxi que son empleados para la preparación los más interesantes son epoxis tipo novolak y epoxis tipo bisfenol.

La resina curable antes mencionada por un rayo de energía activado se obtiene haciendo que un producto de reacción de un compuesto epoxi tipo novolak (como se describe más adelante) y un ácido monocarboxílico insaturado reaccionen con un anhídrido de ácido dibásico tal como un anhídrido ftálico o un anhídrido de ácido policarboxílico aromático tal como anhídrido de ácido trimelítico o anhídrido de ácido piromelítico. En este caso, la resina se muestra particularmente adecuada cuando, en la producción de la misma, la cantidad del anhídrido de ácido antes mencionado utilizada para la reacción excede 0.15 moles por cada uno de los grupos hidroxilo poseídos por el producto de reacción del compuesto de epoxi tipo novolak y el ácido carboxílico insaturado.

El valor de ácido (el valor de ácido se expresa por el número de miligramos de hidróxido de potasio necesario para neutralizar un gramo de resina) de la resina así obtenida cae adecuadamente en el rango de 45 a 160 mg de KOH/g, preferiblemente 50 a 140 mg de KOH/g.

Cuando el número de enlaces etilenicamente insaturados presentes en la unidad molecular de la resina curable por el rayo de energía activado es pequeño, la fotodeposición procede lentamente y es deseable utilizar un compuesto epoxi tipo novolak como materia prima.

Los compuestos epoxi tipo novolak son representados por resinas epoxi tipo novolak fenólicas y resina epoxi tipo novolak cresólicas. Los compuestos se producen haciendo que la epiclorohidrina reacciones con una resina de novolak

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1. Una composición fotosensible que comprende,

(A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo de ácido carboxílico en la molécula y tiene un peso molecular de 200000 o menos;

(B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I

R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado;

R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado;

R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C8 lineal o ramificado; y (C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico.

2. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, donde los compuestos de la fórmula I

R1 es alquiloC1-C4 lineal o ramificado, R2 es metilo, etilo o propilo, en particular etilo, y R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C4 lineal o ramificado, en particular metilo.

3. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, donde el compuesto de fórmula I es, 1-[4morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4-metilbencil) -butano-1-ona, 1-[4-morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4-etilbencil) -butano1-ona, 1-[4-morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4-isopropilbencil) -butano-1-ona, 1-[4-morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4-npropilbencil) -butano-1-ona, 1-[4-morfolinofenil]-2-dimetilamino-2-[4- (2-metil- prop-1-il) -bencil]-butano-1-ona, 1-[4

morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4-n-butilbencil) butano-1-ona, in particular 1-[4-morfolinofenil]-2-dimetilamino-2- (4metilbencil) -butano-1-ona.

4. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, donde el componente (A) tiene un peso molecular de 2000-150000

5. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1 comprendiendo adicionalmente a los componentes

(A) , (B) y (C) al menos un compuesto fotosensibilizador (E) , en particular un compuesto seleccionado del grupo consistente de benzofenona y sus derivados, tioxantona y sus derivados, antraquinona y sus derivados, o cumarina y sus derivados.

6. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1 comprendiendo adicionalmente a los componentes (A) , (B) y (C) al menos un compuesto que tenga grupos epoxi y un componente de termodeposición (F) , y 30 preferiblemente un promotor de curado de epoxi (G2) .

7. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1 comprendiendo adicionalmente a los componentes (A) , (B) y (C) al menos un compuesto absorbente de UV o estabilizador a la luz (G3) .

8. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, comprendiendo adicionalmente aditivos (G) , que se seleccionan del grupo consistente de agentes de relleno inorgánicos, colorantes, dispersantes, inhibidores de la

polimerización térmica, espesantes, agentes antiespumantes y agentes de elevación, en particular agentes de relleno inorgánicos.

9. Una composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, que comprende de 0.15 a 100 partes en peso, preferiblemente de 0.03 a 80 partes en peso, con base en 100 partes en peso del componente (A) , del fotoiniciador (B) .

10. Un proceso para la fotopolimerización de compuestos que contienen dobles enlaces etilenicamente insaturados, el

cual comprende irradiar una composición de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 - 9 con radiación electromagnética en el rango de 190 a 600 nm, o con un haz de electrones o con rayos X.

11. Substrato recubierto el cual es recubierto en al menos una superficie con una composición de acuerdo con la reivindicación 1.

12. Proceso para la producción fotográfica de imágenes en relieve, en el cual un substrato recubierto de acuerdo con la

45 reivindicación 11 se somete a una exposición similar a imágenes y luego las porciones no expuestas se eliminan con un desarrollador.

13. Un fotorresistente que comprende una composición de acuerdo con la reivindicación 1.

14. Un protector de filtro de color que comprende una composición de acuerdo con la reivindicación 1.

15. Un filtro de color preparado proveyendo elementos de imagen rojo, verde y azul y una matriz negra, obtenibles todos utilizando la composición fotosensible de acuerdo con la reivindicación 1, la cual comprende adicionalmente un pigmento, sobre un substrato transparente y proveyendo un electrodo transparente bien sea sobre la superficie del sustrato o sobre la superficie de la capa de filtro de color.