APARATO Y PROCEDIMIENTO PARA EL TRATAMIENTO CON PLASMA EN EL CUAL SE INDUCE UN CAMPO ELECTRICO UNIFORME A TRAVES DE UNA VENTANA DIELECTRICA.

UN APARATO PARA GRABAR CON PLASMA O PARA UNA DEPOSICION DE PLASMA QUE INCLUYE UN RECEPTACULO

(10) QUE TIENE UNA CAMARA (12) EN LA QUE SE PUEDE TRATAR UNA PLAQUITA (W) CON PLASMA. EL RECEPTACULO INCLUYE AL MENOS UN ORIFICIO DE ENTRADA CONECTADO AL INTERIOR DE LA CAMARA (19) A TRAVES DEL CUAL SE PUEDE SUMINISTRAR EL GAS DE PROCESO A LA CAMARA. HAY UNA FUENTE DE ENERGIA RADIOELECTRICA (30) DISPUESTA PARA HACER PASAR UNA ENERGIA RADIOELECTRICA A LA CAMARA Y PARA INDUCIR EL PLASMA QUE SE ENCUENTRA EN EL INTERIOR DE LA CAMARA A BASE DE ACTIVAR, CON UN CAMPO ELECTRICO INDUCIDO POR LA FUENTE DE ENERGIA RADIOELECTRICA, EL GAS DE PROCESO SUMINISTRADO A LA CAMARA A TRAVES DEL ORIFICIO DE ENTRADA. HAY UNA VENTANA DIELECTRICA (18) EN DONDE UNA SUPERFICIE INTERIOR DE LA MISMA FORMA PARTE DE UNA PARED INTERIOR DE LA CAMARA. EL ENERGIA RADIOELECTRICA PASA DE LA FUENTE DE ENERGIA RADIOELECTRICA AL INTERIOR DE LA CAMARA A TRAVES DE LA VENTANA DIELECTRICA. LA VENTANA DIELECTRICA TIENE UN GROSOR QUE VARIA EN DIFERENTES PUNTOS A LO LARGO DE LA SUPERFICIE INTERIOR DE LA MISMA DE TAL MODO QUE EL GROSOR ES MAYOR EN LA PORCION CENTRAL DE LA VENTANA DIELECTRICA. LA VENTANA DIELECTRICA ES EFECTIVA PARA REDUCIR EL CAMPO ELECTRICO INDUCIDO EN EL INTERIOR DE LA CAMARA QUE SE ENCUENTRA CERCA DE LA PORCION CENTRAL DE LA VENTANA DIELECTRICA.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: LAM RESEARCH CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 4650 CUSHING PARKWAY,FREMONT, CA 94538-6401.

Inventor/es: .

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 13 de Mayo de 1993.

Fecha Concesión Europea: 20 de Agosto de 1997.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA... > Tubos de descarga provistos de medios o de un material... > H01J37/32 (Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO... > REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO... > Revestimiento químico por descomposición de compuestos... > C23C16/50 (por medio de descargas eléctricas)
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS... > Procedimientos o aparatos especialmente adaptados... > H01L21/306 (Tratamiento químico o eléctrico, p. ej. grabación electrolítica (para formar capas aislantes H01L 21/31; postratamiento de capas aislantes H01L 21/3105))

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Mónaco, Irlanda, Oficina Europea de Patentes, Japón, República de Corea.

google+ twitter facebook