ADITIVOS PARA SOLUCIONES DE GRABADO DE COBRE.

SE PRESENTAN ADITIVOS PARA SOLUCIONES DECAPANTES DE COBRE (18) PARA SU USO CON UN BAÑO DECAPANTE DE CLORURO CUPRICO AMONIACAL ALCALINO ACUOSO (12) QUE INCLUYE VARIOS COMPUESTOS,

CADA UNO DE LOS CUALES HA DEMOSTRADO ESTABILIZAR EL ESTADO DEL COBRE (I). LOS COMPUESTOS DESCUBIERTOS POR LA INVENCION INCLUYEN IONES DE IODO, TALES COMO EL IODURO DE POTASIO, EL IODURO DE AMONIO, EL IODURO DE SODIO, EL IODURO DE CALCIO Y EL IODURO DE MAGNESIO. OTROS ESTABILIZADORES DEL COBRE (I) DESCUBIERTOS POR LA INVENCION INCLUYEN CIERTAS SALES SOLUBLES EN AGUA QUE CONTIENEN AZUFRE, TALES COMO UN ION DE TIOCIANATO (POR EJEMPLO TIOCIANATO DE AMONIO, TIOCIANATO DE POTASIO, TIOCIANATO DE SODIO, TIOCIANATO DE MAGNESIO Y TIOCIANATO DE CALCIO) Y UN ION DE TIOSULFATO (POR EJEMPLO TIOSULFATO DE AMONIO, TIOSULFATO DE POTASIO, TIOSULFATO DE SODIO, TIOSULFATO DE MAGNESIO Y TIOSULFATO DE CALCIO). SE HAN ESTUDIADO LAS VELOCIDADES DE DECAPADO PARA EL CLORURO CUPRICO AMONIACAL ALCALINO CON DIFERENTES CONCENTRACIONES DE IODURO DE POTASIO, TIOCIANATO DE AMONIO Y TIOSULFATO DE SODIO. LOS RESULTADOS DE LOS EXPERIMENTOS CONTROLADOS REVELARON QUE LAS CONCENTRACIONES DE ADICION DE HASTA APROXIMADAMENTE 1200 MG/L DE CUALQUIERA DE ESTOS COMPUESTOS AL DECAPANTE DE CLORURO CUPRICO AMONIACAL ALCALINO DIERON COMO RESULTADO ENTRE UN 20% Y UN 130% DE INCREMENTO EN LA VELOCIDAD DE DECAPADO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: PHIBRO TECH, INC.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: ONE PARKER PLAZA,FORT LEE, NJ 07024.

Inventor/es: RICHARDSON, HUGH WAYNE, JORDAN, CHARLES F.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 8 de Septiembre de 1994.

Fecha Concesión Europea: 5 de Abril de 2000.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C23F1/34 QUIMICA; METALURGIA.C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23F LEVANTAMIENTO NO MECANICO DE MATERIAL METALICO DE LAS SUPERFICIES (trabajo del metal por electroerosión B23H; despulido por calentamiento a la llama B23K 7/00; trabajo del metal por láser B23K 26/00 ); MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS; MEDIOS PARA IMPEDIR LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL (tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F ); PROCESOS EN MULTIPLES ETAPAS PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE MATERIALES METALICOS UTILIZANDO AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO POR LA CLASE C23 Y AL MENOS UN PROCESO CUBIERTO BIEN POR LA SUBCLASE C21D   BIEN POR LA SUBCLASE C22F O POR LA CLASE C25. › C23F 1/00 Decapado de materiales metálicos por medios químicos. › para el cobre o sus aleaciones.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Irlanda, Finlandia, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Armenia, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Bielorusia, Canadá, China, República Checa, Georgia, Hungría, Japón, Kenya, Kirguistán, República de Corea, Kazajstán, Sri Lanka, República del Moldova, Madagascar, Malawi, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, República Popular Democrática de Corea, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual.

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