6 inventos, patentes y modelos de WELCH, CLETUS, N.
COMPOSICIONES FOTOCROMICAS POLIMERIZABLES.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(01/07/2008). Ver ilustración. Solicitante/s: TRANSITIONS OPTICAL, INC.. Clasificación: G02B5/23, C08G18/81, G02B1/04, C03C17/32, G02B1/10, C09K9/02, C08F2/44, C09D4/06, C08G64/02, C08G18/44.
Una composición polimerizable que comprende: (c) un producto de reacción de un poliol que comprende como mínimo un grupo carbonato y un isocianato que comprende un grupo isocianato reactivo y como mínimo un doble enlace polimerizable, y (d) una cantidad fotocrómica de como mínimo un compuesto fotocrómico.
COMPOSICIONES DE RECUBRIMIENTO DE RESINA DE AMINOPLASTO FOTOCROMICOS Y ARTICULOS FOTOCROMICOS.
(16/10/2006) Un artículo que comprende, en combinación, un sustrato y compuesto(s) fotocrómico(s) que contiene(n) recubrimiento de resina de aminoplasto curado sobre al menos una de las superficies de dicho sustrato, preparándose dicho recubrimiento de resina de aminoplasto fotocrómico a partir de una composición que comprende: (a) un producto de reacción de: (i) un componente(s) que tiene(n) al menos 2 grupos hidroxilo; y (ii) una resina de aminoplasto que tiene al menos dos grupos que son reactivos con dichos grupos hidroxilo; y (b) compuesto(s) fotocrómico(s) preparándose dicho recubrimiento de aminoplasto fotocrómico mezclando todos los ingredientes mencionados, utilizándose dichos componentes (a)(i), (a)(ii) y (b) en proporciones suficientes para producir,…
COMPOSICION DE REVESTIMIENTO FOTOCROMICA EN UNA RESINA AMINOPLASTICA Y SUBSTANCIAS FOTOCROMICAS.
(16/10/2006) Un artículo consistente, en combinación, en un substrato y un revestimiento de resina aminoplástica curada que contiene compuesto(s) fotocrómico(s) sobre al menos una superficie de dicho substrato, siendo preparado dicho revestimiento de resina aminoplástica fotocrómica a partir de una composición de revestimiento consistente en: (a) un producto de reacción de componente(s) que tiene(n) grupos reactivos con agentes entrecruzantes aminoplásticos seleccionados entre: (A) hidroxilo; (B) carbamato, y (b) una cantidad fotocrómica de compuesto(s) fotocrómico(s), siendo usados dichos componentes en proporciones tales que produzcan un revestimiento curado que exhiba una microdureza de Fischer de al menos 45 a no más de 180 Newtons por mm2 y propiedades fotocrómicas…
COMPOSICION DE REVESTIMIENTO DE RESINA EPOXI FOTOCROMICA.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(01/06/2006). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Clasificación: G02B5/23, C09D163/00, C09D133/06, G02B1/10, C09K9/02.
Un artículo consistente, en combinación, en un substrato y un revestimiento de resina epoxi curada poliácida fotocrómica sobre al menos una superficie de dicho substrato, teniendo dicho revestimiento de resina epoxi fotocrómica una microdureza de Fischer de 50 a 150 Newtons por mm2, medida con un Fischerscope® H-100 usando una carga de 100 miliNewtons, 30 etapas de carga y pausas de 0, 5 segundos, y exhibiendo un DDO de al menos 0, 15 después de 30 segundos y de al menos 0, 50 después de 15 minutos y una velocidad de blanqueamiento de menos de 200 segundos - todo ello medido en la Prueba de Rendimiento Fotocrómico a 72ºF.
ARTICULOS DE TIENEN UN RECUBRIMIENTO POLIMERICO FOTOCROMICO.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(01/12/2005). Solicitante/s: TRANSITIONS OPTICAL, INC.. Clasificación: G02B5/23, C09D5/00, G02B1/04, G02B1/10, C09K9/02.
Un artículo fotocrómico que comprende un sustrato y al menos un recubrimiento parcial de una composición polimerizable al menos parcialmente curada que comprende (a) al menos un material que comprende al menos un grupo carbonato y al menos un grupo hidroxilo y al menos un material que contiene monoisocianato que tiene al menos un grupo insaturado; y (b) una cantidad fotocrómica de al menos un compuesto fotocrómico.
COMPOSICIONES FOTOCROMATICAS CON RESISTENCIA A LA FATIGA, MEJORADA.
Sección de la CIP Física
(16/05/2000). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Clasificación: G02B5/23, G03C1/685.
ARTICULOS OPTICOS FOTOCROMATICOS CON UNA RESISTENCIA MEJORADA A LA FATIGA LUMINOSA QUE SE OBTIENEN MEDIANTE EL USO DE UNA COMBINACION DE UN ESTABILIZADOR DE LA LUZ DE AMINA TRABADA Y UN ESTABILIZADOR DE LA LUZ DE DIARILOXALAMIDA ASIMETRICA CON UNA MEZCLA DE UN MATERIAL FOTOCROMATICO QUE TIENE UNA TRANSMISION LUMINOSA MINIMA EN LA GAMA DE 560 A 630 NANOMETROS Y UN MATERIAL FOTOCROMATICO QUE TIENE UNA TRANSMISION LUMINOSA MINIMA EN LA GAMA DE 430 A 520 NANOMETROS.
