14 inventos, patentes y modelos de Van Stralen,Mattheus Jacobus Nicolaas

Procedimiento para la preparación de una preforma primaria mediante grabado y colapso de un tuno depositado.

(29/01/2019) Procedimiento para preparar una preforma primaria para una fibra óptica grabando y colapsando un tubo depositado, siendo dicho tubo depositado un tubo que comprende o está hecho de capas de sílice vitrificada, en donde al menos algunas de las capas de sílice vitrificada comprende 5 en un dopante, comprendiendo dicho procedimiento las etapas de: * montar un tubo depositado en un torno e introducir el tubo depositado en una abertura central de un horno montado alrededor del torno en que el horno y el tubo depositado son móviles entre sí en dirección axial; * crear dentro del horno una zona caliente que se desplaza en vaivén sobre la longitud del tubo depositado durante uno o más ciclos en el que: - se graba, al menos parte del exterior del tubo depositado, durante…

Procedimiento y dispositivo para la fabricación de una preforma óptica mediante un proceso interno de deposición de vapor, así como el correspondiente conjunto formado por un tubo de sustrato.

(13/09/2017) Dispositivo para la fabricación de una preforma óptica mediante un proceso interno de deposición de vapor, comprendiendo dicho dispositivo una fuente de energía y un tubo hueco de sustrato, teniendo dicho tubo hueco de sustrato un lado de entrada y un lado de salida, pudiendo desplazarse la fuente de energía a lo largo de una longitud del tubo hueco de sustrato, comprendiendo adicionalmente el dispositivo un tubo de elongación conectado, de una forma sustancialmente hermética, al tubo hueco de sustrato en el lado de salida del mismo, donde el tubo hueco de sustrato se extiende hacia el interior del tubo de elongación,…

Procedimiento para la fabricación de una preforma óptica.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(21/12/2016). Solicitante/s: DRAKA COMTEQ B.V.. Clasificación: C03B37/018, C03B37/012, C03B37/07.

Procedimiento para la fabricación de una preforma óptica que comprende las etapas de: - proporcionar un tubo de substrato que tiene capas de vidrio depositadas en su superficie interior; - aumentar un diámetro exterior del tubo de substrato mediante la aplicación de una fuente de calentamiento desplazándose para calentar el tubo de substrato por encima de su temperatura de reblandecimiento y proporcionando una presión interna en el tubo de substrato más alta que una presión ambiente, seguido por la etapa de: - colapsar el tubo de substrato , que tiene un diámetro exterior aumentado, mediante la aplicación de la fuente de calentamiento que se desplaza para calentar el tubo de substrato por encima de su temperatura de reblandecimiento de manera que se fabrica una preforma óptica.

PDF original: ES-2616286_T3.pdf

Proceso para deposición asistida por plasma con eliminación del tubo de substrato.

(11/05/2016) Procedimiento para fabricar un precursor para una preforma primaria para fibras ópticas por medio de un proceso de deposición de plasma interno, cuyo procedimiento comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de substrato hueco; ii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una primera zona de reacción de plasma que tiene primeras condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para efectuar la deposición de capas de sílice sin vitrificar sobre la superficie interna de dicho tubo de substrato hueco, y posteriormente; iii) crear en el interior de dicho tubo de substrato hueco una segunda zona de reacción de plasma que tiene segundas condiciones de reacción por medio de radiación electromagnética para…

Preforma primaria para fibras ópticas y procedimiento para su fabricación.

(04/05/2016) Procedimiento para fabricar una preforma primaria para una fibra óptica, utilizando un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma interna, en el que precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar se suministran al interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco, una zona reactiva en forma de un plasma se desplaza en vaivén a lo largo de la longitud del tubo de sustrato de vidrio hueco mencionado anteriormente entre un punto de inversión próximo al lado de suministro y un punto de inversión próximo al lado de descarga del tubo de substrato hueco, en el que el tubo de sustrato se coloca en un horno y en el en la zona reactiva…

Preforma primaria para fibras ópticas de vidrio y procedimiento para su fabricación.

(27/04/2016) Procedimiento para fabricar una preforma primaria para una fibra óptica, utilizando un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma interna, en el que precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar se suministran al interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco, una zona de reacción en forma de un plasma se desplaza en vaivén y adelante y atrás a lo largo de la longitud del tubo de sustrato de vidrio hueco mencionado anteriormente entre un punto de inversión próximo al lado de alimentación y un punto de inversión próximo al lado de descarga del tubo de substrato hueco, en el que el tubo de sustrato se coloca en un horno y en el que dichas condiciones se crean en la zona de reacción antes mencionada y uno o más conjuntos de capas de vidrio que se componen de, al menos, dos capas de vidrio separadas…

Procedimiento para activar una superficie interior de un tubo de sustrato hueco para la fabricación de una preforma de fibra óptica.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(27/04/2016). Solicitante/s: DRAKA COMTEQ B.V.. Clasificación: C03B37/018.

Procedimiento para activar una superficie interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco para la fabricación de una preforma de fibra óptica, en el que dicha activación es un tratamiento previo de dicho tubo de sustrato de vidrio hueco antes de comenzar el proceso de deposición, comprendiendo dicho procedimiento las etapas de: i) depositar varias capas de vidrio de activación en dicha superficie interior de dicho tubo de sustrato hueco por medio de un proceso de PCVD; en el que el espesor de las capas de vidrio de activación es de, como mínimo, micrómetros y como máximo 250 micrómetros; ii) eliminar, al menos parcialmente, dichas capas de activación depositadas en la etapa i) por medio de un proceso de grabado químico, en el que las capas de vidrio de activación tal como se depositaron en la etapa i) se eliminan en una cuantía de, al menos, el 30%.

PDF original: ES-2578796_T3.pdf

Proceso de deposición en fase de vapor interna.

(11/06/2014) Procedimiento para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición en fase de vapor interna que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lateral de suministro y un lateral de descarga, ii) rodear al menos parte del tubo de sustrato de vidrio hueco mediante un horno , iii) suministrar un flujo de gas, dopado o sin dopar, de gases de formación de vidrio al interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través del lateral de suministro del mismo, iv) creación de una zona reactiva con condiciones tales que la deposición de vidrio tenga lugar sobre el interior del tubo de vidrio hueco creado, y v) desplazar la zona reactiva…

Procedimiento y dispositivo para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas.

(23/04/2014) Procedimiento para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición interna en fase de vapor, que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lateral de suministro y un lateral de descarga , ii) rodear, al menos, una parte del tubo de sustrato de vidrio hueco mediante un horno , iii) suministrar gases de formación de vidrio en el interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través de su lateral de suministro , iv) crear una zona de reacción con condiciones tales que la deposición de vidrio tenga lugar sobre la superficie interna del tubo de sustrato de vidrio hueco , y v)…

Proceso de deposición en fase de vapor interna.

(24/10/2013) Procedimiento para la fabricación de una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición en fase de vapor interna, que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lado de suministro y un lado de descarga , ii) rodear mediante un horno, al menos, una parte del tubo de sustrato de vidrio hueco , iii) suministrar de gases de formación de vidrio dopados o sin dopar en el interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través del lado de suministro del mismo, iv) crear una zona de reacción en la que son creadas condiciones de tal manera que la deposición de vidrio se llevarán a cabo en el interior del tubo de vidrio hueco y v) desplazar la zona de reacción en vaivén a lo largo de la longitud del tubo de sustrato de vidrio hueco entre un…

Aparato y procedimiento para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PCVD).

(29/08/2012) Aparato para llevar a cabo un proceso de deposición PCVD, donde una o más capa de vidrio dopado o sindopar son depositadas en el interior de un tubo de substrato de vidrio teniendo un lado de admisión y un ladode descarga , cuyo aparato comprende un aplicador que tiene una pared interior y una pared exterior y unaguía de microondas para guiar microondas, cuya guía de microondas se abre en el aplicador , con elaplicador extendiéndose sobre un eje cilíndrico y estando provisto con un canal adyacente a la cara interior,a través del cual las microondas suministradas mediante la guía de microondas pueden salir, sobre cuyo ejecilíndrico se dispone…

Método para fabricar una preforma óptica.

(25/07/2012) Método para fabricar una preforma óptica mediante la realización de una o más reacciones de deposición químicaen fase de vapor en un tubo de substrato, dicho método comprende las etapas siguientes: i) suministrar uno o más precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar al tubo de substrato, y ii) llevar a cabo una reacción entre los reactivos suministrados en la etapa i) en el tubo de substrato a fin de formaruna o más capas de vidrio en el interior del tubo de substrato, cuya etapa ii) comprende la creación únicamente dezona de plasma pulsado en el interior de tubo de substrato, caracterizado porque la zona de plasma formada en el interior del tubo de substrato esta realizada en pulsos,usando una frecuencia >100 Hz, estando activa la potencia máxima del plasma durante un periodo A…

APARATO PARA LLEVAR A CABO UNA DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR POR PLASMA Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACIÓN DE UNA PREFORMA ÓPTICA.

(09/03/2012) Aparato para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor por plasma, mediante la cual se depositan una o más capas de sílice, dopado o sin dopar, en el interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco y alargado, incluyendo dicho aparato un resonador con una cavidad resonante con una forma esencialmente cilíndrica, dispuesta simétricamente alrededor de un eje de cilindro , situándose el tubo de sustrato a lo largo de dicho eje, teniendo dicha cavidad resonante una forma sustancialmente anular, con una pared interior cilíndrica y una pared exterior cilíndrica , incluyendo dicha pared interior cilíndrica una hendidura que se extiende a lo largo de al menos parte de una circunferencia…

HORNO PARA LLEVAR A CABO UN PROCESO DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR POR PLASMA (PCVD) Y MÉTODO ASOCIADO.

(28/12/2011) Horno para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor por plasma (PCVD), caracterizado porque dicho horno está equipado con una carcasa metálica para impedir las fugas de energía de alta frecuencia al entorno, en el que una hendidura del horno a través de la cual se desplaza la guía de ondas está cubierta por dicha carcasa metálica

 

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