15 inventos, patentes y modelos de VALET, ANDREAS
DERIVADOS DE BENZOFENONA POLIOXIALQUILEN SUSTITUIDOS Y PUENTEADOS COMO ABSORBEDORES DE UV.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/10/2003). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08K5/34, C07C49/84, C07D251/24, C07D249/20.
DERIVADOS DE TRIAZINA, BENZOTRIAZOL Y BENZOFENONA SUSTITUIDOS O PUENTEADOS CON GRUPOS POLIOXIALQUILENO, SEGUN LA REIVINDICACION 1, Y SU UTILIZACION COMO ABSORBENTES DEL UV, ESPECIALMENTE EN MATERIALES FOTOGRAFICOS, EN TINTAS, INCLUIDAS LAS TINTAS DE CHORRO DE TINTA Y TINTAS DE IMPRESION, EN IMPRESIONES DE TRANSFERENCIA, EN PINTURAS Y BARNICES, MATERIALES POLIMERICOS ORGANICOS, PLASTICOS, CAUCHO, VIDRIO, MATERIALES DE EMBALAJE, EN PROTECTORES SOLARES DE PREPARACIONES COSMETICAS Y EN COMPOSICIONES DE PROTECCION DE LA PIEL.
BARNIZ DE PROTECCION PARA MADERA.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/01/2003). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07C323/22, C07F7/08, C09D7/12, C07C49/84, C07C45/46, C07C45/71, C07C45/69.
EL OBJETIVO DE LA INVENCION ES UN PROCESO PARA LA PROTECCION DE SUPERFICIES DE MADERA CONTRA DAÑOS DE LA LUZ MEDIANTE TRATAMIENTO CON UNA COMPOSICION DE PINTURA, CONTENIENDO UNA BENZOFENONA DE LA FORMULA I DONDE EL SIGNIFICADO DE LOS SUSTITUYENTES ES IGUAL QUE EN LA SOLICITUD 1.
MEZCLAS DE ESTERES DE ACIDO POLIALQUILPIPERIDIN-4-IL DICARBOXILICO COMO ESTABILIZANTES PARA MATERIALES ORGANICOS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/12/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08K5/3475, C08K5/3435.
Mezclas de esteres de ácido polialquilpiperidin-4-il dicarboxilico como estabilizantes para materiales orgánicos. Una mezcla que contiene dos compuestos diferentes de la fórmula (I) en donde n es un entero de 2 a 22 y R es hidrógeno, alquilo con 1 a 8 átomos de carbono, -O-, -OH, -NO, -CH{sub,2 CN, alcoxi con 1 a 18 átomos de carbono, cicloalcoxi con 5 a 12 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 6 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 6 átomos de carbono, acilo con 1 a 8 átomos de carbono o fenilaquilo con 7 a 9 átomos de carbono sin substituir o substituido en el fenilo por 1, 2 ó 3 grupos alquilo con 1 a 4 átomos de carbono; la proporción en peso de los dos compuestos es 1:20 a 20:1, es útil como estabilizante para materiales orgánicos contra degradación inducida por luz, calor u oxidación.
OXIDOS DE ALQUILFENILBISACILFOSFINA Y MEZCLAS DE FOTOINICIADOR.
(01/04/2000) Oxidos de alquilfenilbisacilfosfina y mezclas de fotoiniciador. Compuestos de la fórmula I en donde R sub,1 es alquilo de 1 a 4 átomos de carbono, R sub,2 es hidrógeno, alquilo de 1 a 4 átomos de carbono, o alcoxi de 1 a 4 átomos de carbono y R sub,3 , R sub,4 , R sub,5 , R sub,6 y R sub,7 , independientemente uno del otro son hidrógeno, halógeno, alquilo de 1 a 20 átomos de carbono, ciclopentilo, ciclohexilo, alquenilo de 2 a 12 átomos de carbono, alquilo de 2 a 18 átomos de carbono, el cual es interrumpido por uno o más átomos de oxígeno, o son fenilalquilo de 1 a 4 átomos de carbono, o son fenilo no substituido o mono, o disubstituido por alquilo de 1 a 4 átomos de carbono y/o alcoxi de 1 a 4 átomos de carbono, con la condición…
MATERIALES RECUBIERTOS ESTABLES CONTRA EL PERJUICIO DE LA LUZ.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/05/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D7/12, C08K5/3492.
2-(2-HIDROXIFENILO)-4 , 6-DIFENILO Y -4, 6-DI-P-TOLILO-1, 3, 5-TRIACINA SON APROPIADOS EN MASAS ESPECIALES COMO ESTABILIZADORES, EN PARTICULAR CONTRA LA DESINTEGRACION DE LA LUZ, PARA MATERIALES RECUBIERTOS. EN ESE SENTIDO SUPERAN LOS CORRESPONDIENTES DERIVADOS DE 4, 6-DI (2, 4-DIMETILFENILO).
COMBINACION ESTABILIZANTE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/07/1998). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C09D7/12, C08L23/00, C08K5/3492.
COMBINACION ESTABILIZANTE PARA MATERIALES ORGANICOS, QUE COMPRENDE UN COMPUESTO DE FORMULA I Y UN COMPUESTO DE FORMULA II, EN DONDE N ES 1 O 2; R1, R'1, R2, R'2, R3 Y R4, INDEPENDIENTEMENTE UNOS DE OTROS, SON H, ALQUILO DE 1 A 12 ATOMOS DE CARBONO; ALQUENILO DE 2 A 6 ATOMOS DE CARBONO; ALCOXI DE 1 A 12 ATOMOS: DE CARBONO, U OTROS RADICALES ESPECIFICAMENTE SEÑALADOS EN LA DESCRIPCION DE LA INVENCION; R6 ES HIDROGENO, ALQUILO DE 1 A 24 ATOMOS DE CARBONO, CICLOALQUILO DE 5 A 12 ATOMOS DE CARBONO O FENILALQUILO DE 7 A 15 ATOMOS DE CARBONO; R7, EN EL CASO EN DONDE N = 1, Y R'7, INDEPENDIENTEMENTE UNO DEL OTRO, SON HIDROGENO O ALQUILO DE 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO, U OTROS RADICALES ESPECIFICAMENTE SEÑALADOS EN LA DESCRIPCION DE LA INVENCION. ESTAS COMBINACIONES ESTABILIZANTES SON APROPIADAS PARA ESTABILIZAR UN MATERIAL ORGANICO CONTRA EL DAÑO POR LA LUZ, EL OXIGENO Y/O EL CALOR.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(01/07/1998). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C07D251/12, C07D251/24, C09D5/32, C09D123/00, G03C1/34.
BIS-RESORCINILTRIAZINAS. LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS DE FORMULA I, EN LA QUE LOS DISTINTOS RADICALES ESTAN CLARAMENTE EXPLICADOS EN LA MEMORIA, REFIRIENDOSE TAMBIEN A LOS MATERIALES ORGANICOS ESTABILIZADOS CON ESTOS COMPUESTOS CONTRA EL DETERIORO PROVOCADO POR LA LUZ, EL CALOR Y EL OXIGENO. SE REFIERE TAMBIEN A LA UTILIZACION DE ESTOS COMPUESTOS COMO ESTABILIZADORES DE MATERIAL ORGANICO. ESTOS COMPUESTOS SE USAN COMO ESTABILIZADORES DE MATERIAL ORGANICO, INCLUYENDO EL MATERIAL DE GRABACION O REGISTRO FOTOGRAFICO.
RECUBRIMIENTOS ESTABILIZADOS CONTRA EL DETERIORO CAUSADO POR LA LUZ, EL CALOR Y EL OXIGENO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/04/1998). Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C07D239/26, C09D7/12, C09K15/30, C08K5/3462, C09D123/00.
RECUBRIMIENTOS ESTABILIZADOS CONTRA EL DETERIORO CAUSADO POR LA LUZ, EL CALOR Y EL OXIGENO. LOS RECUBRIMIENTOS CONTIENEN A) UN LIGANTE A BASE DE UN POLIMERO ORGANICO Y B) COMO ESTABILIZADOR CONTRA EL DETERIORO CAUSADO POR LA LUZ, EL CALOR Y EL OXIGENO, UNA 2-(2'-HIDROXIFENIL)-1 ,3-PIRIMIDINA DE LA FORMULA I EN LA QUE LOS RESTOS R1 A R6 TIENEN LOS SIGNIFICADOS DEFINIDOS EN LA REIVINDICACION 1, PRESENTAN UNA EXTRAORDINARIA ESTABILIDAD CONTRA LOS EFECTOS PERJUDICIALES DE LA LUZ, EL OXIGENO Y EL CALOR. LOS COMPUESTOS DE LA FORMULA IB DEFINIDOS EN LA REIVINDICACION 13 SON INDICADOS EN GENERAL PARA LA ESTABILIZACION DE MATERIAL ORGANICO.
MATERIAL ORGANICO ESTABILIZADO.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/07/1997). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08K5/34, C08K5/3492, C07D251/24.
O-HIDROXIFENILO-S-TRIAZINOS CUYA FORMULA I ES: EN LA QUE N ES 1 A 4 Y R SUB 1 A R SUB 7 SON COMO QUEDAN DEFINIDOS EN EL CORCHETE I, PUEDEN SER UTILIZADAS, COMBINACION CON AMINAS OBSTRUIDAS ESTERICAMENTE DEL TIPO POLIALQUILPIPERIDINA , PARA POLIMEROS ORGANICOS ESTABILIZADORES. ALGUNOS DE ESTOS COMPUESTOS SON NUEVOS Y TAMBIEN PUEDEN SER UTILIZADOS SIN POLIALQUILPIPERIDINA.
2-(2-HIDROXIFENILO)-4 , 6-DIARILO-1, 3, 5-TRIACINA SILILICA.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/04/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C07F7/18, C07F7/08, C09D133/04, C09D7/12, C08G77/26, C08K5/54.
2-(2-HIDROXIFENILO)-4 , 6-DIARILO-1, 3, 5-TRIACINA QUE CONTIENE EN POSICION CUATRO DEL RESTO DE 2-HIDROXIFENILO UN GRUPO SILILO UNIDO A UN NUCLEO DE FENILO SOBRE OXIGENO, ASI COMO PRODUCTOS DE COMPENSACION CUYAS UNIDADES 2-(2-HIDROXIFENILO)-4 , 6-DIARILO-1, 3, 5-TRIACINA VAN EN LA CADENA LATERAL, SON ABSORBEDORES DE ULTRAVIOLETA Y SON APROPIADOS COMO ESTABILIZADORES PARA POLIMEROS ORGANICOS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/03/1996). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C09D7/12.
SE DESCRIBEN RECETAS PARA LACAS QUE, JUNTO A UN PRODUCTO DE ABSORCION DE RADIACIONES ULTRAVIOLETAS DE 2-HIDROXIFENIL-BENZOTRIAZOL CONTIENEN TAMBIEN UN PRODUCTO DE ABSORCION DE RADIACIONES ULTRAVIOLETAS DEL GRUPO DE LAS 2-HIDROXI-FENILTRIACINAS , DE LAS 2-HIDROBENZOFENONAS Y/O DE LAS OXALANILIDAS Y, JUNTO A UNA 2-HIDROXIFENILTRIACINA , TAMBIEN UNA 2-HIDROXIBENZOFENONA Y/O OXALANILIDA.
PROCEDIMIENTO PARA INCORPORAR O-HIDROXIFENIL-S-TRIAZINA EN POLIMEROS ORGANICOS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/11/1995). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L101/00, C08G85/00, C08F2/44, C09D157/04, C09D139/04.
LA INVENCION SE REFIERE A POLIMEROS MODIFICADOS QUE SE EMPLEAN COMO ESTABILIZADORES. PRESENTAN UNA ELEVADA ESTABILIDAD A LA ACCION DEL OXIGENO, LA LUZ Y EL CALOR, SE MODIFICAN A BASE DE LA COPOLIMERIZACION, COPOLICONDENSACION O COPOLIADICCION DE O-HIDROXIFENIL-S-TRIAZINA CON GRUPOS FUNCIONALES ADECUADOS.
PROTECCION DE LA MADERA PINTADA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(01/05/1995). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C09D5/00, C09D7/12, B05D7/06.
UNA MADERA PINTADA CONSTA DE A) UNA PINTURA DE BASE PENETRANTE A LA SUPERFICIE DE LA MADERA, QUE CONTIENE ANTIOXIDANTES FENOLICOS Y B) Y UNA PINTURA DE TECHOS CONVENCIONAL. PREFERIBLEMENTE LA PINTURA DE TECHOS CONTIENE AGENTES QUE PROTEGEN LA LUZ.
MICROPARTICULAS POLIMERIZADAS EN FORMA DE ESTRELLAS ESTABILIZADAS FRENTE A LA LUZ.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/12/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08F293/00, C09D153/00.
SE DESCRIBEN MICROPARTICULAS POLIMERIZADAS EN FORMA DE ESTRELLA ESTABLES A LA LUZ Y METODO DE OBTENCION DE ESTAS. ESTAS MICROPARTICULAS PRESENTAN UNA EXCELENTE FOTOESTABILIDAD Y RESULTAN MUY ADECUADAS COM COMPONENTES EN COMPOSICIONES PARA RECUBRIMIENTO QUEPUEDEN CONVERTIRSE P.E. EN PELICULAS DE BARNIZ DE ALTA FOTOSENSIBILIDAD.
MICROPARTICULAS DE POLIMEROS ESTABLES A LA LUZ QUE CONTIENEN GRUPOS EPOXI.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/10/1994). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C08F291/00, C08F2/44.
SE PRESENTAN MICROPARTICULAS DE POLIMEROS ESTABILIZADAS FRENTE A LA LUZ QUE CONTIENEN AL MENOS UN FOTOPROTECTOR Y GRUPOS EPOXI LIBRES, ASI COMO PROCEDIMIENTOS PARA SU OBTENCION MEDIANTE POLIMERIZACION DE MONOMEROS ADECUADOS. AL MENOS UNO DE ESTOS MONOMEROS ES UN EPOXIDO QUE CONTIENE AL MENOS OTRO GRUPO REACTIVO, Y AL MENOS UNA PARTE DE LA POLIMERIZACION SE EFECTUA EN PRESENCIA DE UN AGENTE FOTOPROTECTOR. LAS MICROPARTICULAS DE POLIMEROS PUEDNEUTILIZARSE EN COMPOSICIONES PARA RECUBRIMIENTOS QUE CONTIENEN UNA FASE DISPERSA, EN LAS QUE SE ENCUENTRAN LAS MICROPARTICULAS Y UNA FASE LIQUIDA CONTINUA. LOS RECUBRIMIENTOS Y BARNICES BASADOS EN LA COMPOSICION DE ESTA INVENCION SE DESTACAN POR UNA EXCELENTE RESISTENCIA A LA INTEMPERIE Y, EN PARTICULAR, POR UNA ALTA ESTABILIDAD FRENTE A LA LUZ.
