8 inventos, patentes y modelos de TAKAYA, TAKAO
COMPUESTOS DE CEFEMA DE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(01/12/1997). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/48.
EL INVENTO SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) Y SU SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE, A LOS PROCESOS DE PREPARACION DEL MISMO, A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE EL MISMO Y A UN METODO PARA PREVENIR Y/O TRATAR LAS ENFERMEDADES INFECCIOSAS EN LOS SERES HUMANOS Y EN LOS ANIMALES. EN LA CITADA FORMULA (I), R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ETILO, PROPILO, CICLO(INFERIOR)ALQUILO , 1-METILPROPENILO O 2-METILPROPENILO, R3 ES HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO O HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO PROTEGIDO Y R4 ES AMINIO O AMINO PROTEGIDO.
NUEVO ACIDO CRISTALINO 7 - (2 - (2 - AMINOTIAZOL - 4 - IL ) - 2 HIDROXIAMINOACETAMIDO) - 3 -VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO ( SYN ISOMERO).
Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida
(01/08/1995). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D501/22, A61K31/545.
ACIDO CRISTALINO 7 - (2 - (2 - AMINOTIAZOL - 4 - IL) - 2 HIDROXIAMINOACETAMIDO) - 3 - VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO (SYN ISOMERO) QUE ES OBTENIDO ACIDULANDO UNA SOLUCION CONTENIENDO ACIDO 7 - (2 - (2 AMINOTIAZOL - 4 - IL) - 2 - HIDROXIAMINOACETAMIDO - 3 - VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO (SYN ISOMERO) A TEMPERATURA AMBIENTE O TEMPLADA. TAL COMPUESTO CRISTALINO MUESTRA UN DIBUJO CARACTERISTICO EN LA DIFRACCION DE LOS RAYOS X. EL INVENTO COMPRENDE TAMBIEN PROCESOS PARA PREPARAR TAL COMPUESTO CRISTALINO Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS CONTENIENDOLO COMO INGREDIENTE ACTIVO.
NUEVOS COMPUESTOS CEFEM PARA SU PREPARACION Y PREPARADOS FARMACEUTICOS QUE LOS CONTIENEN.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/12/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/18, C07D501/46.
LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUETSO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 Y R4 SON CADA UNO UN GRUPO AMINO O AMINO PROTEGIDO; R2 ES UN GRUPO CARBOXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO; R3 ES ALQUILO O HIDROXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO Y R5 ES HIDROGENO O ALQUILO DE CADENA CORTA. TAMBIEN SE REFIERE A UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL COMPUESTO I, A PROCESOS PARA SU PREPARACION Y A PREPARACIONES FARMACEUTICAS QUE LO CONTIENEN COMO INGREDIENTE ACTIVO. ASIMISMO SE DESCRIBEN COMPUESTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II) Y SU PREPARACION.
NUEVOS COMPONENTES CEFEM Y PROCESO PARA LA PREPARACION DE ELLO.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/12/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.
UN COMPONENTE DE LA FORMULA (I) EN DONDE R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO O ALKENIL BAJO, R3 ES ALKIL BAJO, HIDROXI (BAJO) ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO; R4 ES AMINO, AMINO PROTEGIDO, ALKILAMINO BAJO, ALKILAMINO BAJO PROTEGIDO, CARBOXI (BAJO) ALKILAMINO. N - [ALKIL (BAJO) CARBOXI PROTEGIDO] AMINO Y R7 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, Y UNA SAL ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACIVO EN MEZCLAS CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.
NUEVOS COMPUESTOS HETEROCICLICOS QUE CONTIENEN N, PROCESOS PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS Y COMPOSICION QUE LOS CONTIENE.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(01/07/1993). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/44, C07D471/04, A61K31/50, C07D213/30, C07D213/82, C07D213/80, C07D213/26, C07D213/36, C07D237/24, C07D237/08.
UN COMPUESTO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES ALQUILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR HIDROXI, HALOGENO O UN GRUPO HETEROCICLICO, CARBOXI, CARBOXI ESTERIFICADO, CARBAMILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO (INFERIOR) HETEROCICLICO O ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR, CARBONILO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO INFERIOR O UREIDO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR Y R3 ES HIDROGENO O HALOGENO; R2 ES FENILO SUSTITUIDO POR NITRO Y X ES = N O EN QUE R4 ES ALQUILO INFERIOR O HALOALQUILO (INFERIOR) O JUNTOS CON R1 FORMAN UN GRUPO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR OXO O ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR; O R2 ES ALQUILO INFERIOR Y X ES EN QUE R4 ES FENILO SUSTITUIDO POR NITRO; Y UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL MISMO, PROCESOS PARA LA PREPARACION DEL MISMO Y UNA COMPOSICION QUE LO CONTIENE.
PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN COMPUESTO DE CEFEM.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/03/1989). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.
EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULAHACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA:CON UN COMPUESTO DE FORMULAEN DONDE R1 ES UN GRUPO AMINO PROTEGIDO O NO, RY ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO, R3 ES HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE HIDROXI, E Y ES UN GRUPO REEMPLAZABLE PORLLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE TEMPERATURA AMBIENTE A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETONA, CLOROFORMO, DICLOROMETANO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.
PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN COMPUESTO DE CEFEM.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/03/1989). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.
EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULAHACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA:CON UN COMPUESTO DE FORMULAEN DONDE RY ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO Y X ES UN RESIDUO DE ACIDO, LLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE ENFRIAMIENTO A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETATO DE ETILO, DIOXANO, DICLOROMETANO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.
PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UN COMPUESTO DE CEFEM.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/03/1988). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.
EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULA HACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA: CON UN COMPUESTO DE FORMULA EN DONDE R1 ES UN GRUPO AMINO PROTEGIDO O NO, R2 ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO Y R3 ES HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE HIDROXI, LLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE ENFRIAMIENTO A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETONA, DIOXANO, ACETONITRILO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.
