13 inventos, patentes y modelos de STEINMANN, BETTINA
ARTICULOS DE MOLDEO OFTALMICOS.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(16/11/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: NOVARTIS AG NOVARTIS-ERFINDUNGEN VERWALTUNGSGESELLSCHAFT M.B.H.. Clasificación: C08G18/81, G02B1/04, C08G65/32.
LA INVENCION SE REFIERE A MOLDEADOS OFTALMICOS, EN PARTICULAR A LENTES DE CONTACTO, QUE SE PUEDEN OBTENER POR RETICULACION DE UN PREPOLIMERO QUE CORRESPONDE PRACTICAMENTE A LA FORMULA CUYAS VARIABLES SON LAS DEFINIDAS EN LAS REIVINDICACIONES, ESTA RETICULACION SE EFECTUA EN AUSENCIA O EN PRESENCIA DE UN COMONOMERO VINILICO ADICIONAL.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION ESTEREOLITOGRAFICA DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES EMPLEANDO UNA FORMULACION LIQUIDA CURABLE POR RADIACION, QUE CONTIENE MATERIALES DE CARGA.
(01/04/2002) SE ESCRIBE UN PROCESO PARA LA PREPARACION ESTEREOLITOGRAFICA DE UN OBJETO TRIDIMENSIONAL, CARACTERIZADO PORQUE EL OBJETO VA INCORPORADO A UN RECIPIENTE QUE CONTIENE UNA FORMULACION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION, JUNTO CON CARGAS, POR UNA SUCESION ALTERNATIVA Y REPETIDA DE LAS ETAPAS DE PROCESO (A) Y (B), EN LAS QUE EN LA ETAPA (A) SE CURA UNA CAPA DE LA FORMULACION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION, SIENDO UNA LIMITACION PARA ELLO LA SUPERFICIE DE LA FORMULACION, CON EL USO DE UNA RADIACION APROPIADA DENTRO DE UNA ZONA DE LA SUPERFICIE QUE CORRESPONDE A LA SECCION TRANSVERSAL DESEADA DEL OBJETO TRIDIMENSIONAL QUE DEBE FORMARSE A LA ALTURA DE ESTA CAPA, Y EN CUYA ETAPA (B) SE FORMA UNA NUEVA CAPA DE LA FORMULACION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION SOBRE LA CITADA CAPA…
ESTABILIZACION DE COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLES POR RADIACIONES, CONTRA UNA INDESEABLE PREMATURA POLIMERIZACION.
Sección de la CIP Física
(16/12/2001). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: G03F7/004, G03C9/08.
SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA ESTABILIZAR UNA COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE POR RADIACION, CONTENIENDO UN COMPUESTO CATIONICAMENTE POLIMERIZABLE, Y UN FOTOINICIADOR PARA LA POLIMERIZACION CATIONICA, CONTRA UN INICIO TEMPRANO DE LA POLIMERIZACION, HACIENDO ENTRAR EN CONTACTO UN INTERCAMBIADOR BASICO DE IONES CON LA COMPOSICION AL MENOS TEMPORALMENTE. PREFERIBLEMENT EL INTERCAMBIADOR DE IONES NO DEBE ESTAR EN CONTACTO POR LO MENOS CON LA PARTE DE LA COMPOSICION QUE SEA SENSIBLE A LAS RADIACIONES ANTES DEL COMIENZO DEL ENDURECIMIENTO POR RADIACION. EL PROCEDIMIENTO ESTA ESPECIALMENTE INDICADO PARA LA ESTABILIZACION DE BAÑOS DE ESTEREOLITOGRAFIA QUE HAN SIDO MUY UTILIZADOS, PARA EVITAR UN AUMENTO NO DESEADO DE LA VISCOSIDAD.
ARTICULO OFTALMICO MOLDEADO.
(01/11/2001) LA INVENCION SE REFIERE A ARTICULOS OFTALMICOS MOLDEADOS, ESPECIALMENTE LENTES DE CONTACTO, QUE SE PUEDEN OBTENER MEDIANTE RETICULACION DE UN PRECURSOR POLIMERICO QUE ES EL PRODUCTO DE COPOLIMERIZACION DE (A) AL MENOS UN POLIALQUILEN GLICOL DE FORMULA : HO - (CH 2 - CH 2 - O) N (CHY 1 - CHY 2 - O) M - (CHY 3 - CHY 4 -O) SUB ,P - H O (1'): OH - [(CH 2 - CH 2 - CH 2 -CH SUB,2 - O -)] Q - H, (B) AL MENOS UN COMPUESTO POLIHIDROX ILICO SELECCIONADO A PARTIR DEL GRUPO FORMADO POR (I) UN COMPUESTO POLIHIDROXILICO ALIFATICO LINEAL O RAMIFICADO DE FORMULA : R 1 - (OH -) X O UN POLIOL DE POLIETER O UN POLIOL DE POLIESTER DERIVADOS DEL MISMO, Y (II) UN POLIOL CICLOALIFATICO SELECCIONADO A PARTIR DEL GRUPO POLIHIDROXI…
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(01/11/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: NOVARTIS AG. Clasificación: C08G59/14, G02B1/04, C08G59/42, C08G63/676.
LA INVENCION SE REFIERE A PRECURSORES POLIMERICOS RETICULABLES, QUE COMPRENDEN UNIDADES ESTRUCTURALES DE FORMULA , DONDE LAS VARIABLES SE DEFINEN EN LAS REIVINDICACIONES. SE DESCRIBEN ASIMISMO POLIMEROS RETICULADOS, HOMOPOLIMEROS O COPOLIMEROS PREPARADOS A PARTIR DE DICHOS NUEVOS PRECURSORES POLIMERICOS, Y PIEZAS MOLDEADAS PRODUCIDAS A PARTIR DE DICHOS HOMO O COPOLIMEROS Y, ESPECIALMENTE, LENTES DE CONTACTO PRODUCIDAS A PARTIR DE LOS MISMOS.
NUEVOS (MET)ACRILATOS CONTENIENDO GRUPOS URETANO.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(16/12/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07C271/24, C07C271/12, C08J3/28, C07C271/28, G03F7/031, C07D303/16, C07C271/34, C07C271/36, C07C271/38.
LA INVENCION SE REFIERE A NUEVO (MET)ACRILATO QUE CONTIENE GRUPOS URETANO, CONTENIENDO EN UNA Y EN LA MISMA MOLECULA UN GRUPO (MET)ACRILATO Y UN GRUPO URETANO, ASI COMO OTROS GRUPOS POLIMERIZABLES Y PUEDEN POLIMERIZAR, TANTO DE FORMA RADICAL, COMO DE FORMA CATIONICA, SIENDO UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE RECUBRIMIENTOS, AGLOMERANTE, PRODUCTOS FOTORRESISTENTES, MASCARAS DE SOLDADURA BLANDA EN LA ESTEREOLOTOGRAFIA. LOS CUERPOS DE MOLDE ELABORADOS CON ELLO CONTIENEN UNA ESTRUCTURA DE RED HOMOGENEA, DE SUSPENSION CONJUNTA Y MUESTRAN ALTAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA, SOBRE TODO PROPIEDADES MECANICAS.
COMPUESTOS VINILETER CON GRUPOS FUNCIONALES ADICIONALES, DISTINTOS DE VINILETER, Y SU UTILIZACION EN LA FORMULACION DE COMPUESTOS RETICULABLES.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(01/10/2000). Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08F2/48, C07D303/40, C07C271/18, G03C9/08, C07D303/28, C07C271/38, G03F7/028.
LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS CON AL MENOS UN GRUPO ETER VINIL, QUE MUESTRAN AL MENOS UN OTRO GRUPO FUNCIONAL ELEGIDO A PARTIR DE LOS GRUPOS DE ACRILATO, METACRILATO, EPOXI, ALQUENIL, CICLOALQUENIL ASI COMO GRUPOS VINILARIL EN LA MOLECULA, COMPOSICIONES ESPECIALMENTE PARA ESTEREO LITOGRAFIA, CON ESTOS COMPUESTOS DE ETER VINIL Y UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES CON LA AYUDA DE LAS COMPOSICIONES.
COMPOSICION LIQUIDA RETICULABLE POR RADIACION, EN ESPECIAL PARA ESTEREOLITOGRAFIA.
(16/06/2000) COMPOSICION LIQUIDA, ENDURECIBLE POR RADIACION, QUE JUNTO CON UN COMPONENTE LIQUIDO, POLIMERIZABLE POR RADICAL, CONTIENE ADEMAS LOS SIGUIENTES COMPONENTES COMO MINIMO: (A) DE UN 40 A UN 80 % EN PESO DE UNA RESINA EPOXIDO LIQUIDA DIFUNCIONAL O DE ELEVADA FUNCIONALIDAD O UNA MEZCLA LIQUIDA COMPUESTA DE RESINAS EPOXIDO LIQUIDAS DIFUNCIONALES O DE ELEVADA FUNCIONALIDAD; (B) DE UN 0,1 A UN 10 % EN PESO DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO O UNA MEZCLA DE FOTOINICIADORES CATIONICOS; Y (C) DE UN 0,1 A UN 10 % EN PESO DE UN FOTOINICIADOR RADICAL O UNA MEZCLA DE FOTOINICIADORES RADICALES; Y (D) HASTA UN 40 % EN PESO DE UNA COMPOSICION DE HIDROXILO, CARACTERIZADA PORQUE EL COMPONENTE (D)…
COMPOSICION LIQUIDA ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA.
Sección de la CIP Física
(16/04/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: G03F7/032, G03C9/08, G03F7/075.
SE DESCRIBEN COMPOSICIONES LIQUIDAS ENDURECIBLE CON RADIACION, EN PARTICULAR PARA ESTEREOLITOGRAFIA, SOBRE LA BASE AL MENOS DE UN COMPUESTO, QUE MUESTRA GRUPOS POLIMERIZABLES RADICALMENTE, Y AL MENOS UN FOTOINICIADOR APROPIADO PARA ESTA POLIMERIZACION, QUE ESTA CARACTERIZADO PORQUE CONTIENEN ADICIONALMENTE UN COPOLIMERO DE BLOQUE POLIOXIALQUILENO LAS FORMULAS QUIMICAS: DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO C1 FENIL; [T] ES UN GRUPO [PS] POLISILOXANO DETERMINADO, ESPECIFICADOR EN EL TEXTO SEGUN FORMA DESCRITA; [PS] REPRESENTA GRUPOS DE LA FORMULA Y [ALQ] REPRESENTA UN GRUPO ALQUILENO CON 3 HASTA 10 ATOMOS DE CARBONO, ASI COMO NUEVO COPOLIMERO DE BLOQUE DE LAS FORMULAS (I) Y (II). LAS COMPOSICIONES ENDURECIDAS MUESTRAN POR EJEMPLO UNA ALTA TENACIDAD DE IMPACTO.
NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(01/06/1998). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/10, G03F7/038, C07D303/12, C08G59/17.
NUEVOS COMPUESTOS EPOXIDOS CICLOALIFATICOS QUE CONTIENEN EN LA MOLECULA POR LO MENOS UN GRUPO ACRILATO Y POR LO MENOS UN GRUPO EPOXIDO CICLOALIFATICO, PUEDEN EMPLEARSE PARA PRODUCIR MEDIOS DE RECUBRIMIENTO, ADHESIVOS, FOTORESISTENTE O EN LA ESTEROLITOGRAFIA QUE CONTIENEN UNA ESTRUCTURA HOMOGENEA FUNDAMENTAL PRESENTANDO EL MOLDE UNA BUENA RESISTENCIA FUNDAMENTAL Y BUENAS PROPIEDADES DE RESISTENCIA.
COMPOSICION FOTOSENSIBLE.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Física
(16/06/1997). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/00, C08L75/00, C08F283/10, C08L67/00, C08L71/02, C08G59/68, G03C9/08.
LA INVENCION SE REFIERE A UNA COMPOSICION FOTOSENSIBLE CONTENIENDO A) 40 A 80% EN PESO POR LOS MENOS DE UNA RESINA EPOXI FLUIDA CON UNA FUNCIONALIDAD EPOXIDO MAYOR O IGUAL A 2: B) 0,1 A 10% EN PESO POR LO MENOS DE UN FOTOINICIADOR CATIONICO PARA EL COMPONENTE A); C) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN DIACRILATO CICLOALIFATICO O AROMATICO; D) 0 A 15% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIMETACRILATO FLUIDO CON UNA FUNCIONALIDAD METACRILATO MAYOR QUE 2, POR LO QUE EL CONTENIDO EN METACRILATO ASCIENDE A LO SUMO AL 50% EN PESO; E) 0,1 A 10% EN PESO POR LOS MENOS DE UN FOTOINICADOR RADICAL PARA EL COMPONENTE C Y EN CASO DADO D Y F) 5 A 40% EN PESO POR LO MENOS DE UN POLIETER, POLIESTER O POLIURETANO TERMINADO EN OH QUE SON APROPIADOS PARA LA PRODUCCION DE CAPAS FOTOPOLIMERIZADAS, PARTICULARMENTE OBJETOS TRIDIMENSIONALES.
MEZCLAS POLIMERIZABLES QUE CONTIENEN TETRAACRILATO.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(01/06/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: G03F7/027, C08F20/36, G03C9/08.
MEZCLAS POLIMERIZABLES, QUE CONTIENEN (A) UN TETRAACRILATO DE LA FORMULA I O II, EN DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O METILO, X1 Y X2, INDEPENDIENTES ENTRE SI, REPRESENTAN -OALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIGLICIDILO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ETER GLICIDILO O GRUPO ESTER GLICIDILO, A REPRESENTA UN RESTO BIVALENTE ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO DE UNA COMBINACION DIISOCIANATO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO ISOCIANATO, N REPRESENTA UN NUMERO ENTERO DESDE 1 HASTA 8 Y R3 SIGNIFICA UN RESTO TETRAVALENTE CICLOALIFATICO DE UNA COMBINACION DIEPOXIDO QUE YA NO PRESENTA NINGUN GRUPO 1,2-EPOXIDO COMBINADO EN EL ANILLO CICLOALIFATICO, (B) POR LO MENOS UNA COMBINACION LIQUIDA POLIMERIZABLE RADICALMENTE DE MODO DIFERENTE DE LOS COMPONENTES (A) Y (C) UN FOTOINICIADOR RADICAL; ESTAS MEZCLAS SON APROPIADAS CON PREFERENCIA PARA LA FABRICACION DE OBJETOS TRIDIMENSIONALES POR MEDIO DEL PROCESO ESTEREOLITOGRAFICO.
COMPUESTOS FOTOSENSIBLES.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(16/03/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: G03F7/032, C08G63/58, C08G63/52, G03C9/08.
COMPUESTOS FOTOSENSIBLES QUE CONTIENEN A) 5-95% EN PESO DE UN POLIESTER DE LAS FORMULAS I, II O III EN DONDE R1 EQUIVALE A UN RESTO DE ANHIDRIDO CICLICO DE UN ACIDO DICARBOXILICO DESPUES DE ELIMINAR EL GRUPO TUIDO POR C1 ALQUENILO, C6 PUEDE ESTAR INTERRUMPIDO POR O, C1 C5 O UN RESTO QUIVALE A C1 LOS ATOMOS DE CARBONO, A LOS QUE VAN UNIDOS, EQUIVALEN A UN RESTO DE CICLOPENTILENO O CICLOHEXILENO, R4 UN RESTO CON 4 A 12 ATOMOS DE CARBONO QUE CONTIENE UN GRUPO FINAL NO SATURADO Y GRUPOS CARBOXILO O ETER, A REPRESENTA UN CARBOXILATO O ALCOHOLATO MONO O MULTIFUNCIONAL DE BAJO O ALTO PESO MOLECULAR, X UN NUMERO ENTRE 0 Y 100, N UN NUMERO ENTRE 2 Y 150 Y Z UN NUMERO ENTRE 1 Y 4. B) 10-90% EN PESO DE UN (MET)ACRILATO LIQUIDO, POLIFUNCIONAL ALIFATICO, CICLOALIFATICO O AROMATICO, C) 0-70% EN PESO DE UN MONO MOLECULAR DE 500 COMO MAXIMO, D) 0,1-10% EN PESO DE UN FOTOINICIADOR Y, DADO EL CASO, E) 0-10% EN PESO DE ADITIVOS CORRIENTES.
