7 inventos, patentes y modelos de OHKAWA, TAKEHIKO
DERIVADOS DE BENZAMIDA COMO ANTAGONISTA DE VASOPRESINA.
(01/04/2004) Un compuesto de la siguiente fórmula (I): en la que: A es un miembro seleccionado del grupo formado por bencimidazolilo, benzoxazolilo e indazolilo, estando sustituido opcionalmente cada miembro con uno o más sustituyentes seleccionados del grupo formado por alquilo C1-C6 sustituido opcionalmente con hidroxi, amino, amino sustituido con alquilo, alcoxi C1-C6, (alquil C1- C6)sulfonilamino o un grupo heterocíclico nitrogenado seleccionado del grupo formado por morfolinilo, imidazolilo y piperidilo; alcoxi C1-C6; haloalquilo; amino sustituido opcionalmente con alquilo C1- C6, alcanoílo C1-C6 o (alquil C1- C6)sulfonilo; carbamoílo…
DERIVADOS HETEROCICLICOS DE CARBOXAMIDA COMO INHIBIDORES DE LA PRODUCCION DE OXIDO NITRICO.
(16/12/2003) Un compuesto de la fórmula (I) **(Fórmula)** en la que R1 es (a) indolilo, (b) benzotienilo que tiene un sustituyente o sustituyentes adecuados seleccionados del grupo constituido por nitro y halógeno, (c) benzotiazolilo que tiene halógeno, (d) furopiridilo que puede tener nitro o (e) benzofuranilo que puede tener un sustituyente o sustituyentes adecuados seleccionados del grupo constituido por halógeno, alquilo (C1-C6), alcoxi (C1-C6), nitro, ciano, acilo y trihalo-alquilo (C1-C6), R2 es alquilo (C1-C6), R3 es hidrógeno o alquilo (C1-C6), y R4 es tienilo o un grupo de la fórmula: en la que R5 es hidrógeno o halógeno, y R6 es (a) imidazolilo que puede tener alquilo (C1-C6), (b) bencimidazolilo,…
DERIVADOS DE BENZAMIDA Y SU USO COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida
(01/05/2003). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D241/44, A61K31/495, A61K31/40, A61K31/47, A61K31/55, C07D209/08, C07D471/04, C07D223/16, C07D401/00, C07D403/00, C07D215/08, C07D223/20, C07D243/04, C07D243/12.
UN COMPUESTO DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, R2 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, HALO(INFERIOR) ALQUILO, HALOGENO O ALCOXILO INFERIOR, R3 Y R4 SON CADA UNO HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, O TOMADOS JUNTOS PARA FORMAR OXO, R5 ES HIDROGENO, HALOGENO, NITRO, HIDROXILO, HIDROXILO PROTEGIDO, ALQUILO INFERIOR O ALCOXILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALQUILO AMINO INFERIOR, R6 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR O ACILO, A ES EN LA CUAL LOS SUSTITUYENTES R7 Y R13 Y EL SIMBOLO Y TIENEN CIERTOS SIGNIFICADOS. Y SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE ELLOS, Y PROCESOS PARA PREPARARLOS, Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACTIVO.
DERIVADOS DE BENZAMIDA Y SU USO COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida
(16/10/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D211/46, A61K31/165, A61K31/33, C07C271/16, C07D209/48, C07D295/18, C07D211/58, C07D213/80, C07C237/42, C07D295/20, C07C237/44.
ESTA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE BENZAMIDA QUE POSEEN ACTIVIDAD ANTAGONISTA DE VASOPRESINA, ETC. Y QUE ESTAN REPRESENTADOS POR LA FORMULA GENERAL (I) EN LA QUE R SUP,1} ES ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALCOXI INFERIOR, ETC., R SUP,2} ES ALQUILO INFERIOR, ETC., R SUP,3} ES HIDROGENO, ETC., R SUP,4} ES ALCOXI INFERIOR, ETC., R SUP,5} ES HIDROGENO, ETC., A ES NH, ETC., E ES (A), ETC., X ES S Y Y ES CH O N, Y SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE LOS MISMOS, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN.
DERIVADOS DE BENZAMIDA COMO ANTAGONISTAS DE VASOPRESINA.
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/04/1999). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/44, A61K31/165, C07D213/82, C07D213/81, C07C237/42.
ESTA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE BENZAMIDA CON ACTIVIDAD ANTAGONISTA DE VASOPRESINA, ETC., Y REPRESENTADOS POR LA FORMULA GENERAL (I), DONDE R{SUP,1} ES ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO INFERIOR, ETC., R{SUP,2} ES ALQUILO INFERIOR, ETC., R{SUP,3} ES HIDROGENO, ETC., R{SUP,4} ES ARILO, ETC., X ES CH O N, E Y ES CH O N, Y A SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE LOS MISMOS; TAMBIEN SE REFIERE A PROCESOS PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS, Y A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE LOS CONTIENE.
DERIVADO DE OXAESPIRO[2,5]OCTANO.
(01/04/1995) UN DERIVADO DE OXAESPIRO[2,5]OCTANO DE FORMULA (I), DONDE R1 ES CARBAMOILO, ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, HIDROXIALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALCOXIALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALQUILTIOINFERIOR ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALCOXICARBONILO INFERIOR ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALQUILCARBAMOILOXI INFERIOR ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, DIALQUILCARBAMOILO INFERIOR, N-(HIDROXIALQUIL INFERIOR) ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, N-(HIDROXIALQUILO INFERIOR) ALQUILCABAMOILOXI INFERIOR ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALQUILCARBAMOILOXI INFERIOR ALQUENOILO INFERIOR, N-(HETEROCICLIL CARBONILOXI ALQUIL INFERIOR) ALQUIL CARBAMOILO INFERIOR, CICLOALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ARILCARBAMOILO, HALOARILCARBAMOILO, CARBAMOILO PROTEGIDO, ALQUILTIOCARBAMOILO…
Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia
(16/12/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/335, C07D303/16.
UN DERIVADO DE CICLOHEXANO DE FORMULA (I), DONDE R1 ES HALOMETILO, O ARILTIOMETILO QUE PUEDE TENER AMINO, ALCOXI INFERIOR O ACILAMINO; R2 ES ALCOXI INFERIOR; R3 ES COMPUESTO DE FORMULA: (FIG. A) O (FIG. B); Y R4 ES H, ALQUILCARBAMOILO INFERIOR, ALQUILCARBAMOILOXI INFERIOR ALQUILCARBAMOILO, CARBONILO HETEROCICLICO O CARBAMOILO HETEROCICLICO O SUS SALES. TAMBIEN SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA OBTENER EL DERIVADO DE CICLOHEXANO, JUNTO CON UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE TIENE EL MISMO COMO INGREDIENTE ACTIVO. LOS COMPUESTOS TIENEN ACTIVIDAD INHIBIDORA DE ANGIOGENESIS Y ADEMAS SON UTILES EN EL TRATAMIENTO DE, POR EJEMPLO, TUMORES, ARTRITIS REUMATICA, RETINOPATIA DIABETICA Y SORIASIS.
