11 inventos, patentes y modelos de MATSUDA, HIROSHI

Compuestos de ácidos policíclicos útiles como antagonistas de CRTH2 y como agentes antialérgicos.

(11/04/2012) Un compuesto que se representa mediante la siguiente formula (I): **Fórmula** en la que es el grupo (i), en el que X1 es -CH≥, -CH2- o -N≥; es un enlace sencillo o un doble enlace; Y1 es alquileno C1-C6, en el que una unidad de metileno se puede sustituir por -O- o -S-, o alquenileno C2-C6, en el que una unidad de metileno se puede sustituir por -O- o -S-; Y2 es alquileno C1-C6, en el que una unidad de metileno se puede sustituir por -O-, o alquenileno C2-C6, enel que una unidad de metileno se puede sustituir por -O-; E1 es fenilo, que se puede sustituir por uno o mas sustituyentes seleccionados del grupo que consiste enR1; E2 es fenilo, que se puede sustituir por uno o mas sustituyentes seleccionados del grupo que consiste enR2; E3 es un anillo seleccionado del grupo que consiste en (a) y (d),

DERIVADOS HEXAPEPTIDICOS CICLICOS.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(16/07/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K38/15, C07K7/56.

Un compuesto polipeptídico de la siguiente fórmula general (I): **(Fórmula)** en la que R1 es hidrógeno o un grupo acilo, R2 es hidrógeno o un grupo acilo, R3 es alquilo (C1-C6) que presenta uno o más hidroxi o hidroxi protegido, R4 es hidrógeno o hidroxi, R5 es hidroxi, alcoxi (C1-C6) o hidroxisulfoniloxi R6 es hidroxi o aciloxi, o una sal suya.

DERIVADOS DE PIPERAZINA COMO ANTAGONISTAS DE TAQUIQUININA.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/11/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D405/14, C07D403/12, C07D417/14, C07D403/14, C07D403/06, C07D403/04, C07D241/04.

LA INVENCION SE REFIERE A DERIVADOS DE PIPERAZINA DE FORMULA (I), DONDE CADA SIMBOLO ES TAL Y COMO SE DEFINE EN LA DESCRIPCION, ASI COMO A SUS SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES, A PROCEDIMIENTOS DE PREPARACION DE LOS MISMOS Y A SU UTILIZACION PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES MEDIADAS POR TAQUIQUININA EN SERES HUMANOS O ANIMALES.

DERIVADOS DE TIAZOLILBENZOFURANO Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida

(16/09/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14, A61K31/42, C07D417/04.

ESTA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE TIAZOLILBENZOFURANOS DE FORMULA (I) EN LA QUE R 1 ES ALQUILO INFER IOR, L ES UN ENLACE SENCILLO O ALQUILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ARILO, OXO O HIDROXI, Y Q ES UN GRUPO HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON UNO O MAS SUSTITUYENTES ADECUADOS; O ALCOXI INFERIOR SUSTITUIDO CON ARILO QUE ES SUSTITUIDO CON UNO O MAS SUSTITUYENTES ADECUADOS Y AL MENOS UNO DE ELLOS ES ALCOXI INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON CIANO, CARBOXI PROTEGIDO, CARBOXI, ALQUILENO INFERIOR, UN GRUPO HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON OXO, O AMIDINO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON HIDROXI O ALCOXI INFERIOR, O SU SAL, QUE POSEEN ACTIVIDADES COMO ANTAGONISTAS O INHIBIDORES DEL LEUCOTRINEO Y DEL SRS - A.

DERIVADOS DE PIPERAZINA COMO ANTAGONISTAS DE TAQUIQUININA.

(01/07/2001) UN COMPUESTO DE LA FORMULA GENERAL: EN LA QUE X ES CARBONILO O SULFONILO; Y ES ENLACE O ALQUILENO INFERIOR; R1 ES HALOGENO, ALQUILO INFERIOR, HALOALQUILO INFERIOR, ARILOXIDO, NITRO O AMINO QUE PUEDEN TENER 1 O 2 SUSTITUYENTES IGUALES O DIFERENTES SELECCIONADOS A PARTIR DE ALQUILO INFERIOR, ACILO Y ALCANOSULFONILO INFERIOR; R2 ES ARILO O UN GRUPO HETERO(MONO CICLICO AROMATICO Y CADA UNO DE LOS CUALES PUEDE TENER 1, 2 O 3 SUSTITUYENTES ADECUADOS; R3 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR; R4 ES (I) UN GRUPO DE LA FORMULA -SOO2-R6 EN LA QUE R6 ES ALQUILO INFERIOR O ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALQUILO INFERIOR O ALCOXIDO INFERIOR, (II) UN GRUPO DE LA FORMULA EN LA QUE R6 ES ARILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO CON ALQUILO INFERIOR O ALCOXIDO INFERIOR,…

ADHESIVO SENSIBLE A LA PRESION Y RESISTENTE A PLASTIFICANTE PARA UNA PELICULA DE MARCAJE DE VINILO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/04/1997). Solicitante/s: MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY. Clasificación: C09J7/02, C08F220/18, C09J133/08.

UNA PELICULA DECORATIVA CUYA SUPERFICIE NO SE DETERIORA DEBIDO A LA GENERACION DE ARRUGAS INCLUSO CUANDO ESTA SIENDO APLICADA A UN ADHERENTE QUE TIENE FACULTAD DE MIGRACION PLASTIFICADORA, TAL COMO CLORURO DE POLIVINILO, Y UN ADHESIVO DE EL QUE COMPRENDE: 100 PARTES DE PESO DE UN COPOLIMERO QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO DE 700.000-1.200.000 OBTENIDO POR COPOLIMERIZACION DE 64-75% DE PESO DE UN (META)ACRILATO QUE TIENE UN GRUPO ALQUILO C4-C8, 20-26% DE PESO DE METIL METACRILATO Y 5-10 % DE PESO DE ACIDO ACRILICO, Y 0,005 A 0,1 PARTES DE PESO DE UN AGENTE DE CURACION.

DISPOSITIVO DE CRISTAL LIQUIDO.

Secciones de la CIP Física Electricidad

(01/10/1996). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Clasificación: G02F1/1337, G02F1/136, H01L49/02.

UN DISPOSITIVO DE CRISTAL LIQUIDO, QUE COMPRENDE UN PAR DE SUBSTRATOS, CADA UNO TENIENDO UN ELECTRODO, Y UNA CAPA DE CRISTAL LIQUIDO, TENIENDO UNA FASE ESMECTICA QUIRAL, SITUADA ENTRE LOS SUBSTRATOS, DONDE UN PRIMER SUBSTRATO, QUE ES UNO DE LOS SUBSTRATOS MENCIONADOS, COMPRENDE: I) UN PRIMER CONJUNTO DE ELECTRODOS DISPUESTOS DIVIDIDAMENTE, ESTANDO ESTE PRIMER CONJUNTO DE ELECTRODOS CUBIERTO CON UNA CAPA MONOMOLECULAR, O UNA CAPA CON FUNDAMENTO MONOMOLECULAR, DE FORMA QUE LA CAPA MONOMOLECULAR, O CAPA CON FUNDAMENTO MONOMOLECULAR, SITUADA EN LOS PRIMEROS ELECTRODOS Y ENTRE LOS PRIMEROS ELECTRODOS, ESTA FORMADA CON UNA PELICULA CONTINUA; Y II) UN SEGUNDO ELECTRODO SITUADO EN LA CAPA MONOMOLECULAR, O CON FUNDAMENTO MONOMOLECULAR, DE FORMA QUE UN DISPOSITIVO MIM SE FORMA EN UNA PARTE EN QUE LOS PRIMEROS ELECTRODOS, LA PELICULA MONOMOLECULAR, O PELICULA CON BASE MONOMOLECULAR, Y EL SEGUNDO ELECTRODO, SE SUPERPONEN EN CAPAS.

DISPOSITIVO DE GRABACION Y DISPOSITIVO DE REPRODUCCION.

Sección de la CIP Física

(01/03/1994). Solicitante/s: CANON KABUSHIKI KAISHA. Clasificación: G11B9/00, G11B9/08, G11C11/21.

DISPOSITIVO DE GRABACION QUE CONSTA DE UN ELECTRODO SONDA, UN MEDIO DE GRABACION CON EFECTO ELECTRICO DE MEMORIA Y UN ELEMENTO DE APLICACION DE UN VOLTAJE DE GRABACION AL MEDIO DE GRABACION DESDE DICHO ELECTRODO. EL DISPOSITIVO DE REPRODUCCION CONSTA DE UN ELECTRODO SONDA, UN MEDIO DE GRABACION CON EFECTO ELECTRICO DE MEMORIA O UN MEDIO DE GRABACION MEDIANTE IRRADIACION DE ENERGIA, UN ELEMENTO DE APLICACION DE VOLTAJE SIN QUE EXCEDA DE UN VALOR UMBRAL QUE HACE APARECER EL EFECTO DE MEMORIA EN EL MEDIO DE GRABACION DESDE DICHO ELECTRODO Y UN ELEMENTO DE LECTURA DEL CAMBIO EN LA CANTIDAD DE CORRIENTE QUE PASA POR EL MEDIO DE GRABACION.

COMPUESTOS DE TIAZOL NUEVOS, PROCEDIMIENTOS PARA LA PREPARACION DE ESTOS Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE COMPRENDEN LOS MISMOS.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(16/01/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/445, C07D417/06.

UN COMPUESTO DE TIAZOL DE FORMULA(I), EN DONDE R1 ES AMINO O ACILAMINO, R2 ES ALFA - (INFERIOR)ALCOXI, Y A ES ALQUILENO INFERIOR Y SUS SALES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE, PROCESOS PARA LA PREPARACION DE ESTOS Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE COMPRENDEN LAS MISMAS.

METODO PARA LA PREPARACION DE UN NUEVO COMPUESTO DE TIAZOL Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LO COMPRENDEN.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(16/10/1993). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/445, A61K31/40, C07D417/14, C07D401/04, A61K31/425.

CONSISTE EN UN COMPUESTO DE TIAZOL DE FORMULA (I) DONDE R1 ES UN AMINO QUE OPCIONALMENTE TIENE SUSTITUYENTES APROPIADOS, R2 ES H, ALQUIL INFERIOR O ARIL, R3 ES H, NITRO, AMINO QUE OPCIONALMENTE TIENE SUSTITUYENTES APROPIADOS, HIDROXIDO O BAJO ALCOXIDO, A ES ALQUILENO INFERIOR, Q ES H O HALOGENO, Y LA LINEA GRUESA SIGNIFICA UN ENLACE SIMPLE O DOBLE, COMPRENDIENDO ADEMAS UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE, EL PROCESO PARA LA PREPARACION Y UNA COMPOSICION FARMACEUTICA DEL MISMO.

NUEVOS COMPUESTOS DE INDOLPIPERIDINA, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN.

Secciones de la CIP Necesidades corrientes de la vida Química y metalurgia

(01/02/1993). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/445, C07D401/04.

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A NUEVOS COMPUESTOS DE INDOLPIPERIDINA REPRESENTADOS POR LA FORMULA(I), EN LA QUE R1 ES ARILO SUSTITUIDO CON SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO FORMADO POR OH, OH PROTEGIDO, HALOGENO O ALCOXI DE CADENA CORTA; A ES ALQUILENO DE CADENA CORTA Y B ES ALQUILENO DE CADENA CORTA, A PROCESOS PARA SU PREPARACION Y A COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS CONTIENEN.

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